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公开(公告)号：CN114730688A
公开(公告)日：2022-07-08
申请号：CN202080078827.8
申请日：2020-10-27
Applicant: 朗姆研究公司
Inventor： 斯蒂芬·托平 , 卡尔·弗雷德里克·利瑟 , 大卫·弗伦奇 , 吉恩·吉米·王 , 布兰特·亨利
IPC: H01J37/32
Abstract: 一种用于在处理室内处理衬底的衬底处理系统包括匹配网络、第一调谐电路和控制器。所述匹配网络从RF产生器接收具有第一频率的第一RF信号并且使所述匹配网络的输入与所述RF产生器的输出阻抗匹配。所述调谐电路不同于所述匹配网络且包含具有第一阻抗的电路部件。所述调谐电路接收所述匹配网络的输出并且将第二RF信号输出至衬底支撑件的第一电极。所述控制器确定用于所述电路部件的目标阻抗并且基于所述目标阻抗，对所述RF产生器发出信号，以将在所述匹配网络处接收到的所述第一RF信号的所述第一频率调整为第二频率，从而改变所述电路部件的所述第一阻抗以匹配所述目标阻抗。
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公开(公告)号：CN119173979A
公开(公告)日：2024-12-20
申请号：CN202380039327.7
申请日：2023-04-29
Applicant: 朗姆研究公司
IPC: H01J37/32
Abstract: 描述用于热保护电子电路的方法。在至少一实现方案中，电子电路至少包含第一部件和第二部件。在至少一实现方案中，方法包含测量第一部件的第一输入电压和第一输入电流。在至少一实现方案中，方法还包含计算第二部件的第二输入电压和第二输入电流。在至少一实现方案中，方法还包含计算第一部件的第一温度以及第二部件的第二温度，其中第一温度是第一输入电流的函数且第二温度是第二输入电流的函数。
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公开(公告)号：CN119487608A
公开(公告)日：2025-02-18
申请号：CN202380050871.1
申请日：2023-07-07
Applicant: 朗姆研究公司
Inventor： 大卫·弗伦奇 , 卡尔·弗雷德里克·利瑟
IPC: H01J37/32 , C23C16/50 , C23C16/455 , C23C16/52
Abstract: 一种系统包含室，其包含第一区域和第二区域。该室被配置成在该第二区域内产生和容纳等离子体。该系统包含位于该第一区域的传输线。该传输线包含多个区段，其中该多个区段中的单个区段包含一或多个L‑C滤波器，该些L‑C滤波器具有各自的截止频率。该传输线包含传输线输入。信号源被电耦合至该传输线输入以馈送输入信号至该传输线输入。该一或多个L‑C滤波器传递该输入信号的低频分量，但将该输入信号的高频分量局部化至该传输线的选择区段。
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公开(公告)号：CN113795905B
公开(公告)日：2024-08-27
申请号：CN202080034474.1
申请日：2020-05-05
Applicant: 朗姆研究公司
Inventor： 米格尔·本杰明·瓦斯克斯 , 大卫·弗伦奇
IPC: H01J37/32 , C23C16/509
Abstract: 一种用于衬底处理室的滤波模块包含：限定内部的多个外面板；多个内面板，其在所述滤波模块的所述内部中限定多个隔室；以及可调电容器，其被设置于所述多个隔室中的第一隔室内的所述多个内面板中的第一面板上。所述可调电容器经由所述第一面板而耦合至位于所述第一隔室外的马达，且所述可调电容器被配置成接收射频输入信号并且基于所述马达的位置而提供射频电压至所述衬底处理室。
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公开(公告)号：CN111052299B
公开(公告)日：2023-10-20
申请号：CN201880057283.X
申请日：2018-08-31
Applicant: 朗姆研究公司
IPC: H01J37/32
Abstract: 将射频源与等离子体处理系统的衬底支撑件连接的热阻流杆包含具有第一接头与第二接头的管状构件，第一接头用于连接至与衬底支撑件耦合的RF杆，第二接头用于连接至与RF源耦合的RF带。管状区段在第一与第二接头之间延伸。第一接头具有锥形末端区域以及切口，该锥形末端区域在朝向管状区段的方向上从第一接头的内表面倾斜至外表面，所述切口从第一接头的终端延伸指定距离。管状区段的外表面具有螺纹区域，该螺纹区域用于与环状盖部进行螺纹啮合，该环状盖部安装在第一接头之上并且在与第一接头的锥形末端区域接触时减小第一接头的内径。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN113795905A
公开(公告)日：2021-12-14
申请号：CN202080034474.1
申请日：2020-05-05
Applicant: 朗姆研究公司
Inventor： 米格尔·本杰明·瓦斯克斯 , 大卫·弗伦奇
IPC: H01J37/32 , C23C16/509
Abstract: 一种用于衬底处理室的滤波模块包含：限定内部的多个外面板；多个内面板，其在所述滤波模块的所述内部中限定多个隔室；以及可调电容器，其被设置于所述多个隔室中的第一隔室内的所述多个内面板中的第一面板上。所述可调电容器经由所述第一面板而耦合至位于所述第一隔室外的马达，且所述可调电容器被配置成接收射频输入信号并且基于所述马达的位置而提供射频电压至所述衬底处理室。
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公开(公告)号：CN111052299A
公开(公告)日：2020-04-21
申请号：CN201880057283.X
申请日：2018-08-31
Applicant: 朗姆研究公司
IPC: H01J37/32
Abstract: 将射频源与等离子体处理系统的衬底支撑件连接的热阻流杆包含具有第一接头与第二接头的管状构件，第一接头用于连接至与衬底支撑件耦合的RF杆，第二接头用于连接至与RF源耦合的RF带。管状区段在第一与第二接头之间延伸。第一接头具有锥形末端区域以及切口，该锥形末端区域在朝向管状区段的方向上从第一接头的内表面倾斜至外表面，所述切口从第一接头的终端延伸指定距离。管状区段的外表面具有螺纹区域，该螺纹区域用于与环状盖部进行螺纹啮合，该环状盖部安装在第一接头之上并且在与第一接头的锥形末端区域接触时减小第一接头的内径。
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公开(公告)号：CN112753089B
公开(公告)日：2025-01-14
申请号：CN201980063428.1
申请日：2019-07-30
Applicant: 朗姆研究公司
Inventor： 大卫·弗伦奇 , 文森特·E·布克哈特 , 卡尔·弗雷德里克·利瑟 , 孟亮
IPC: H01J37/32 , H03H7/40 , C23C16/458 , C23C16/509
Abstract: 提供了一种在处理室内处理衬底用的衬底处理系统，其包含源终端、衬底支撑件、以及调谐电路。该衬底支撑件支撑该衬底且具有第一电极与第二电极，该第一电极与该第二电极通过该源终端从电源接收功率。调谐电路被连接至该第一电极或该第二电极。该调谐电路被分配用于调谐提供至该第一电极的信号。该调谐电路具有第一阻抗组及第二阻抗组中的至少一者。该第一阻抗组串联连接于该第一电极与该电源之间且通过该源终端从该电源接收第一信号。该第二阻抗组被连接于该电源的输出与参考终端之间且通过该源终端自该电源接收该第一信号。
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公开(公告)号：CN118786497A
公开(公告)日：2024-10-15
申请号：CN202380023724.5
申请日：2023-02-07
Applicant: 朗姆研究公司
Inventor： 米格尔·本杰明·瓦斯克斯 , 大卫·弗伦奇
IPC: H01F27/28 , H01J37/32 , H03H7/38 , C23C16/50 , C23C16/455
Abstract: 一种用于衬底处理系统的射频匹配电路的电感带，所述的电感带包括第一端和第二端，其中该第一端和该第二端中的每一者包括：相应的连接器接线片，其被配置成连接至相应电容器的终端；电感线圈，其设置在该第一端和该第二端之间；以及中间部分，其设置在该电感线圈与该第一端和该第二端中的一者之间。该中间部分包含平面的连接板，该连接板被配置成将该电感带耦合至射频外壳的表面，该射频外壳容纳该射频匹配电路。
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公开(公告)号：CN118648097A
公开(公告)日：2024-09-13
申请号：CN202380019410.8
申请日：2023-01-24
Applicant: 朗姆研究公司
Inventor： 斯蒂芬·托平 , 帕特里克·G·布莱琳 , 谢尔盖·格奥尔吉耶维奇·别洛斯托茨基 , 拉梅什·钱德拉塞卡拉 , 蒂莫西·斯科特·托马斯 , 穆罕默德·瓦希迪 , 行则崎山 , 大卫·弗伦奇 , 米纳克斯·马穆努鲁 , 阿施施·索拉卜 , 普拉莫德·苏布拉莫尼姆 , 诺亚·埃利奥特·贝克
IPC: H01L21/683 , H01L21/687 , H01J37/32
Abstract: 提供静电卡盘(ESC)装置和方法。ESC可具有一或更多个卡盘电极以及围绕卡盘电极的阻断电极。阻断电极可减少使用ESC执行的半导体处理操作中的不均匀性。在某些实现方案中，阻断电极位于卡盘电极下方。
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