防散射X‑射线滤线栅器件及其制造方法

    公开(公告)号:CN102389320B

    公开(公告)日:2017-05-10

    申请号:CN201110190671.5

    申请日:2011-06-28

    CPC classification number: G21K1/025

    Abstract: 一种制造防散射X‑射线滤线栅器件(10)的方法以及由该方法制造的X‑射线滤线栅器件(10)包括:提供由基本上不吸收X‑射线的材料(16)制成的衬底(14),在衬底(14)中包括通道(18);在通道(18)的侧壁(20)上施加(32)同样基本上不吸收X‑射线的材料(34)的层,其中该层包含第二材料(34);然后在通道(18)的一部分中施加(44)显著吸收X‑射线的材料(42),以便定义多个X‑射线吸收元件(12)。就具体实施例描述了本发明,并且意识到,除了那些明确叙述的内容之外,等效物、备选和修改都是可能的并且在随附权利要求的范围内。

    防散射X-射线滤线栅器件及其制造方法

    公开(公告)号:CN102389320A

    公开(公告)日:2012-03-28

    申请号:CN201110190671.5

    申请日:2011-06-28

    CPC classification number: G21K1/025

    Abstract: 一种制造防散射X-射线滤线栅器件(10)的方法以及由该方法制造的X-射线滤线栅器件(10)包括:提供由基本上不吸收X-射线的材料(16)制成的衬底(14),在衬底(14)中包括通道(18);在通道(18)的侧壁(20)上施加(32)同样基本上不吸收X-射线的材料(34)的层,其中该层包含第二材料(34);然后在通道(18)的一部分中施加(44)显著吸收X-射线的材料(42),以便定义多个X-射线吸收元件(12)。就具体实施例描述了本发明,并且意识到,除了那些明确叙述的内容之外,等效物、备选和修改都是可能的并且在随附权利要求的范围内。

Patent Agency Ranking