公开(公告)号：KR20180021217A

公开(公告)日：2018-02-28

申请号：KR20187004578

申请日：2011-03-17

Applicant: ASML NETHERLANDS BV

Inventor： YAKUNIN ANDREI ,  BANINE VADIM ,  LOOPSTRA ERIK ,  VAN DER SCHOOT HARMEN ,  STEVENS LUCAS ,  VAN KAMPEN MAARTEN

IPC: G03F1/62 ,  C01B32/20 ,  G02B5/08 ,  G02B5/20 ,  G03F1/24 ,  G03F7/20 ,  H01L21/027

CPC classification number: G03F1/64 ,  B82Y10/00 ,  B82Y40/00 ,  C01B32/20 ,  G02B5/0816 ,  G02B5/0891 ,  G02B5/204 ,  G02B5/208 ,  G02B27/0006 ,  G03B27/54 ,  G03F1/24 ,  G03F1/62 ,  G03F7/70058 ,  G03F7/702 ,  G03F7/70916 ,  G03F7/70958 ,  G03F7/70983 ,  G21K1/062 ,  G21K2201/061 ,  H01B1/04 ,  H01B1/24

Abstract: 리소그래피장치는방사선빔을생성하도록구성된방사선소스, 및패터닝디바이스를지지하도록구성된지지체를포함한다. 패터닝디바이스는패터닝된방사선빔을형성하기위해방사선빔에패턴을부여하도록구성된다. 방사선소스와패터닝디바이스사이에는챔버가위치된다. 챔버는방사선빔을반사시키도록구성된적어도 1 이상의광학구성요소를포함하고, 방사선소스로부터의방사선이이를통과하는것을허용하도록구성된다. 멤브레인(44)이멤브레인을통한방사선빔의통과를허용하고, 오염입자(54)들의통과를방지하도록구성된다. 챔버내부로부터챔버외부로우회경로를따라가스가흐르는것을허용하도록입자포획구조체(52)가구성된다. 우회경로는챔버내부로부터챔버외부로의오염입자(58)들의통과를실질적으로방지하도록구성된다.

公开(公告)号：KR20180031812A

公开(公告)日：2018-03-28

申请号：KR20187007749

申请日：2011-03-17

Applicant: ASML NETHERLANDS BV

Inventor： YAKUNIN ANDREI ,  BANINE VADIM ,  LOOPSTRA ERIK ,  VAN DER SCHOOT HARMEN ,  STEVENS LUCAS ,  VAN KAMPEN MAARTEN

IPC: G03F1/62 ,  C01B32/20 ,  G02B5/08 ,  G02B5/20 ,  G03F1/24 ,  G03F7/20 ,  H01L21/027

CPC classification number: G03F1/64 ,  B82Y10/00 ,  B82Y40/00 ,  C01B32/20 ,  G02B5/0816 ,  G02B5/0891 ,  G02B5/204 ,  G02B5/208 ,  G02B27/0006 ,  G03B27/54 ,  G03F1/24 ,  G03F1/62 ,  G03F7/70058 ,  G03F7/702 ,  G03F7/70916 ,  G03F7/70958 ,  G03F7/70983 ,  G21K1/062 ,  G21K2201/061 ,  H01B1/04 ,  H01B1/24

Abstract: 리소그래피장치는방사선빔을생성하도록구성된방사선소스, 및패터닝디바이스를지지하도록구성된지지체를포함한다. 패터닝디바이스는패터닝된방사선빔을형성하기위해방사선빔에패턴을부여하도록구성된다. 방사선소스와패터닝디바이스사이에는챔버가위치된다. 챔버는방사선빔을반사시키도록구성된적어도 1 이상의광학구성요소를포함하고, 방사선소스로부터의방사선이이를통과하는것을허용하도록구성된다. 멤브레인(44)이멤브레인을통한방사선빔의통과를허용하고, 오염입자(54)들의통과를방지하도록구성된다. 챔버내부로부터챔버외부로우회경로를따라가스가흐르는것을허용하도록입자포획구조체(52)가구성된다. 우회경로는챔버내부로부터챔버외부로의오염입자(58)들의통과를실질적으로방지하도록구성된다.

Abstract translation: 光刻设备包括被配置为产生辐射束的辐射源。 该光刻设备还包括被配置为支撑图案形成装置的支撑件。 图案形成装置被配置为将辐射束赋予图案以形成图案化的辐射束。 该支撑件提供有包括石墨烯层的薄膜。

公开(公告)号：WO2014063878A3

公开(公告)日：2014-10-09

申请号：PCT/EP2013069713

申请日：2013-09-23

Applicant: ASML NETHERLANDS BV

Inventor： NIKIPELOV ANDREY ,  BANINE VADIM ,  YAKUNIN ANDREI

IPC: G03F7/20 ,  G02B17/06 ,  G02B17/08 ,  H05G2/00

CPC classification number: G03F7/70033 ,  G02B17/0657 ,  G02B17/0808 ,  G03F7/70041 ,  G03F7/7005 ,  H05G2/006 ,  H05G2/008

Abstract: A radiation source for a lithographic apparatus uses a plurality of fiber lasers to ignite a fuel droplet at an ignition location to generate EUV radiation. The fiber lasers may be provided to emit parallel to an optical axis and a telescopic optical system is provided to focus the lasers at the ignition location, or the lasers may be directed towards the optical axis with a final focus lens being used to reduce beam waist. The lasers may be provided in two or more groups to allow them to be independently controlled and some of the lasers may be focused at a different location to provide a pre-pulse. Radiation from fiber lasers may also be combined using dichroic mirrors.

Abstract translation: 用于光刻设备的辐射源使用多个光纤激光器在点火位置点燃燃料液滴以产生EUV辐射。 可以将光纤激光器设置成平行于光轴发射，并且提供伸缩光学系统以将激光器聚焦在点火位置，或者激光器可以被引导到光轴，最终聚焦透镜用于减小光束腰部 。 激光器可以以两个或更多个组提供，以允许它们被独立控制，并且一些激光器可以聚焦在不同的位置以提供预脉冲。 光纤激光器的辐射也可以使用二向色镜来组合。

公开(公告)号：WO2013127587A3

公开(公告)日：2013-10-24

申请号：PCT/EP2013051657

申请日：2013-01-29

Applicant: ASML NETHERLANDS BV

Inventor： BANINE VADIM ,  FRANKEN JOHANNES ,  KEMPEN ANTONIUS ,  VAN KAMPEN MAARTEN ,  MESTROM WILBERT

IPC: G03F7/20 ,  H05G2/00

CPC classification number: G03F7/70033 ,  G03F7/70916 ,  G03F7/7095 ,  H05G2/003

Abstract: A source collector apparatus includes a plasma generation apparatus arranged to excite a fuel to form a radiation emitting plasma, a collector arranged to collect the radiation, and a contamination receiving apparatus, wherein the contamination receiving apparatus is provided with a porous structure.

Abstract translation: 源极收集器装置包括等离子体产生装置，其被布置成激发燃料以形成辐射发射等离子体，收集辐射的收集器以及污染物接收装置，其中污染物接收装置具有多孔结构。

公开(公告)号：WO2014072149A2

公开(公告)日：2014-05-15

申请号：PCT/EP2013071141

申请日：2013-10-10

Applicant: ASML NETHERLANDS BV

Inventor： LOOPSTRA ERIK ,  YAKUNIN ANDREI ,  BANINE VADIM ,  NIKIPELOV ANDREY ,  OSORIO OLIVEROS EDGAR ,  STRUYCKEN ALEXANDER ,  VAN DRIEËNHUIZEN BERT ,  VAN SCHOOT JAN

IPC: G03F7/20 ,  H05G2/00

CPC classification number: H05G2/006 ,  G03F7/70033 ,  G03F7/7085 ,  G21K1/062 ,  G21K2201/067 ,  H01S3/073 ,  H01S3/08059 ,  H01S3/0815 ,  H01S3/1307 ,  H01S3/2232 ,  H01S3/2383 ,  H05G2/008

Abstract: A method of generating radiation for a lithography apparatus. The method comprises providing a continuously renewing fuel target at a plasma formation location and directing a continuous-wave excitation beam at the plasma formation location such that fuel within the continuously renewing fuel target is excited by the continuous-wave excitation beam to generate a radiation generating plasma.

Abstract translation: 一种为光刻设备产生辐射的方法。 该方法包括在等离子体形成位置处提供连续更新的燃料目标并且在等离子体形成位置处引导连续波激发光束，使得连续更新的燃料靶内的燃料被连续波激发光束激发以产生辐射产生 等离子体。

公开(公告)号：WO2013107686A2

公开(公告)日：2013-07-25

申请号：PCT/EP2013050406

申请日：2013-01-10

Applicant: ASML NETHERLANDS BV

Inventor： YAKUNIN ANDREI ,  BANINE VADIM ,  MOORS ROEL ,  VAN SCHOOT JAN ,  VERHAGEN MARTINUS ,  FRIJNS OLAV ,  KRIVTSUN VLADIMIR ,  SWINKELS GERARDUS ,  RIEPEN MICHEL ,  SCHIMMEL HENDRIKUS ,  MEDVEDEV VIACHESLAV

IPC: G03F7/20

CPC classification number: G03F7/70033 ,  G03F7/70166 ,  G03F7/70191 ,  G03F7/70575 ,  G03F7/70916 ,  G21K1/067 ,  G21K2201/064 ,  H05G2/008

Abstract: A source-collector device is constructed and arranged to generate a radiation beam, The device includes a target unit constructed and arranged to present a target surface of plasma- forming material; a laser unit constructed and arranged to generate a beam of radiation directed onto the target surface so as to form a plasma from said plasma-forming material; a contaminant trap constructed and arranged to reduce propagation of particulate contaminants generated by the plasma; a radiation collector comprising a plurality of grazing-incidence reflectors arranged to collect radiation emitted by the plasma and form a beam therefrom; and a filter constructed and arranged to attenuate at least one wavelength range of the beam.

Abstract translation: 源极集电极器件被构造和布置成产生辐射束。该器件包括构造和布置成呈现等离子体形成材料的目标表面的靶单元; 激光单元，其被构造和布置成产生被引导到所述目标表面上的辐射束，以便形成来自所述等离子体形成材料的等离子体; 构造和布置以减少由等离子体产生的颗粒污染物的传播的污染物阱; 辐射收集器，包括多个放射入射反射器，其布置成收集由等离子体发射的辐射并从其形成光束; 以及被构造和布置成衰减所述光束的至少一个波长范围的滤光器。

公开(公告)号：WO2015044182A3

公开(公告)日：2015-09-24

申请号：PCT/EP2014070335

申请日：2014-09-24

Applicant: ASML NETHERLANDS BV

Inventor： BANINE VADIM ,  BARTRAIJ PETRUS ,  VAN GORKOM RAMON ,  AMENT LUCAS ,  DE JAGER PIETER ,  DE VRIES GOSSE ,  DONKER RILPHO ,  ENGELEN WOUTER ,  FRIJNS OLAV ,  GRIMMINCK LEONARDUS ,  KATALENIC ANDELKO ,  LOOPSTRA ERIK ,  NIENHUYS HAN-KWANG ,  NIKIPELOV ANDREY ,  RENKENS MICHAEL ,  JANSSEN FRANCISCUS ,  KRUIZINGA BORGERT

IPC: G03F7/20 ,  G01N21/956 ,  G02B5/18 ,  G02B27/00 ,  G02B27/09 ,  G02B27/10 ,  G02B27/12 ,  G02B27/14 ,  G02B27/42 ,  G03F1/84 ,  G21K1/06 ,  H01S3/09 ,  H05H7/04

CPC classification number: G21K1/067 ,  G01N2021/95676 ,  G02B5/1814 ,  G02B5/1823 ,  G02B27/0025 ,  G02B27/0938 ,  G02B27/10 ,  G02B27/1086 ,  G02B27/12 ,  G02B27/14 ,  G02B27/142 ,  G02B27/146 ,  G02B27/4272 ,  G03F1/84 ,  G03F7/70025 ,  G03F7/70208 ,  G03F7/70566 ,  G03F7/70891 ,  G03F7/70991 ,  G21K2201/065 ,  H01S3/0903 ,  H05H7/04

Abstract: A delivery system for use within a lithographic system. The beam delivery system comprises optical elements arranged to receive a radiation beam from a radiation source and to reflect portions of radiation along one or more directions to form a one or more branch radiation beams for provision to one or more tools.

Abstract translation: 用于光刻系统的传送系统。 光束传送系统包括被配置为从辐射源接收辐射束并且沿着一个或多个方向反射辐射部分的光学元件，以形成用于提供给一个或多个工具的一个或多个分支辐射束。

公开(公告)号：WO2012136434A3

公开(公告)日：2012-12-13

申请号：PCT/EP2012053918

申请日：2012-03-07

Applicant: ASML NETHERLANDS BV ,  DE JAGER PIETER ,  BANINE VADIM ,  ONVLEE JOHANNES ,  STEVENS LUCAS ,  WUISTER SANDER ,  IOSAD NIKOLAY

Inventor： DE JAGER PIETER ,  BANINE VADIM ,  ONVLEE JOHANNES ,  STEVENS LUCAS ,  WUISTER SANDER ,  IOSAD NIKOLAY

IPC: G02F1/29 ,  G03F7/20

CPC classification number: G03F7/70191 ,  G02F1/1303 ,  G02F1/29 ,  G03F7/704

Abstract: In an embodiment, a lithographic apparatus is disclosed that includes a modulator configured to expose an exposure area of the substrate to a plurality of beams modulated according to a desired pattern and a projection system configured to project the modulated beams onto the substrate. The modulator includes a deflector to displace the plurality of beams with respect to an exposure area.

Abstract translation: 在一个实施例中，公开了一种光刻设备，其包括调制器，其被配置为将基板的曝光区域暴露于根据期望图案调制的多个光束;以及投影系统，该投影系统配置成将经调制的光束投影到基板上。 调制器包括偏转器，用于相对于曝光区域移位多个光束。

公开(公告)号：WO2014202585A3

公开(公告)日：2015-08-20

申请号：PCT/EP2014062691

申请日：2014-06-17

Applicant: ASML NETHERLANDS BV

Inventor： NIKIPELOV ANDREY ,  FRIJNS OLAV ,  DE VRIES GOSSE ,  LOOPSTRA ERIK ,  BANINE VADIM ,  DE JAGER PIETER ,  DONKER RILPHO ,  NIENHUYS HAN-KWANG ,  KRUIZINGA BORGERT ,  ENGELEN WOUTER ,  LUITEN OTGER ,  AKKERMANS JOHANNES ,  GRIMMINCK LEONARDUS ,  LITVINENKO VLADIMIR

IPC: H01S3/09 ,  G01J1/04 ,  G02B1/06 ,  G02B5/20 ,  G02B26/02 ,  G03F7/20 ,  G21K1/10 ,  H01S3/00 ,  H05H7/04

CPC classification number: G03F7/70033 ,  G01J1/0407 ,  G01J1/0418 ,  G01J1/26 ,  G01J1/429 ,  G02B1/06 ,  G02B5/205 ,  G02B26/023 ,  G03F7/70008 ,  G03F7/7055 ,  G03F7/70558 ,  G03F7/7085 ,  G21K1/10 ,  H01S3/005 ,  H01S3/0085 ,  H01S3/0903 ,  H05H7/04

Abstract: A method of patterning lithographic substrates, the method comprising using a free electron laser (FEL) to generate EUV radiation and delivering the EUV radiation to a lithographic apparatus (LA) which projects the EUV radiation onto lithographic substrates, wherein the method further comprises reducing fluctuations in the power of EUV radiation delivered to the lithographic substrates by using a feedback-based control loop (CT) to monitor the free electron laser and adjust operation of the free electron laser accordingly.

Abstract translation: 一种图案化平版印刷基板的方法，所述方法包括使用自由电子激光器（FEL）产生EUV辐射并将EUV辐射传送到将EUV辐射投影到平版印刷基板上的光刻设备（LA），其中所述方法还包括减小波动 通过使用基于反馈的控制回路（CT）来监测自由电子激光器并相应地调节自由电子激光器的操作，将EUV辐射的功率传递到光刻基板。

公开(公告)号：WO2010015508A3

公开(公告)日：2010-04-01

申请号：PCT/EP2009059398

申请日：2009-07-22

Applicant: ASML NETHERLANDS BV ,  SJMAENOK LEONID ,  BANINE VADIM ,  MOORS ROEL ,  GLUSHKOV DENIS ,  YAKUNIN ANDREI MIKHAILOVICH

Inventor： SJMAENOK LEONID ,  BANINE VADIM ,  MOORS ROEL ,  GLUSHKOV DENIS ,  YAKUNIN ANDREI MIKHAILOVICH

IPC: G03F7/20

CPC classification number: G03F7/70958 ,  G03F7/70191 ,  G03F7/702 ,  G03F7/70308 ,  G03F7/70575 ,  G03F7/70916

Abstract: A lithographic apparatus include an optical element that includes an oriented carbon nanotube sheet. The optical element has an element thickness in the range of about 20-500 nm and has a transmission for EUV radiation having a wavelength in the range of about 1-20 nm of at least about 20% under perpendicular irradiation with the EUV radiation. The oriented carbon nanotube sheet may be used per se as optical element, and may be designed to reduce debris and/or improve the ratio of EUV/non-desired radiation. The sheet, due to its strength, does not necessarily need a support. The optical element of the invention may be unsupported.

Abstract translation: 光刻设备包括包含定向碳纳米管片的光学元件。 光学元件的元件厚度在约20-500nm的范围内，并且在EUV辐射的垂直照射下具有用于具有在约1-20nm范围内的波长的至少约20％的EUV辐射的透射率。 取向的碳纳米管片本身可以用作光学元件，并且可以设计成减少碎片和/或改善EUV /非期望辐射的比率。 由于其强度，该片材不一定需要支撑。 本发明的光学元件可以不被支撑。