公开(公告)号：KR1020170106356A

公开(公告)日：2017-09-20

申请号：KR1020177020992

申请日：2016-01-25

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 난바히로미츠

IPC: H01L21/306 ,  H01L21/67 ,  H01L21/3213

CPC classification number: H01L21/02087 ,  H01L21/30604 ,  H01L21/32134 ,  H01L21/67051 ,  H01L21/6708 ,  H01L21/68764 ,  H01L21/67075 ,  H01L21/6715

Abstract: 습식에칭방법은, 기판(W)을회전시키는것과, 회전하고있는기판의제1 면(디바이스형성면)에, 에칭용의약액을공급하는것과, 기판에약액을공급하고있을때에, 기판의제2 면(디바이스비형성면)에에칭저해액(DIW)을공급하는것을구비한다. 에칭저해액이기판의단부가장자리(WE)를지나제1 면으로돌아들어가고, 제1 면의둘레가장자리부분중 기판의단부가장자리로부터, 제1 면상에서단부가장자리보다반경방향내측에있는제1 반경방향위치에이르기까지의제1 영역에도달하도록한다. 이에의해 2층의막이형성되어있는기판의상층의베벨에칭처리를양호하게행할수 있다.

Abstract translation: 湿式蚀刻方法包括：旋转衬底W;将用于蚀刻的化学溶液供应到旋转衬底的第一表面（器件形成表面）;以及将用于蚀刻的药液供应到衬底 并且将腐蚀抑制液体DIW供应到两个表面（器件非成型表面）。 蚀刻抑制液从第1面的周缘部的基板的端缘向第1面的径向内侧的第1径向的第1面流动， 到达第一个区域。 结果，可以令人满意地进行其上形成有双层膜的衬底的上层的斜面蚀刻工艺。

公开(公告)号：KR101042666B1

公开(公告)日：2011-06-20

申请号：KR1020070057770

申请日：2007-06-13

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 난바히로미츠 ,  이토노리히로

IPC: H01L21/02 ,  H01L21/304

CPC classification number: H01L21/67051 ,  G03F7/162 ,  H01L21/6708 ,  H01L21/6715 ,  H01L21/68728 ,  H01L21/68735

Abstract: 액 처리 장치는 기판(W)을 수평으로 유지하며, 기판과 함께 회전 가능한 기판 유지부(2)와, 기판 유지부에 유지된 기판을 둘러싸도록 환형을 이루며, 기판과 함께 회전 가능한 환형을 이루는 회전컵(4)과, 회전컵 및 기판 유지부를 일체적으로 회전시키는 회전 기구(3)와, 기판에 처리액을 공급하는 액 공급 기구(5)를 구비한다. 액 처리 장치는 또한, 회전컵에 대응한 환형을 이루며, 회전컵으로부터 배출된 처리액을 수용하고, 수용된 처리액을 배액하는 배액구(60)를 갖는 배액컵(51)과, 회전컵 및 기판 유지부를 회전시킬 때에, 배액컵 내에 선회류를 형성하며, 그 선회류에 수반된 배액컵 내의 처리액을 배액구로 유도하는 선회류 형성 부재(32a)를 구비한다.

公开(公告)号：KR1020070103314A

公开(公告)日：2007-10-23

申请号：KR1020070037458

申请日：2007-04-17

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 가네코사토시 ,  마츠모토가즈히사 ,  이토노리히로 ,  아키모토마사미 ,  도시마다카유키 ,  난바히로미츠

IPC: H01L21/304

CPC classification number: H01L21/67051 ,  H01L21/6715 ,  H01L21/68728 ,  Y10S134/902

Abstract: An apparatus for treating liquid is provided to prevent a mist of treatment liquid from scattering by using a rotating cup to rotate with a substrate. An apparatus for treating liquid includes a substrate holding unit(1), a rotating cup(3), a rotating device, a liquid feed device, an exhausting unit(8), and a guiding member. The substrate holding unit(1) holds horizontally a substrate and rotates with the substrate. The rotating cup(3) encloses the substrate and rotates with the substrate. The rotating device rotates the rotating cup(3) and the substrate holding unit(1) entirely. The liquid feed device supplies treatment liquid to a surface of the substrate. The exhausting unit(8) discharges gas and liquid from the rotating cub(3) to the outside. The guiding member is mounted outside the substrate. The guiding member rotates the substrate holding unit(1) and the rotating cup(3) together. The guiding member guides the treatment liquid to the exhausting unit(8).

Abstract translation: 提供了一种用于处理液体的设备，以通过使用旋转杯与基底一起旋转来防止处理液体的雾飞散。 一种用于处理液体的设备包括：基板保持单元（1），旋转杯（3），旋转装置，液体供给装置，排气单元（8）和引导构件。 基板保持单元（1）水平地保持基板并与基板一起旋转。 旋转杯（3）封闭衬底并与衬底一起旋转。 旋转装置使旋转杯（3）和基板保持单元（1）完全旋转。 液体供给装置将处理液供给到基板的表面。 排气单元（8）将气体和液体从旋转小室（3）排出到外部。 引导构件安装在基板的外部。 引导构件将基板保持单元（1）和旋转杯（3）一起旋转。 引导构件将处理液引导到排气单元（8）。

公开(公告)号：KR1020070103310A

公开(公告)日：2007-10-23

申请号：KR1020070037375

申请日：2007-04-17

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 아키모토마사미 ,  도시마다카유키 ,  가네코사토시 ,  마츠모토가즈히사 ,  이토노리히로 ,  난바히로미츠

IPC: H01L21/304

CPC classification number: H01L21/67051 ,  H01L21/6715 ,  H01L21/68728

Abstract: A liquid treatment device is provided to suppress the bounding of mists in a processing liquid by using a rotating cup to rotate together with a substrate. A liquid treatment device includes a substrate holding portion(1), a rotating cup(3), a rotating tool, a liquid supply tool, and an exhaust and drain portion(6). The substrate holding portion(1) holds a substrate in a horizontal direction and is rotated according to a rotation of the substrate. The rotating cup(3) encloses the substrate and is rotated according to a rotation of the substrate. The rotating tool integrally rotates the rotating cup(3) and the substrate holding portion(1). The exhaust and drain portion(6) performs an exhaust and a drain of the rotating cup. The exhaust and drain portion(6) includes a drain cup for receiving a processing solution from the substrate and an exhaust cup for receiving and exhausting gas components.

Abstract translation: 提供一种液体处理装置，通过使用旋转杯与基底一起旋转来抑制加工液体中的雾的界限。 液体处理装置包括基板保持部分（1），旋转杯（3），旋转工具，液体供应工具以及排出和排出部分（6）。 基板保持部（1）在水平方向上保持基板，并且根据基板的旋转而旋转。 旋转杯（3）包围基底并且根据基底的旋转而旋转。 旋转工具一体地旋转旋转杯（3）和基板保持部（1）。 排气和排出部分（6）执行旋转杯的排气和排水。 排气和排出部分（6）包括用于从基板接收处理溶液的排水杯和用于接收和排出气体组分的排气杯。

公开(公告)号：KR101267631B1

公开(公告)日：2013-05-24

申请号：KR1020080085136

申请日：2008-08-29

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 난바히로미츠

IPC: H01L21/02 ,  H01L21/00

Abstract: 기판처리장치에서, 제어부(121)는린스액에의한린스처리후에약액에의한약액처리를행한다. 이때에, 최초에린스처리용회전수이상의회전수로기판(W)을회전시키면서기판상에약액을공급하여배액컵(51)을약액에의해세정하고, 그때에배액컵(51)에서받은액을폐기라인(113)에의해폐기한다. 그후, 약액처리용회전수로기판을회전시키면서기판상에약액을공급하여기판의약액처리를행하고, 그때에배액컵에서받은액을회수라인(112)에의해회수한다.

公开(公告)号：KR101061937B1

公开(公告)日：2011-09-05

申请号：KR1020060124421

申请日：2006-12-08

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 난바히로미츠

IPC: H01L21/304

CPC classification number: H01L21/67028 ,  H01L21/02057 ,  H01L21/67051

Abstract: 본 발명은 적어도 일부 기간에 있어서 기판을 회전시키면서, 기판의 표면에 액을 공급하여 세정하는 단계와, 그 후 기판을 건조시키는 단계를 포함하는 기판 세정 방법으로서, 기판을 건조시키는 단계는 기판의 회전수를 기판을 세정할 때의 회전수보다도 낮은 제1 회전수로 감속시키는 단계와, 기판의 회전수가 상기 제1 회전수까지 감속되었을 때에, 기판의 대략 중심으로부터 주연부를 향하여 액의 공급 위치의 이동을 개시하는 단계와, 제1 회전수보다 낮은 제2 회전수에 도달한 시점에서 액의 공급을 정지하는 단계와, 제2 회전수로부터 회전수를 증가시키는 단계와, 제2 회전수보다 높은 회전수로 기판을 회전시키면서 기판을 향하여 가스를 공급하는 단계를 포함한다.

Abstract translation: 本发明提供一种方法和一种基板清洗方法，包括更多，干燥所述基板，所述基板干燥至至少洗涤并在旋转的同时在基板，在某些时期，在衬底的表面上供应液体的步骤之后是在基板的旋转 在以基板的清洗次数为第一转数的第一转数下减速基板的转数的步骤; 在第二转数低于第一转数的时间点停止供应液体;从第二转数增加转数; 并且一边旋转水道基板一边向基板供给气体。

公开(公告)号：KR1020090088313A

公开(公告)日：2009-08-19

申请号：KR1020090009813

申请日：2009-02-06

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 이토노리히로 ,  난바히로미츠

IPC: H01L21/304 ,  H01L21/306

CPC classification number: B08B3/04 ,  H01L21/67051 ,  H01L21/68742 ,  H01L21/68792

Abstract: A liquid processing apparatus is provided to prevent attachment of a cleaning solution on a rear surface of an object by preventing residue of the cleaning solution on a lift pin plate. A holding plate holds an object, and is formed with a hollow shape. A rotation shaft(2) is connected to the holding plate, and is formed with a hollow shape. A rotation driving part(40) drives the rotation shaft into a fixed rotation direction. A lift pin plate(20) includes a lift pin(21) which supports a main body and the object. A cleaning solution supply part(11) supplies a cleaning solution to the object held in the holding plate. An inert gas supply part(10) supplies an inert gas to the object held in the holding plate.

Abstract translation: 提供了一种液体处理装置，用于防止清洁溶液附着在物体的后表面上，方法是防止清洁溶液残留在提升销板上。 保持板保持物体，并且形成为中空形状。 旋转轴（2）连接到保持板，并且形成为中空形状。 旋转驱动部（40）将旋转轴驱动成固定的旋转方向。 提升销板（20）包括支撑主体和物体的提升销（21）。 清洁溶液供给部件（11）将清洁溶液供应到保持在保持板上的物体。 惰性气体供给部件（10）向保持在保持板上的物体供给惰性气体。

公开(公告)号：KR100772469B1

公开(公告)日：2007-11-02

申请号：KR1020057021359

申请日：2004-11-12

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 난바히로미츠 ,  야부타타카시 ,  오리이타케히코

IPC: H01L21/304

CPC classification number: H01L21/67051 ,  B08B3/02 ,  G02F2001/1316 ,  G11B23/505 ,  H01L21/67034

Abstract: 본 발명은 웨이퍼(W)를 거의 수평 자세로 소정의 회전수로 회전시키면서 그 표면에 소정 유량으로 순수를 공급하여 웨이퍼(W)를 린스 처리한 후에, 웨이퍼(W)로의 순수 공급 유량을 줄이고, 또한 순수 공급점을 웨이퍼(W)의 중심으로부터 외측으로 이동시킨다. 이렇게 해서 순수 공급점의 거의 외측에서 액막을 형성하면서 웨이퍼(W)를 스핀 건조 처리한다.

公开(公告)号：KR1020060034640A

公开(公告)日：2006-04-24

申请号：KR1020057021359

申请日：2004-11-12

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 난바히로미츠 ,  야부타타카시 ,  오리이타케히코

IPC: H01L21/304

CPC classification number: H01L21/67051 ,  B08B3/02 ,  G02F2001/1316 ,  G11B23/505 ,  H01L21/67034

Abstract: After rinsing a wafer (W) by rotating the wafer generally horizontally at a certain revolution speed and supplying purified water to the surface thereof at a certain flow rate, the supplying rate of purified water to the wafer (W) is decreased and the supplying point of purified water is moved from the center to the circumferential part of the wafer (W). Consequently, the wafer (W) is spin-dried, while forming a liquid film in a position generally outside the purified water supplying point.

Abstract translation: 通过以一定的转速大致水平旋转晶片冲洗晶片（W）并以一定的流量向其表面供给净化水，净化水对晶片（W）的供给速率降低，供给点 的净化水从晶片（W）的中心移动到周向部分。 因此，将晶片（W）旋转干燥，同时在纯化水供给点的大致外侧形成液膜。

公开(公告)号：KR1020150128596A

公开(公告)日：2015-11-18

申请号：KR1020150063823

申请日：2015-05-07

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 미즈노츠요시 ,  토쿠나가요이치 ,  난바히로미츠 ,  우에키타츠히로 ,  피트리안토

IPC: H01L21/02 ,  H01L21/683 ,  H01L21/324

CPC classification number: H01L21/67109 ,  F26B3/20 ,  H01L21/67028 ,  H01L21/67051 ,  H01L21/67075

Abstract: 커버부재에부착된처리액또는그 처리액으로부터발생된결정을제거함으로써, 파티클의발생을방지하도록한다. 기판을유지하는기판유지부(3)와, 기판유지부(3)에유지된기판(W)에대하여처리액을공급하는처리액공급부(7)와, 기판유지부(3)에유지된기판의주연부와대향하도록배치되는링 형상의커버부재(5)를구비하고, 커버부재(5)에는, 커버부재(5)를가열하기위한히터(701)가마련되어있다.

Abstract translation: 通过除去附着在覆盖构件上的处理溶液或由处理溶液产生的晶体来防止颗粒的产生。 本发明包括：保持基板的基板保持单元（3），将处理液供给到保持在基板保持单元（3）上的基板（W）的处理液供给单元（7），以及环状 盖构件（5），其被配置为面对保持在基板保持单元上的基板的周边部分。 在盖构件（5）上形成加热器（701）以加热盖构件（5）。