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公开(公告)号：CN112731770B
公开(公告)日：2024-11-15
申请号：CN202011588035.3
申请日：2016-10-18
Applicant: 西默有限公司 , ASML荷兰有限公司
Abstract: 公开了根据激光器以其被操作的重复率对激光器性能的在线校准。校准可以是周期性的，并且可以在非曝光时段期间的计划期间进行。可以使用各种标准来自动选择产生可靠的符合规范的性能的重复率。然后使重复率的可靠值可用于扫描仪以作为所允许的值，并且然后允许激光器/扫描仪系统使用那些允许的重复率。
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公开(公告)号：CN118946856A
公开(公告)日：2024-11-12
申请号：CN202380030987.9
申请日：2023-03-06
Applicant: ASML荷兰有限公司
Inventor： M·P·J·M·迪克斯 , P·J·M·格林 , G·J·J·洛夫 , K·J·G·欣恩
Abstract: 一种设备，所述设备包括多层结构，该多层结构被配置为反射电磁辐射。该设备包括传感器，该传感器被配置为检测电磁辐射在从多层结构反射之后的角分布。该设备包括处理器，该处理器被配置为至少部分地基于传感器所检测到的电磁辐射的角分布来生成第一函数。处理器被配置为将第一函数和与多个已知角反射率曲线相关联的多个已知函数进行比较，以从多个已知函数中识别与第一函数最相似的第二函数。处理器被配置为至少部分地基于与第二函数相关联的已知角反射率曲线来确定多层结构的角反射率曲线。
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公开(公告)号：CN113994553B
公开(公告)日：2024-11-12
申请号：CN202080042597.X
申请日：2020-06-03
Applicant: ASML荷兰有限公司
Inventor： A·阿布多尔万德
Abstract: 本发明公开一种宽带光源装置，被配置为用于产生宽带或白光输出。宽带光源装置包括气室和至少部分地包括在气室内的中空芯部光子晶体光纤。气体混合物被包括在气室和中空芯部光子晶体光纤内。气体混合物包括至少一种拉曼活性分子气体，其构成气体混合物的2％以上，使得宽带光源装置以平衡克尔‑拉曼非线性相互作用状态操作。
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公开(公告)号：CN113508340B
公开(公告)日：2024-11-12
申请号：CN202080018259.2
申请日：2020-02-06
Applicant: ASML荷兰有限公司
Inventor： 关天男 , A·A·梅尤恩迪杰克斯 , P·J·M·范吉尔斯 , M·A·C·费许伦
IPC: G03F7/20 , H01L21/683
Abstract: 本文披露了一种被布置成支撑物体的物体保持器，所述物体保持器至少包括芯层和电极层；其中，所述物体保持器具有被布置成由静电夹具夹持至用于所述物体保持器的台上的表面；其中，所述物体保持器包括多个突节布置，每个突节布置包括突节主体、沟槽、突节电极和绝缘部分。
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公开(公告)号：CN113341659B
公开(公告)日：2024-11-08
申请号：CN202110630682.4
申请日：2017-09-21
Applicant: ASML荷兰有限公司
Abstract: 本发明提供一种选择衬底上用于测量或特征的部位的最优集合的方法，该方法包括：(302)：限定约束条件，并且可选地限定成本函数。(306)：限定部位的第一候选方案。(308)：基于对所述第一候选方案的方案域中的坐标的修改，限定具有部位的第二候选方案。这可能涉及重复、突变和交叉。(310)：确定与所述衬底上所需的测量准确性或特征布局相关联的成本函数的值。(312)：根据与所述衬底相关联的约束并且可选地根据所述成本函数的值，选择所述第一候选方案和/或第二候选方案作为所述最优方案。(314)：如果满足所述约束并且所述成本函数的值已收敛，或者如果已达到一迭代次数，则迭代结束。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN118843835A
公开(公告)日：2024-10-25
申请号：CN202380026127.8
申请日：2023-02-22
Applicant: ASML荷兰有限公司
IPC: G03F7/20 , G01N21/25 , G01N21/95 , G01N21/956
Abstract: 披露一种针对由照射源产生的源光谱的效应校正测量的光谱的方法。所述方法包括：根据测量参数获得测量的光谱，在使用来自所述照射源的源辐射而照射周期性结构之后从来自所述周期性结构的被捕获的衍射辐射获得所述测量的光谱，所述周期性结构是光谱仪光栅和被测量的对象；根据所述测量的光谱确定所述源光谱的估计；以及使用所述源光谱的所述估计来校正所述测量的光谱。
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公开(公告)号：CN118829944A
公开(公告)日：2024-10-22
申请号：CN202380029077.9
申请日：2023-02-28
Applicant: ASML荷兰有限公司
Abstract: 公开了用于确定与光刻过程一起使用的掩模图案的方法、系统和计算机软件。一种方法包括：基于目标图案指派二维元件的部位；基于关联准则使所述二维元件相关联以形成表示掩模特征的簇；以及调整所述簇的所述二维元件以改变所述掩模特征。
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公开(公告)号：CN112204472B
公开(公告)日：2024-10-11
申请号：CN201980035923.1
申请日：2019-04-19
Applicant: ASML荷兰有限公司
Inventor： M·A·G·默凯科斯 , A·P·F·A·M·古森斯 , S·范德格拉费 , D·W·J·范德威尔
Abstract: 一种用于向EUV光刻设备提供氧气(O2)的气体流量控制系统，该气体流量控制系统包括：被配置为连接到第一气体源的第一入口，第一气体包括氧气(O2)；被配置为连接到第二气体源的第二入口，第二气体不包含任何(O2)气体；气体流量控制系统被配置为混合第一气体和第二气体以获得包括稀释的氧气(O2)的混合气体；气体流量控制系统还包括：被配置为将第一量的混合气体输出到EUV光刻设备的内部的第一出口；以及被配置为将第二量的混合气体输出到EUV光刻设备外部的收集容器的第二出口。
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公开(公告)号：CN118742852A
公开(公告)日：2024-10-01
申请号：CN202380020190.0
申请日：2023-01-26
Applicant: ASML荷兰有限公司
Inventor： T·W·J·范德古尔 , E·加卢茨克 , A·M·雅库尼恩 , P·詹森 , A·J·沃尔夫 , 保罗·亚历山大·维梅伦 , Z·S·豪厄林 , L·C·J·海伊曼斯 , A·尼基帕罗夫
Abstract: 描述一种用于光刻设备的组件，其中，所述组件被配置成通过i)提供经加热的气体、ii)辐射加热、iii)电阻加热和iv)感应加热中的一种或组合对表膜隔膜进行加热，和/或通过利用具有从约91nm至约590nm的波长的光对所述表膜隔膜进行照射，来加热表膜隔膜。也描述一种延长表膜隔膜的操作寿命的方法，所述方法包括通过借助于i)提供经加热的气体、ii)辐射加热、iii)电阻加热和iv)感应加热中的一种或组合，和/或通过利用具有从约91nm至约590nm的波长的光照射所述表膜隔膜，来对表膜隔膜的在由EUV照射时的至少一部分进行加热。
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公开(公告)号：CN118696277A
公开(公告)日：2024-09-24
申请号：CN202280091897.6
申请日：2022-12-14
Applicant: ASML荷兰有限公司
IPC: G03F9/00
Abstract: 该系统包括光学设备、反射设备、可移动反射设备和检测器。光学设备被设置在第一平面处并围绕系统的轴线，以及接收来自目标的散射辐射。反射设备至少被设置在第二平面处并围绕轴线。每个反射设备接收来自对应光学设备之一的散射辐射。可移动反射设备沿轴线设置并接收来自每个反射设备的散射辐射。检测器接收来自可移动反射设备的散射辐射。
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