Abstract:
PURPOSE: A semiconductor device and a manufacturing method thereof are provided to detect the charge quantity of low amount suspension of power supply induced with sing photon. CONSTITUTION: A single electron box comprises a charge storage gate(120) changing charge with a first quantum dot(110) and also includes a first gate electrode(130) for controlling the electric potential of the first quantum dot on the charge storage gate. A single electron transistor comprises a second quantum dot(210) which is capacitively combined under the first quantum dot in the first quantum dot, source(220) touching in one side of the second quantum dot, a drain(230) touching other side corresponding to the one side, and a second gate electrode(240) controlling the electric potential of the second quantum dot under the second quantum dot.
Abstract:
본 발명은 멀티미디어 대용량 데이터의 고속 전송 및 프로세서에 의한 주변 장치의 신속한 제어를 가능케 하는 멀티미디어 시스템용 SoC 구조에 관한 것이다. 본 발명에 따른 SoC 시스템은, 프로세서와, 복수개의 주변 장치들과, 물리적으로 분할된 복수의 메모리들과, 상기 프로세서에서 상기 주변 장치들 및 상기 메모리들로 제어 신호를 전송하기 위한 제어 버스와, 상기 프로세서, 상기 주변 장치들 및 상기 메모리들간에 데이터 송수신하기 위한 데이터 버스와, 상기 제어 버스 및 상기 데이터 버스를 상기 프로세서에 연결하기 위한 브리지와, 상기 제어 버스에 연결되며 상기 메모리 각각을 제어하기 위한 복수의 메모리 제어기들과, 상기 데이터 버스 및 상기 제어 버스에 연결되며 상기 주변 장치들과 상기 메모리들간에 데이터 송수신을 제어하기 위한 직접 메모리 액세스(DMA) 제어기와, 상기 DMA 제어기와 상기 메모리 제어기들 사이에 연결되어 동시 다중 메모리 접속을 제공하는 매트릭스 스위치를 포함한다. 시스템 온 칩(SoC), 멀티미디어, 고속 통신
Abstract:
본 발명은 재구성 가능한 산술연산기 및 이를 구비한 고효율 프로세서에 관한 것으로서, 특히 가산기를 공유함으로써 명령어(Instruction)에 따라 덧셈 연산 또는 곱셈 연산을 수행할 수 있는 재구성 가능한 산술연산기 및 이를 구비한 고효율 프로세서에 관한 것이다. 본 발명에 따른 재구성 가능한 산술연산기는 승수를 인코딩하는 부스 인코더; 상기 인코딩된 승수 및 피승수에 기반하여 복수의 부분곱을 생성하는 부분곱 생성기; 상기 복수의 부분곱을 제 1 부분합 및 제 2 부분합으로 압축하는 웰러스 트리 회로; 선택신호에 따라 상기 제 1 부분합 및 제 1 덧셈 입력 중 하나를 선택하여 출력하는 제 1 먹스; 상기 선택신호에 따라 상기 제 2 부분합 및 제 2 덧셈 입력 중 하나를 선택하여 출력하는 제 2 먹스; 및 상기 제 1 먹스의 출력 및 상기 제 2 먹스의 출력을 이용하여 덧셈 연산을 수행하고 연산 결과를 출력하는 캐리 전파 가산기로 구성된다. 본 발명은 명령어에 따라 가산기 또는 곱셈기로 동작할 수 있는 산술연산기를 제공함으로써, 프로세서의 하드웨어 활용도를 높일 수 있다. 데이터패스, 산술연산기, 프로세서
Abstract:
An SoC(System on Chip) system for a multimedia system is provided to offer the quick control without influencing the data transmission through the efficient application of a bus structure and switch structure. An SoC comprises a processor(100), a plurality of peripheral devices(130), a plurality of memories(180), a control bus(120), a data bus(190), a bridge, a plurality of memory controllers(150), a DMA(Direct Memory Access) controller(140) and A matrix switch(170). The memory controllers control each of memories. The DMA controller controls the data transceiving between the peripheral devices and memories. The matrix switch is connected between the DMA controller and memory controllers to offer the simultaneous multiple memory access.
Abstract:
An SIMD(Single Instruction Multiple Data) parallel processor capable of performing an SIMD, an SISD(Single Instruction Single Data), a row and a column operation is provided to adapt efficiently instruction level parallelism by performing the SIMD, the SISD, the row and the column operation respectively according to an application field, and to have better usability, efficiency and flexibility. An SIMD parallel processor includes plural processing units connected to one another. Each processing unit includes an instruction register, an instruction decoder, a register file selection circuit, a function unit and an LSU(Load Store Unit). The instruction register stores instructions inputted via an instruction bus. The instruction decoder decodes the instructions stored by the instruction decoder, and generates a control signal for selecting one among the SIMD, the SISD, the row and the column operation in correspondence with the decoded instructions. The register file selection circuit enables a register file to be matched with the control signal and is operated for transferring data of the enabled register file to an internal output bus of the enabled register file. The function unit processes the data transferred via the internal output bus in response to the control signal. The LSU controls data IO with an external device connected to a data bus and the register file in response to the control signal.
Abstract:
A chamber condition monitoring method using a quadrupole mass spectrometer is provided to reduce a manufacturing time by performing a seasoning process or monitoring a change of states. A measuring process is performed to measure dissociated ions or mass and energy distribution of reaction kinds of plasma, and density of radicals by using a quadrupole mass spectrometer. A producing process is performed to produce relative distribution of the dissociated ions, and an ionization ratio of the plasma by using the measured results. The ionization ratio of the plasma, the relative distribution and ratio of the dissociated ions, and the density of the radicals are with a normal state of a plasma apparatus(S340). A seasoning process for the process chamber is performed to change a produced value to a normal range when the determined result exceeds the normal range(S350-S380).
Abstract:
본 발명은 실리콘 온 인슐레이터(Silicon On Insulator, 이하 'SOI'라 칭함) 기판의 제조방법에 관한 것으로, 제1 웨이퍼의 소정 깊이에 매립산화막층을 형성한 후 상기 제1 웨이퍼의 표면에 소정 두께의 산화막을 형성하는 단계와, 상기 제1 웨이퍼 상에 제2 웨이퍼를 접합시키는 단계와, 상기 제1 웨이퍼의 하부가 노출되도록 상기 산화막을 선택적으로 제거하는 단계와, 상기 매립산화막층을 식각정지층으로 이용하여 상기 노출된 제1 웨이퍼의 하부를 선택적으로 제거하는 단계와, 상기 매립산화막층을 제거하여 상기 제1 웨이퍼의 상부를 노출시킨 후, 상기 노출된 제1 웨이퍼의 상부를 소정 두께 제거하는 단계를 포함함으로써, 기존에 적용된 고비용의 화학기계적 연마(CMP)공정 등이 사용되지 않기 때문에 공정이 비교적 단순하고 실시가 용이하며, 고품질의 균일하고 초박막의 특성을 가지는 SOI 기판을 제조할 수 있는 효과가 있다. 나노 소자, 반도체, SOI, 실리콘웨이퍼, 매립산화막층, 산소이온
Abstract:
본 발명은 고에너지 효율 병렬 처리 데이터 패스 구조에 관한 것으로, 특히 고에너지 효율을 위해 다수의 병렬 프로세스 유닛 및 이 프로세스 유닛을 구성하는 다수의 펑크션 유닛을 명령어에 의해 제어하여 병렬 처리로 성능을 향상시킬 수 있고, 필요한 프로세스 유닛 및 펑크션 유닛만 사용하므로 소비 전력을 줄여 에너지 효율을 향상시킬 수 있는 저 전력/고 성능 병렬 처리 데이터 패스 구조를 제공한다. 또한 간단한 명령어 포맷으로 성능과 소비 전력을 동시에 만족할 수 있는 고 에너지 효율 병렬 처리 데이터 패스 구조로서 프로그램에 의하여 하드웨어를 구성할 수 있어 하드웨어 유연성이 우수하다. 프로세서, 병렬 처리, 데이터 패스, 명령어 포맷
Abstract:
본 발명은 실리콘 온 인슐레이터(Silicon On Insulator, 이하 'SOI'라 칭함) 기판의 제조방법에 관한 것으로, 표면에 산화막이 형성되고, 내부에 매립산화막층과 상기 매립산화막층의 하부에 수소매립층을 구비한 컨트롤 웨이퍼를 제작하는 단계와, 상기 컨트롤 웨이퍼의 산화막 상에 핸들 웨이퍼를 접합시키는 단계와, 상기 수소매립층 하부의 컨트롤 웨이퍼를 제거한 후 노출되는 컨트롤 웨이퍼를 소정 두께 제거하는 단계를 포함함으로써, 기존에 적용된 고비용의 화학기계적 연마(CMP)공정 등이 사용되지 않기 때문에 공정이 비교적 단순하고 실시가 용이하며, 고품질의 균일하고 초박막의 특성을 가지는 다중의 SOI 기판을 제조할 수 있는 효과가 있다. 나노 소자, 반도체, SOI, 실리콘웨이퍼, 매립산화막층, 수소매립층, 산소이온, 수소이온
Abstract:
본 발명은 반도체 기술에 관한 것으로, 특히 리튬이온 이차전지 보호회로, DC-DC 변환기, 모터 등에 사용되는 저전압 대전류 전력소자에 관한 것이며, 특히 고집적 트렌치 게이트 전력소자의 제조 방법에 관한 것이다. 본 발명은 공정을 단순화하고, 온-저항 특성을 개선할 수 있는 트렌치 게이트 전력소자 제조방법을 제공하는데 그 목적이 있다. 본 발명은 웰/소오스 형성을 위해 별도의 마스크를 사용하지 않고 트렌치 게이트 마스크만을 사용하여 먼저 웰 영역과 소오스 영역을 형성한 후 트렌치 게이트를 형성하는 기술이다. 트렌치 게이트를 중심으로 웰 영역과 소오스 영역을 형성함으로서 측면 접합 깊이가 자동으로 정렬되어 종래와 같이 웰 마스크와 소오스 마스크를 사용하여 제조하는 것에 비해 마스크 정렬 오차를 줄일 수 있어 고집적화가 가능하기 때문에 전력소자의 주요 변수인 온-저항을 낮출 수 있으며, 소요되는 마스크의 수를 6장에서 4~5장으로 줄여 공정을 단순화할 수 있다. 트렌치 게이트, 전력소자, 스페이서, 마스크, 온-저항