公开(公告)号：CN101891612A

公开(公告)日：2010-11-24

申请号：CN201010127644.9

申请日：2010-03-09

Applicant: 住友化学株式会社

Inventor： 秋田诚 ,  吉田勋 ,  桥本和彦

IPC: C07C69/54 ,  C07C69/767 ,  C07C69/78 ,  C07C69/653 ,  C07C67/14 ,  C08F220/30 ,  G03F7/039

CPC classification number: C07C69/00 ,  C07C69/78 ,  C07C2603/24 ,  C08F12/24 ,  C08F212/14 ,  C08F220/30 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/0397 ,  C08F220/18 ,  C08F2220/185 ,  C08F2220/303

Abstract: 本发明公开化合物和化学放大型正性抗蚀剂组合物。本发明提供由式(I)表示的化合物；包含衍生自由式(I)表示的化合物的结构单元的聚合物；和，包含所述聚合物、至少一种酸生成剂和至少一种溶剂的化学放大型正性抗蚀剂组合物，在式(I)中，R1表示氢原子等，R2和R3各自独立地表示氢原子等，R4表示C1-C8二价烃基，R5表示单键等，并且R6表示未取代或取代的C6-C20芳族烃基。

公开(公告)号：CN101644895A

公开(公告)日：2010-02-10

申请号：CN200910160590.3

申请日：2009-08-04

Applicant: 住友化学株式会社

Inventor： 嶋田雅彦 ,  桥本和彦 ,  山口训史 ,  金淳信 ,  高田佳幸 ,  平冈崇志

IPC: G03F7/039

CPC classification number: G03F7/0397 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/0046 ,  Y10S430/108 ,  Y10S430/111

Abstract: 本发明提供了一种化学增幅正性抗蚀剂组合物，其包含：包含由结构式(I)表示的结构单元的树脂，其中，R1代表氢原子、卤素原子、C1-C4烷基或C1-C4全氟化烷基；Z代表单键或-(CH2)k-CO-X4-，k代表1至4的整数；X1、X2、X3和X4各自独立地代表氧原子或硫原子；m代表1至3的整数；而n代表0至3的整数；以及产酸剂。

公开(公告)号：CN101644894A

公开(公告)日：2010-02-10

申请号：CN200910160391.2

申请日：2009-08-05

Applicant: 住友化学株式会社

Inventor： 嶋田雅彦 ,  桥本和彦 ,  重松淳二 ,  宫川贵行 ,  山本敏

IPC: G03F7/039

CPC classification number: G03F7/0397 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/0395 ,  Y10S430/108 ,  Y10S430/111

Abstract: 本发明提供了一种化学增幅正性抗蚀剂组合物，其包含：树脂(A)，其包含具有酸不稳定性基团的结构单元，并且本身不溶于或微溶于碱性水溶液，但是在酸的作用下变得可溶于碱性水溶液；树脂(B)，其包含由结构式(I)表示的结构单元和在侧链中具有氟原子的结构单元，其中，R1代表氢原子、卤素原子、C1-C4烷基或C1-C4全氟化烷基；Z代表单键或-(CH2)k-CO-X4-，k代表1至4的整数；X1、X2、X3和X4各自独立地代表氧原子或硫原子；m代表1至3的整数；而n代表0至3的整数；以及产酸剂。

公开(公告)号：CN102053495A

公开(公告)日：2011-05-11

申请号：CN201010541116.8

申请日：2010-11-05

Applicant: 住友化学株式会社

Inventor： 市川幸司 ,  桥本和彦 ,  夏政焕

IPC: G03F7/004 ,  G03F7/00

CPC classification number: G03F7/0045 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/0397 ,  G03F7/2041

Abstract: 本发明提供一种光致抗蚀剂组合物，所述光致抗蚀剂组合物包含：树脂，该树脂包含衍生自由式(I)表示的化合物的结构单元，其中R1表示C1-C6含氟烷基，R2表示氢原子或甲基，并且A表示C1-C10二价饱和烃基，并且该树脂不溶或难溶于碱性水溶液，但是通过酸的作用变得可溶于碱性水溶液；以及由式(II)表示的酸生成剂，其中Q1和Q2各自独立地表示氟原子或C1-C6全氟烷基，X1表示单键或C1-C17二价饱和烃基，在所述C1-C17二价饱和烃基中，一个或多个-CH2-可以被-O-或-CO-代替，Y1表示可以具有一个或多个取代基的C1-C36脂族烃基，等，并且Z+表示有机抗衡阳离子。

公开(公告)号：CN1645254B

公开(公告)日：2010-05-12

申请号：CN200510004738.6

申请日：2005-01-18

Applicant: 住友化学株式会社

Inventor： 武元一树 ,  桥本和彦 ,  山口训史

IPC: G03F7/039 ,  H01L21/027

CPC classification number: G03F7/0397 ,  G03F7/0045 ,  Y10S430/115 ,  Y10S430/122

Abstract: 本发明提供了一种化学放大型正光刻胶组合物，其包含：(A)一种树脂和(B)一种酸生成剂，所述的树脂包含(i)5至50摩尔％的式(I)的结构单元、(ii)5至50摩尔％的式(II)的结构单元，和(iii)5至50摩尔％的至少一种选自由式(III)和(IV)组成的组的结构单元。本发明组合物适用于使用ArF、KrF等的受激准分子激光平版印刷，并显示了各种显著的光刻胶性能，特别地，赋予因此得到的光刻胶图案更好的有效敏感度和清晰度，且尤其是，赋予优异的图案形状和优异的线边缘粗糙度。

公开(公告)号：CN101638374A

公开(公告)日：2010-02-03

申请号：CN200910165057.6

申请日：2009-07-24

Applicant: 住友化学株式会社

Inventor： 增山达郎 ,  桥本和彦 ,  平冈崇志 ,  武元一树

IPC: C07C309/70 ,  C07D309/12 ,  C07C303/28 ,  C08F222/24 ,  C08F220/18 ,  C08F122/24 ,  G03F7/004

Abstract: 一种由结构式(I)表示的肟类化合物，其中，Y代表未被取代的或被取代的n价C6-C14芳烃基，n代表1至6的整数，R1代表C1-C30脂肪烃基等，R2代表直链或支链C1-C20脂肪烃基等，W代表-CO-O-等，Q1和Q2各自独立地代表氟原子等，Z代表C1-C20卤代脂肪烃基等。本文还公开了包含该化合物的抗蚀剂组合物。

公开(公告)号：CN101192006B

公开(公告)日：2012-09-05

申请号：CN200710194002.9

申请日：2007-11-26

Applicant: 住友化学株式会社

Inventor： 末次益实 ,  秋田诚 ,  桥本和彦

IPC: G03F7/039

CPC classification number: G03F7/0045 ,  G03F7/0392 ,  Y10S430/106

Abstract: 本发明提供一种化学放大型正性抗蚀剂组合物，其包含：(A)树脂和(B)酸生成剂，所述的树脂可以通过酚醛清漆树脂、聚(羟基苯乙烯)和具有至少两个乙烯基醚结构的化合物反应得到。

公开(公告)号：CN102043331A

公开(公告)日：2011-05-04

申请号：CN201010517468.X

申请日：2010-10-19

Applicant: 住友化学株式会社

Inventor： 畑光宏 ,  桥本和彦

IPC: G03F7/00 ,  G03F7/039 ,  G03F7/004

CPC classification number: G03F7/0035 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/0397 ,  G03F7/40

Abstract: 本发明提供用于制备光致抗蚀剂图案的方法，所述方法包括步骤(1)至(11)：(1)在基底上涂覆第一光致抗蚀剂组合物，接着进行干燥，由此形成第一光致抗蚀剂膜，(2)预焙烘第一光致抗蚀剂膜，(3)将预烘焙的第一光致抗蚀剂膜曝光于辐射，(4)烘焙曝光的第一光致抗蚀剂膜，(5)用第一碱性显影液将烘焙的第一光致抗蚀剂膜显影，由此形成第一光致抗蚀剂图案，(6)在第一光致抗蚀剂图案上形成涂层，(7)在涂层上涂覆第二光致抗蚀剂组合物，接着进行干燥，由此形成第二光致抗蚀剂膜，(8)预焙烘第二光致抗蚀剂膜，(9)将预烘焙的第二光致抗蚀剂膜曝光于辐射，(10)烘焙曝光的第二光致抗蚀剂膜，和(11)用第二碱性显影液将烘焙的第二光致抗蚀剂膜显影，由此形成第二光致抗蚀剂图案。

公开(公告)号：CN1696828B

公开(公告)日：2010-09-01

申请号：CN200510070438.8

申请日：2005-05-09

Applicant: 住友化学株式会社

Inventor： 武元一树 ,  桥本和彦 ,  宫川贵行

IPC: G03F7/004

CPC classification number: C08F220/26 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/0397 ,  Y10S430/106 ,  Y10S430/111

Abstract: 本发明提供一种化学放大正性抗蚀剂组合物，它包括(A)树脂和(B)酸生成剂，而所述(A)树脂包括如下结构单元：(i)选自由式(IV)和(V)结构单元组成的组中的至少一种结构单元，(ii)式(I)的结构单元，(iii)式(II)的结构单元。本发明也提供一种式(XXI)的卤代酯衍生物以及生产该衍生物的方法。

公开(公告)号：CN101712733A

公开(公告)日：2010-05-26

申请号：CN200910205122.3

申请日：2009-09-25

Applicant: 住友化学株式会社

Inventor： 安藤信雄 ,  桥本和彦

IPC: C08F12/24 ,  C08F8/14 ,  G03F7/004

CPC classification number: G03F7/0397 ,  C08F8/10 ,  C08K5/101 ,  C08K5/42 ,  C09D125/18 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/0046 ,  C08F12/24

Abstract: 一种聚合物，其包含由结构式(I)表示的结构单元，其中，R1代表氢原子或甲基；R2在各种情况下独立地是直链或支链C1-C6烷基；k代表0至4的整数；X代表直链或支链C1-C6亚烷基；Z代表可以具有一个以上取代基的2-金刚烷基；以及由结构式(II)表示的结构单元，其中，R4代表氢原子或甲基；R5在各种情况下独立地是直链或支链C1-C6烷基；并且n代表0至4的整数。