公开(公告)号：KR1020010067381A

公开(公告)日：2001-07-12

申请号：KR1020000076972

申请日：2000-12-15

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 기타노다카히로 ,  모리카와마사테루 ,  에사키유키히코 ,  이시자카노부카즈 ,  고가노리히사 ,  다케시타가즈히로 ,  오쿠마히로후미 ,  아키모토마사미

IPC: H01L21/027

CPC classification number: H01L21/6715

Abstract: PURPOSE: A Film forming apparatus is provided to completely remove fine fouling adherent to the discharge opening of a coating liquid discharging nozzle even when the opening is minute. CONSTITUTION: A cleaning block is installed freely vertically movably in the moving range of the nozzle(85). A cleaning space is formed on the upper surface of the block. An opened ejection port for the coating liquid is formed in the inside surface of the space, and an opened suction port for sucking air around the discharge opening(94) of the nozzle(85) is formed in the bottom surface of the space. A projection part which comes into contact with the nozzle plate(95) of the nozzle(85) during cleaning is formed on the upper surface of the block. In cleaning, the lower surface of the nozzle(85) is brought into contact with the upper surface of the block.

Abstract translation: 目的：提供一种成膜装置，即使当开口很小时也能完全除去附着在涂液排出嘴的排出口上的细污垢。 构成：清洁块在喷嘴（85）的移动范围内可自由上下移动地安装。 在块的上表面上形成清洁空间。 在空间的内表面上形成用于涂布液体的打开的喷射口，并且在空间的底面形成有用于在喷嘴（85）的排出口（94）周围吸引空气的打开的吸入口。 在清洁过程中与喷嘴（85）的喷嘴板（95）接触的突起部分形成在块体的上表面上。 在清洁中，喷嘴（85）的下表面与块的上表面接触。

公开(公告)号：KR101845091B1

公开(公告)日：2018-04-03

申请号：KR1020120097546

申请日：2012-09-04

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 고가노리히사

IPC: H01L21/66

Abstract: 본발명은, 기판의이면의일부를지지하여기판의이면을검사하는경우에, 기판의이면의전역을촬상할수 있는기판촬상장치및 기판촬상방법을제공하는것을그 과제로한다. 기판을검사하기위해상기기판을촬상하는기판촬상장치로서, 상기기판의이면을지지하는복수의지지부재를갖는기판지지부와, 상기기판지지부에의해상기기판의이면을지지한상태로상기기판의이면을연속적으로촬상하는촬상수단과, 상기촬상수단의촬상영역에상기기판지지부의지지부재가위치하는경우에, 상기지지부재를상기촬상영역의범위밖으로이동시키는이동수단을갖는것을특징으로하는기판촬상장치에의해상기과제가달성된다.

公开(公告)号：KR101810268B1

公开(公告)日：2017-12-18

申请号：KR1020130000614

申请日：2013-01-03

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 고가노리히사

IPC: H01L21/027

Abstract: 본발명은원형웨이퍼(W)의주연노광처리를행함에있어서, 회전축(12)의축 흔들림이나웨이퍼(W)의휘어짐에관계없이, 웨이퍼(W)의주연부에있어서예정되어있는영역에만노광을행하는것을목적으로한다. 원형웨이퍼(W)를회전스테이지(11)에유지하고, 웨이퍼(W)의주연을노광함에있어서, 웨이퍼(W)의면과공간을두고대향하는가이드면부(46)를설치하고, 상기공간에가이드면부(46)를따른와기류를형성하여상기가이드면부(46)와웨이퍼(W) 사이에진공흡인력을발생시키는베르누이효과를이용하여, 기판의주연부를수평으로유지하도록하고있다. 이때문에, 회전스테이지(11)의회전축(12)의축 흔들림이나웨이퍼(W)의휘어짐에관계없이, 웨이퍼(W)의주연부에있어서예정되어있는영역에만노광을행할수 있어, 박막의주연에서볼록해지는등의문제점을억제할수 있다.

Abstract translation: 本发明的用于仅在其中在作品边缘预期的区域进行曝光，圆形晶片（W），转动轴线12的周缘的曝光处理中，在晶片（W），而不管uichuk振动的弯曲和晶片（W）义州 而为宗旨。 将圆形的晶圆W保持在旋转台11上，在使晶圆W的周缘露出的状态下，设有与晶圆W的表面相对的空间的导向面部分46， 通过使用通过沿着表面部分46形成气流而在引导表面部分46和晶片W之间产生真空吸力的伯努利效应来将基板的周边水平地保持。 因此，无论旋转台11的旋转轴12的摇动和晶片W的翘曲如何，都能够仅在晶片W所在的晶片W的区域进行曝光， 可以抑制凸面等问题。

公开(公告)号：KR1020130059262A

公开(公告)日：2013-06-05

申请号：KR1020120097546

申请日：2012-09-04

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 고가노리히사

IPC: H01L21/66

Abstract: PURPOSE: A substrate imaging apparatus and a substrate imaging method are provided to successively photograph the back surface of a substrate. CONSTITUTION: A substrate support part(10) is contacted with a part of the back surface of the substrate to support the substrate. The substrate support part has a first support member(11a,11b,11c) and a second support member(12a,12b,12c). A photographing part(30) has an image unit(31) and a beam scanning unit(32) which successively photographs the back surface of the substrate. The photographing part has a camera(31C), a light source(31La,31Lb), and a mirror(31M). The beam scanning unit has a beam scanner(32S) and a base(32B) for moving the beam scanner.

Abstract translation: 目的：提供基板成像装置和基板成像方法，以连续地拍摄基板的背面。 构成：衬底支撑部分（10）与衬底的背面的一部分接触以支撑衬底。 基板支撑部分具有第一支撑构件（11a，11b，11c）和第二支撑构件（12a，12b，12c）。 拍摄部分（30）具有连续拍摄基板的背面的图像单元（31）和光束扫描单元（32）。 拍摄部具有相机（31C），光源（31La，31Lb）和反射镜（31M）。 光束扫描单元具有用于移动光束扫描器的光束扫描器（32S）和基座（32B）。

公开(公告)号：KR1020120133999A

公开(公告)日：2012-12-11

申请号：KR1020120045224

申请日：2012-04-30

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 히사노가즈야 ,  도미따히로시 ,  고가노리히사 ,  니시야마다다시 ,  하야까와마꼬또

IPC: H01L21/66

CPC classification number: G01N21/956 ,  G01N21/8806 ,  G01N21/93 ,  G01N21/9501 ,  G01N2021/9513 ,  G06T7/0004

Abstract: PURPOSE: A substrate inspection apparatus, a substrate inspection method, and a storage medium are provided to prevent an inspection problem of a substrate due to illumination degradation in a lighting part without transferring a controlling substrate to the apparatus. CONSTITUTION: A mode selection part(46) selects a mode from a loading table inspection mode and a maintenance mode. A light guiding member is installed within a housing and guides light of a lighting part to an image pickup device. A determination part determines whether or not the brightness of the light in the lighting part acquired by the image pickup device is in a predetermined tolerance range using the light guiding member when the maintenance mode is executed. A notifying part(45) notifies that it is necessary to have the exchange of the lighting part when the determination part determines the brightness of the light is beyond the predetermined tolerance range. [Reference numerals] (30,HH) Image pickup device 1-2048; (32) Lens; (34) A/D converter; (35) Output correction part; (36) Signal processing part; (37) Converting part; (4) Control part; (42) CPU; (43) Program storing part; (45) Display part(notifying part); (46) Input part; (51) Program for an inspection mode; (52) Program for a maintenance mode; (53) Target value of brightness, upper bound of a indication value, and tolerance range of the difference from the target value; (55) Lamp exchange date; (56) Reference data; (62) Elapsed time of the indication value; (63) Need or not need for lamp exchange, the presence of indication value change; (AA) Image pickup device; (BB) Digital value(0-255); (CC) Brightness(0-255); (DD) Correction value; (EE) Indication value; (FF) Indication value setting data; (GG) Determined indication value; (II) Brightness α-γ

Abstract translation: 目的：提供基板检查装置，基板检查方法和存储介质，以防止由于照明部分的照明劣化而导致的基板的检查问题，而不将控制基板传送到设备。 构成：模式选择部（46）从装载台检查模式和维护模式中选择模式。 导光构件安装在壳体内并将照明部分的光引导到图像拾取装置。 确定部件确定当执行维护模式时，由图像拾取装置获取的照明部分中的光的亮度是否在使用导光部件的预定公差范围内。 通知部件（45）通知当确定部件确定光的亮度超过预定公差范围时，需要更换照明部件。 （附图标记）（30，HH）图像拾取装置1-2048; （32）镜头; （34）A / D转换器; （35）输出校正部; （36）信号处理部分; （37）转换件; （4）控制部分; （42）CPU; （43）程序存储部分; （45）显示部（通知部）; （46）输入部分; （51）检查模式程序; （52）维护方式的程序; （53）亮度的目标值，指示值的上限，以及与目标值的差的公差范围; （55）灯交换日期; （56）参考数据; （62）指示值的经过时间; （63）需要或不需要灯交换，指示值存在变化; （AA）摄像装置; （BB）数字值（0-255）; （CC）亮度（0-255）; （DD）校正值; （EE）指示值; （FF）指示值设定数据; （GG）确定指示值; （II）亮度α＆ggr;

公开(公告)号：KR1020120008447A

公开(公告)日：2012-01-30

申请号：KR1020110068788

申请日：2011-07-12

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 고가노리히사

IPC: H01L21/66 ,  G01N21/956 ,  G01B11/30 ,  H01L21/027

CPC classification number: H01L21/6715 ,  H01L21/67288 ,  G01B11/303 ,  G01B11/306 ,  G01N2021/9563 ,  G01N2021/95638 ,  G03F1/60 ,  H01L21/0274 ,  H01L22/10 ,  H01L22/24

Abstract: PURPOSE: A substrate processing apparatus, a substrate processing method, and a program and computer memory storage medium are provided to acquire a high resolution image without image deformation in a substrate inspection process after a peripheral exposure process, thereby improving the throughput of substrate processing processes including the inspection process. CONSTITUTION: A retention part(120) which retains a substrate(W) is installed in the inside of a processing container(110). A rotation driving part(121) rotates the substrate retained in the retention part. A light exposure part(140) exposes the peripheral part of a coating film on the substrate which is retained in the retention part. An imaging part(150) photographs an image of the substrate retained in the retention part. A direction change part(153) changes the direction of a light path arranged between the imaging part and the substrate retained in the retention part.

Abstract translation: 目的：提供基板处理装置，基板处理方法以及程序和计算机存储器存储介质，以在外围曝光处理之后的基板检查处理中获取没有图像变形的高分辨率图像，从而提高基板处理工艺的生产量 包括检查过程。 构成：将保持基板（W）的保持部（120）安装在处理容器（110）的内部。 旋转驱动部（121）旋转保持在保持部的基板。 曝光部（140）使被保持在保持部的基板上的涂膜的周边部露出。 成像部件（150）拍摄保留在保持部件中的基板的图像。 方向改变部（153）改变配置在成像部和保持在保持部中的基板之间的光路的方向。

公开(公告)号：KR100892008B1

公开(公告)日：2009-04-07

申请号：KR1020020053729

申请日：2002-09-06

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 기타노다카히로 ,  가와후치요시유키 ,  고가노리히사 ,  다케이도시치카

IPC: H01L21/027

CPC classification number: H01L21/6715

Abstract: 기판에 대하여 약액을 공급하고, 해당 약액의 액막을 형성하는 장치에 있어서, 기판표면으로의 파티클 부착을 억제함과 동시에 기판표면에 형성되는 도포막의 제품수율을 향상시키는 것.
좌우방향으로 이동 가능한 노즐부와, 전후방향으로 이동 가능한 기판유지부에 의해 유지되는 기판과의 사이에 슬릿을 가지는 플레이트를 설치하고, 슬릿의 좌우끝단에는 슬릿바깥쪽으로 공급되는 도포액으로부터 미스트가 발생하는 것을 억제하는 충격완화부를 구비함과 동시에, 그 표면에서 받아낸 도포액을 씻어 버리는 것이 가능한 한 쌍의 셔터를 설치한다. 또한 슬릿근방위치에는 상기 노즐부의 이동영역에 대응하는 범위에 걸쳐 흡인구가 설치되어 있고, 노즐부의 스캔도포시에 생기는 미스트를 흡인하도록 구성된다. 또한 플레이트에는 하강류를 슬릿바깥쪽으로 분산시키기 위한 슬릿이 형성된다.

公开(公告)号：KR100680439B1

公开(公告)日：2007-02-08

申请号：KR1020000076972

申请日：2000-12-15

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 기타노다카히로 ,  모리카와마사테루 ,  에사키유키히코 ,  이시자카노부카즈 ,  고가노리히사 ,  다케시타가즈히로 ,  오쿠마히로후미 ,  아키모토마사미

IPC: H01L21/027

CPC classification number: H01L21/6715

Abstract: 본 발명의 막형성 장치에 있어서 토출노즐은 대략 통형상의 지지부재와, 지지부재의 기판측의 면에 지지되고, 또한, 기판측의 면을 폐쇄하는 박판 또는 박판부를 갖고, 이들의 박판 혹은 박판부에, 도포액을 토출하기 위한 토출구가 설치되어 있다. 레이저 가공, 펀치 등에 의해, 종래의 사출성형 가공에 의해서도 미소한 토출구를 박판 또는 박판부에 형성하는 것이 가능하다. 도포액의 토출량이나 기판상의 토출 영역을 보다 세밀하게 제어할 수 있다.
본 발명의 막 형성 장치는 토출노즐을 세정하는 세정장치를 갖고, 토출노즐의 토출구에 대하여 세정용의 세정액을 분출시키는 세정액 분출기구와, 토출구 부근의 분위기를 흡인하는 흡인기구를 갖는다. 토출구에 부착된 오염물은 종래에 비해 보다 완전하게 제거된다. 따라서, 토출구의 직경이 미소일지라도, 효과적으로 세정할 수 있다. 토출구로 분출된 세정액을 흡인기구에 의해 흡인하여 이것을 적절하게 배출할 수 있고, 세정액의 비산 또는 토출구 주변의 오염이 방지된다.

Abstract translation: 在本发明的膜形成装置中的排放喷嘴被支撑在筒状的左右的支撑构件，并且所述构件的支撑基板侧，并且还的表面上，具有金属片或金属片的部分用于封闭所述基板的表面上，那些薄板或薄板的 设置用于排出涂布液的排出口。 激光加工，冲孔等，可以通过传统的注射成型工艺在薄板或薄板部分上形成微小的排出口。 可以精细地控制涂布液的排放量和衬底上的排放区域。