DISPOSITIF DE MEMOIRE VIVE DYNAMIQUE AVEC CIRCUITERIE AMELIOREE DE COMMANDE DES LIGNES DE MOTS.

    公开(公告)号:FR2959057A1

    公开(公告)日:2011-10-21

    申请号:FR1052969

    申请日:2010-04-20

    Abstract: Le dispositif de mémoire vive dynamique, comprend un plan-mémoire comprenant un ensemble de cellules-mémoire du type DRAM comportant plusieurs lignes de cellules-mémoire, et des moyens de sélection de ligne associés à chaque ligne ; les moyens de sélection de ligne comprennent un premier étage élévateur de tension (ET1A, ET1B) configuré pour recevoir deux signaux logiques de commande initiaux (DECO, PHI1) ayant chacun un niveau de tension initial correspondant à un premier état logique et pour délivrer deux signaux logiques de commande intermédiaires (DEC1, PHI1) ayant chacun un niveau de tension intermédiaire supérieur audit niveau initial et correspondant audit premier état logique, et un circuit de commande (CCM) avec élévation de tension destiné à être alimenté par le biais de transistors PMOS avec une tension d'alimentation ayant un deuxième niveau de tension supérieur au niveau intermédiaire, et configuré pour, en présence des deux signaux logiques de commande intermédiaires (DEC1, PHI1) ayant leur premier état logique, délivrer aux grilles des transistors des cellules-mémoire de ladite ligne (WL), un signal logique de sélection (SWL) ayant le deuxième niveau de tension.

    DETECTEUR DE MATIERE BIOLOGIQUE OU CHIMIQUE ET MATRICE DE DETECTEURS CORRESPONDANTE

    公开(公告)号:FR2952183A1

    公开(公告)日:2011-05-06

    申请号:FR0957688

    申请日:2009-10-30

    Abstract: L'invention concerne un détecteur de matière biologique ou chimique, comprenant un transistor MOS dont la région de canal (30) est insérée entre des grilles isolées supérieure (32) et inférieure (25), la grille isolée supérieure comprenant une couche de détection adaptée à générer une charge à l'interface de la grille isolée supérieure et de son isolant de grille, l'épaisseur de l'isolant de grille supérieure (34) étant inférieure à l'épaisseur de l'isolant de grille inférieure (23) .

    PROCEDE DE FABRICATION DE RESONATEURS BAW SUR UNE TRANCHE SEMICONDUCTRICE

    公开(公告)号:FR2951026A1

    公开(公告)日:2011-04-08

    申请号:FR0956868

    申请日:2009-10-01

    Abstract: L'invention concerne un procédé de fabrication d'une tranche sur laquelle sont formés des résonateurs (11), chaque résonateur comportant, au dessus d'un substrat semiconducteur (3), un empilement de couches comprenant, dans l'ordre à partir de la surface du substrat : un miroir de Bragg (7) ; une couche de compensation (13) en un matériau ayant un coefficient de température de la vitesse acoustique de signe opposé à celui de l'ensemble des autres couches de l'empilement ; et un résonateur piézoélectrique (5), ce procédé comportant les étapes successives suivantes : a) déposer la couche de compensation (13) ; et b) réduire les inégalités d'épaisseur de la couche de compensation liées au procédé de dépôt, de sorte que cette couche présente une même épaisseur à mieux que 2 % près, et de préférence à mieux que 1 % près, au niveau de chaque résonateur BAW.

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