中科微点-全球专利检索

  1. Login
  2. Sign Up

Search Results

245 records (took 0.026 seconds)

    Integrated cooling substrate for extreme ultraviolet reticle
    91.
    发明授权
    Integrated cooling substrate for extreme ultraviolet reticle 失效
    用于极紫外线掩模的集成冷却基板

    公开(公告)号：US06806006B2

    公开(公告)日：2004-10-19

    申请号：US10064441

    申请日：2002-07-15

    Applicant: Michael J. Lercel ,  Dhirendra Prasad Mathur

    Inventor： Michael J. Lercel ,  Dhirendra Prasad Mathur

    IPC: G03F900

    CPC classification number: G21K1/062 ,  B82Y10/00 ,  B82Y40/00 ,  G03F1/24 ,  G03F1/38 ,  G03F7/70875 ,  G21K2201/065 ,  Y10T428/1317

    Abstract: The current invention provides a method and apparatus that minimizes the destructive effects of non-reflected energy during lithography. More specifically, a cooling system is located within the mask. In one example, a cooling module is integrated into the EUV mask. The cooling module may be thermoelectric. The EUV mask comprises a substrate structure as a base for a reticle, a cooling layer, which is formed on the substrate structure and a planarizing layer deposited on the cooling layer. In another example, a cooling channel is formed within the mask.

    Abstract translation: 本发明提供了一种在光刻期间使无反射能量的破坏作用最小化的方法和装置。 更具体地，冷却系统位于掩模内。 在一个示例中，将冷却模块集成到EUV掩模中。 冷却模块可以是热电。 EUV掩模包括作为掩模版的基底的衬底结构，形成在衬底结构上的冷却层和沉积在冷却层上的平坦化层。 在另一示例中，在掩模内形成冷却通道。

    REFLECTOR
    93.
    发明申请
    REFLECTOR 审中-公开
    反射器

    公开(公告)号：WO2017191435A1

    公开(公告)日：2017-11-09

    申请号：PCT/GB2017/051194

    申请日：2017-04-28

    Applicant: OXFORD UNIVERSITY INNOVATION LTD.

    Inventor： RAVENHALL, Sean Robert ,  FOOT, Christopher John

    IPC: G02B7/182 ,  G21K1/00 ,  G02B17/00 ,  H05H3/02 ,  G02B5/12

    CPC classification number: G21K1/06 ,  G02B5/12 ,  G02B7/1822 ,  G02B17/004 ,  G21K1/006 ,  G21K2201/065 ,  G21K2201/068

    Abstract: A reflector (15) for cooling or trapping atoms or molecules, the reflector (15) having a reflecting surface (17) forming a perimeter around and facing a central axis (33), the reflecting surface (17) extending along the axis (33), and converging from a first end of the reflector (15) towards a second end of the reflector (15), such that the reflecting surface (17) is arranged to reflect input laser light to form a cooling region (21), wherein an aperture (23) for providing a beam (27) of cooled atoms or molecules from the cooling region (21) is formed in the reflecting surface (17), the aperture (23) perpendicular to the central axis (33), such that the reflector (15) forms a truncated pyramid, and wherein the reflecting surface (17) is formed by three or more planar mirrors (39a-d) arranged around and at an angle to the central axis (33).

    Abstract translation: 用于冷却或俘获原子或分子的反射器（15），所述反射器（15）具有反射表面（17），所述反射表面（17）形成围绕并面对中心轴线（33）的周边，所述反射表面（ 沿着轴线（33）延伸并且从反射器（15）的第一端向反射器（15）的第二端会聚，使得反射表面（17）被布置成反射输入激光以形成 一个冷却区域（21），其中用于提供来自冷却区域（21）的冷却的原子或分子的束（27）的孔（23）形成在反射表面（17）中，孔（23）垂直于 中心轴线（33），使得反射器（15）形成截棱锥体，并且其中反射表面（17）由三个或更多个平面反射镜（39a-d）形成，所述反射表面（39a-d）围绕中心轴线 33）。

    DUAL ELLIPTICAL REFLECTOR WITH A CO-LOCATED FOCI FOR CURING OPTICAL FIBERS
    95.
    发明申请
    DUAL ELLIPTICAL REFLECTOR WITH A CO-LOCATED FOCI FOR CURING OPTICAL FIBERS 审中-公开
    用于固化光纤的双椭圆反射镜，带有一个共焦点火焰

    公开(公告)号：WO2013040582A2

    公开(公告)日：2013-03-21

    申请号：PCT/US2012/055799

    申请日：2012-09-17

    Applicant: PHOSEON TECHNOLOGY, INC. ,  CHILDERS, Doug

    Inventor： CHILDERS, Doug

    IPC: G02B6/44 ,  C03C25/12

    CPC classification number: G21K5/00 ,  C03C25/12 ,  F26B3/28 ,  F26B13/00 ,  G21K1/067 ,  G21K2201/064 ,  G21K2201/065

    Abstract: A device for UV curing a coating or printed ink on an workpiece such as an optical fiber comprises dual elliptical reflectors arranged to have a co-located focus. The workpiece is centered at the co-located focus such that the dual elliptical reflectors are disposed on opposing sides of the workpiece. Two separate light sources are positioned at a second focus of each elliptical reflector, wherein light irradiated from the light sources is substantially concentrated onto the surface of the workpiece at the co-located focus.

    Abstract translation: 用于UV固化工件（例如光纤）上的涂层或印刷油墨的设备包括设置为具有共同定位焦点的双椭圆形反射器。 工件以共位焦点为中心，使得双椭圆形反射器设置在工件的相对侧上。 两个单独的光源被定位在每个椭圆反射器的第二焦点处，其中从光源辐射的光基本上集中在位于协同定位焦点处的工件表面上。

    MONOLITHIC SILICON EUV COLLECTOR
    97.
    发明申请
    MONOLITHIC SILICON EUV COLLECTOR 审中-公开
    单片硅EUV集电极

    公开(公告)号：WO2005047980A3

    公开(公告)日：2005-08-11

    申请号：PCT/US2004037393

    申请日：2004-11-10

    Applicant: UNIV CENTRAL FLORIDA RES FOUND ,  ARENBERG JONATHAN W ,  HASSELL FRANK R

    Inventor： ARENBERG JONATHAN W ,  HASSELL FRANK R

    IPC: F28D1/00 ,  F28D9/00 ,  G02B5/08 ,  G02B5/10 ,  G03F7/20 ,  G21K1/06

    CPC classification number: G03F7/70891 ,  B82Y10/00 ,  F24J2/12 ,  F28F3/12 ,  G03F7/70033 ,  G03F7/70175 ,  G21K1/06 ,  G21K2201/065

    Abstract: A collector optic assembly (40) for an EUV radiation source (10). The collector optic assembly (40) includes an elleptical meniscus (42) having a reflective Si/Mo coating (44) for collecting and reflecting EUV radiation (32) generated by the source (10). The meniscus (42) is machined from a single piece of silicon. The collector optic assembly (40) further includes a heat exchanger (48) that includes cooling channels (62) through which flows a liquid coolant. The heat exchanger (48) is fabricated from a plurality of machined silicon sections fused together by a glass frit bonding process. The meniscus (42) is fused to a front side of the heat exchanger (48) by a glass frit bonding process. A liquid coolant inlet manifold (70) and a liquid coolant outlet manifold (86) are also each machined from a single silicon block and are mounted to a back side of the heat exchanger (48).

    Abstract translation: 一种用于EUV辐射源（10）的收集器光学组件（40）。 收集器光学组件（40）包括具有用于收集和反射由光源（10）产生的EUV辐射（32）的反射Si / Mo涂层（44）的弯月面（42）。 半月板（42）由单块硅制成。 收集器光学组件（40）还包括热交换器（48），该热交换器包括冷却通道（62），液体冷却剂流过该冷却通道。 热交换器（48）由多个通过玻璃料粘合工艺熔合在一起的加工硅部分制成。 弯月面（42）通过玻璃料粘合工艺熔合到热交换器（48）的前侧。 液态冷却剂入口歧管（70）和液态冷却剂出口歧管（86）也分别由单个硅块加工并安装到热交换器（48）的后侧。

    REFLECTION MIRROR APPARATUS, EXPOSURE APPARATUS AND DEVICE MANUFACTURING METHOD
    98.
    发明申请
    REFLECTION MIRROR APPARATUS, EXPOSURE APPARATUS AND DEVICE MANUFACTURING METHOD 审中-公开
    反射镜装置，曝光装置和装置制造方法

    公开(公告)号：WO2004003982A1

    公开(公告)日：2004-01-08

    申请号：PCT/JP2003/007796

    申请日：2003-06-19

    Applicant: CANON KABUSHIKI KAISHA ,  MIYAJIMA, Yoshikazu

    Inventor： MIYAJIMA, Yoshikazu

    IPC: H01L21/027

    CPC classification number: G21K1/06 ,  G02B7/1815 ,  G03F7/70175 ,  G03F7/702 ,  G03F7/70233 ,  G03F7/70891 ,  G21K2201/065 ,  G21K2201/067

    Abstract: A reflection mirror apparatus, used in a reflection optical system of an exposure apparatus which performs exposure processing by guiding exposure light by reflection, has a mirror having a reflection surface to reflect the exposure light, and radiation plates for radiation-cooling provided in positions away from an outer surface of the mirror. The radiation plates are provided so as to ensure a passage area for the exposure light incident on and reflected from the reflection surface of the mirror. Further, the respective radiation plates are temperature-controlled by cooling liquid flowing through cooling pipes. Thus the temperature rise of the mirror used in the reflection optical system of the exposure apparatus can be suppressed, and the accuracy of surface form of the mirror reflection surface can be maintained.

    Abstract translation: 用于通过反射引导曝光来进行曝光处理的曝光装置的反射光学系统的反射镜装置具有反射面，以反射曝光光的反射镜，以及设置在远离位置的辐射冷却用辐射板 从镜子的外表面。 辐射板被设置成确保入射到反射镜的反射表面上并从其反射的曝光光的通过区域。 此外，通过冷却流经冷却管的液体对各个辐射板进行温度控制。 因此，可以抑制在曝光装置的反射光学系统中使用的反射镜的温度升高，并且可以保持镜面反射面的表面形状的精度。

    VERFAHREN ZUM HERSTELLEN EINES REFLEKTIVEN OPTISCHEN ELEMENTS, REFLEKTIVES OPTISCHES ELEMENT UND VERWENDUNG EINES REFLEKTIVEN OPTISCHEN ELEMENTS
    99.
    发明申请
    VERFAHREN ZUM HERSTELLEN EINES REFLEKTIVEN OPTISCHEN ELEMENTS, REFLEKTIVES OPTISCHES ELEMENT UND VERWENDUNG EINES REFLEKTIVEN OPTISCHEN ELEMENTS 审中-公开
    制造方法的反射光学元件，反射光学元件以及使用反射光学元件

    公开(公告)号：WO2016116387A1

    公开(公告)日：2016-07-28

    申请号：PCT/EP2016/050856

    申请日：2016-01-18

    Applicant: CARL ZEISS SMT GMBH

    Inventor： BAUER, Markus ,  BINGEL, Ulrich ,  ANDERL, Willi

    IPC: C25D7/08 ,  G02B7/18 ,  G02B5/08 ,  G03F7/20 ,  G21K1/06 ,  G02B5/18

    CPC classification number: G03F7/70266 ,  C25D7/08 ,  G02B5/0891 ,  G02B5/1847 ,  G02B7/1815 ,  G21K1/067 ,  G21K2201/065

    Abstract: Ein reflektives optisches Element weist ein Substrat (12), eine Überbeschichtung (16) aus zumindest einer galvanisch oder chemisch abgeschiedenen Schicht auf einer ersten Oberfläche (36) des Substrates (12) und zumindest einen Hohlraum (14) zur Aufnahme eines Fluids auf. Der zumindest eine Hohlraum (14) ist der ersten Oberfläche (36) benachbart angeordnet, wobei die Überbeschichtung (16) sich auch über den zumindest einen Hohlraum (14) hinweg erstreckt. Der zumindest eine Hohlraum (14) ist frei von Material der Überbeschichtung (16). Zumindest eine reflektive Schicht (18) ist auf der dem Substrat (12) abgewandten Oberfläche (46) der Überbeschichtung (16) angeordnet, wobei die zumindest eine reflektive Schicht (18) eine optisch wirksame Oberfläche (20) aufweist. Ein Verfahren zum Herstellen und eine Verwendung des reflektiven optischen Elements werden ebenfalls beschrieben.

    Abstract translation: 一种反射光学元件包含用于接收流体的基板（12），至少一个电沉积或化学沉积层的在基板（12）和至少一个空腔（14）的第一表面（36）的保护层（16）。 所述至少一个腔体（14）与第一表面（36）相邻设置，其中，所述保护层（16）还延伸时间的至少一个空腔（14）。 所述至少一个腔体（14）是从保护层（16）的材料的分类。 至少在基板（12）上从所述外涂层（16）的表面（46）背向反射层（18），所述至少一个反射层（18）的光学有效表面（20）。 制造的方法，和一个使用反射光学元件的也被描述。

Patent Agency Ranking