公开(公告)号：KR1020160130359A

公开(公告)日：2016-11-11

申请号：KR1020160142920

申请日：2016-10-31

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 나카미조겐지 ,  모리타사토시

IPC: H01L21/67 ,  H01L21/66

CPC classification number: H01L21/67259

Abstract: 본발명은기판의막종, 표면상태, 기판의검출위치등에영향받지않고, 기판의유지상태를정확히검출할수 있는기판처리장치를제공하는것을과제로한다. 기판을처리하는기판처리장치는, 기판이배치되는배치대(32)와, 상기배치대상의상기기판의표면에광을조사하는광원(88)과, 상기기판의표면에서반사된광량을검출하는검출부(89)와, 검출된상기광량의검출값이미리정해진값보다작은지의여부를판정하는판정처리를복수의위치에서행하여, 상기검출값이상기정해진값보다작다고판정된횟수의합계가미리정해진횟수에도달했을때, 상기기판의유지상태가정상이아니라고판정하는제어부(100)를갖는다.

Abstract translation: 本发明提供一种基板处理装置，其具备配置有基板的配置台， 光源，被配置为将光照射在所述放置单元上的所述基板的表面上; 检测器，被配置为检测从所述基板反射的光量; 以及控制单元，被配置为执行确定光量的检测值是否小于多个位置处的预定值的确定处理，并且当总共次数确定基板的保持状态异常时 确定检测值小于预定值的确定达到预定次数。

公开(公告)号：KR1020130056177A

公开(公告)日：2013-05-29

申请号：KR1020120128711

申请日：2012-11-14

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 마츠모토슈헤이 ,  이와나가슈지 ,  도미타히로시 ,  나카미조겐지 ,  모리타사토시

IPC: H01L21/302 ,  H01L21/683 ,  H01L21/027

CPC classification number: H01L21/67023 ,  G05D3/00 ,  H01L21/67051 ,  H01L21/6708 ,  H01L21/67259 ,  H01L21/0273 ,  H01L21/302 ,  H01L21/6835

Abstract: PURPOSE: A substrate processing apparatus, a substrate processing method, and a computer readable storage medium with a substrate processing program are provided to accurately determine the state of a substrate regardless of the materials and the surface state of the substrate. CONSTITUTION: A substrate maintaining unit(22) maintains a substrate(2). A substrate maintaining device(30) horizontally maintains the substrate loaded on a table(29). A rotating device(31) rotates the substrate which is horizontally maintained on the table. A photographing unit(25) is composed of a light(55) and a camera(54) attached to a casing(53) of a substrate processing chamber(14). A control unit(26) determines the state of the substrate maintained by the substrate maintaining unit based on an image photographed by the camera.

Abstract translation: 目的：提供具有基板处理程序的基板处理装置，基板处理方法和计算机可读取存储介质，以准确地确定基板的状态，而与基板的材料和表面状态无关。 构成：衬底保持单元（22）保持衬底（2）。 基板保持装置（30）水平地维持载置在工作台（29）上的基板。 旋转装置（31）使水平地保持在桌子上的基板旋转。 拍摄单元（25）由安装在基板处理室（14）的壳体（53）上的光（55）和照相机（54）构成。 控制单元（26）基于由照相机拍摄的图像确定由基板保持单元维持的基板的状态。

公开(公告)号：KR1020170113098A

公开(公告)日：2017-10-12

申请号：KR1020170029940

申请日：2017-03-09

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 아마노요시후미 ,  모리타사토시 ,  이케베료지 ,  미야모토이사무

IPC: H01L21/02 ,  H01L21/67 ,  H01L21/687 ,  H01L21/66

CPC classification number: H01L21/02087 ,  G05B19/402 ,  G05B2219/45031 ,  H01L21/67023 ,  H01L21/6708 ,  H01L21/67253 ,  H01L21/67259 ,  H01L22/12 ,  H01L22/20

Abstract: 제거해야할 주연부의막의종별에의존하지않고, 신속하게주연부의막이적절히제거되어있는지를판단할수 있다. 상기기판(W)의막의종별에관한정보를취득하는취득공정(S502)과, 미리기억부에기억된측정용설정의테이블중에서, 상기취득한막의종별에대응하는측정용설정을선택하는선택공정(S503)과, 상기선택공정에서선택된측정용설정을사용하여상기촬상부(270)에상기기판의주연부를촬영하도록제어하는제어공정(S504)을구비한다.

Abstract translation: 可以快速判断周边部分的膜是否被正确地移除而不取决于要移除的周边部分的膜的类型。 用于获取在所述基板（W）uimak的类型的信息，从所述测量配置的表，用于存储预先存储的部分的获取步骤（S502）的选择处理中，选择测量设置为对应于所得到的膜型（ 以及控制步骤（S504），控制成像单元（270）使用在选择步骤中选择的测量设置来拍摄基板的周边部分。

公开(公告)号：KR1020170113097A

公开(公告)日：2017-10-12

申请号：KR1020170029936

申请日：2017-03-09

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 아마노요시후미 ,  모리타사토시 ,  이케베료지 ,  미야모토이사무

IPC: H01L21/02 ,  H01L21/67 ,  H01L21/66

CPC classification number: H01L21/02087 ,  B08B3/08 ,  G03B13/32 ,  G03B17/08 ,  H01L21/6704 ,  H01L21/6708 ,  H01L21/67253 ,  H01L21/67259 ,  H01L22/12 ,  H01L22/20

Abstract: 기판의주연부에대향한위치에촬상장치를배치해도양호한촬상을할 수있도록한다. 기판(W)의주연부의막을제거하는처리를행하는기판처리장치(16)로서, 상기기판을유지하여회전시키는회전유지부(210)와, 상기회전유지부에의해기판이제 1 회전방향(R)으로회전하고있을때, 상기기판의주연부에상기막을제거하기위한제 1 처리액을공급하는제 1 처리액공급부(250A)와, 상기제 1 회전방향에관하여상기기판에있어서의제 1 처리액의도달영역(902)보다앞의위치에설치되고상기기판의주연부를촬상하는촬상부(270)를구비한다.

Abstract translation: 因此，即使将摄像元件配置在与基板周边相对的位置上，也能够得到良好的图像。 的基板（W）作为基板处理装置16执行去除义州边缘的膜，旋转保持部210的过程中，衬底现在是一个旋转方向（R）由所述旋转固定单元，用于保持和旋转所述衬底 当在衬底中的第一处理液的范围相对于旋转到第一处理剂供给用于在基板的周缘，第一旋转方向去除所述薄膜供应第一处理液部（250A） 摄像单元270设置在区域902前方的位置处并捕获基板的周边部分。

公开(公告)号：KR101678252B1

公开(公告)日：2016-11-21

申请号：KR1020120128711

申请日：2012-11-14

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 마츠모토슈헤이 ,  이와나가슈지 ,  도미타히로시 ,  나카미조겐지 ,  모리타사토시

IPC: H01L21/302 ,  H01L21/683 ,  H01L21/027

CPC classification number: H01L21/67023 ,  G05D3/00 ,  H01L21/67051 ,  H01L21/6708 ,  H01L21/67259

Abstract: 본발명은기판의재질이나표면상태등의영향을받는일없이기판의유지상태의양부를정확하게판단할수 있는기판처리장치를제공하는것을과제로한다. 본발명에서는, 기판(2)을유지하는기판유지수단(22)과, 상기기판유지수단(22)에서상기기판(2)을정상적으로유지했을때에상기기판(2)의끝가장자리부가존재하는영역을촬영하는카메라(54)와, 상기카메라(54)로촬영된화상에기초하여상기기판유지수단(22)에의한상기기판(2)의유지상태를판단하는제어수단(26)을갖는것으로했다.

公开(公告)号：KR100539187B1

公开(公告)日：2006-03-20

申请号：KR1019970073699

申请日：1997-12-24

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 기무라요시오 ,  모리타사토시 ,  마쓰야마유지 ,  셈바노리오

IPC: H01L21/00

Abstract: 1. 청구범위에 기재된 발명이 속하는 기술분야
처리액 공급기구
2. 발명이 해결하려고 하는 기술적 과제
다수개의 처리장치로 처리액을 공급할 수 있으며, 탈기부재가 처리액에 침지되어 있음으로써, 높은 효율로 현상액을 탈기할 수 있는 신규하고 개선된 처리액 공급기구를 제공함.
3. 발명의 해결방법의 요지
처리액을 담은 탱크와, 탱크로부터 장치로 처리액을 공급하기 위한 공급경로와, 처리장치내에 마련된 처리액 토출부재로 처리액을 공급하기 위하여 공급경로에 접속된 분기경로 및 분기경로에 마련된 밸브로 각각 구성된다. 밸브들은 상호간에 하나의 처리장치의 처리액 토출부재가 기판에 처리액을 토출하는 동안 다른 장치의 처리액 토출부재가 기판에 처리액을 토출하도록 상기 분기경로를 개폐하기 위하여 제어된다.
4. 발명의 중요한 용도
반도체제조장치등의 레지스트도포막 현상처리장치등에 사용됨.

公开(公告)号：KR1019960039199A

公开(公告)日：1996-11-21

申请号：KR1019960012023

申请日：1996-04-19

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 기무라요시오 ,  모리타사토시 ,  마츠야마유지

IPC: H01L21/312

Abstract: 본 발명은 피처리체를 스핀척에 얹어서 피처리체 표면에 처리액을 도포하는 스피너형의 도포장치에 관한 것으로서, 컵(DC)내에서 기액분리를 실시하지 않고 컵으로부터 공통의 배출수단(122a)(122b)을 통하여 폐액과 배기가스 함께 저장수단(124a)(124b)에 보내어지고, 그 저장수단에서 폐액과 배기가스의 분리가 실시되며, 이에 따라 컵내에서 페액이 고체화하거나 막히는 일이 없어지고, 또 본 장치의 저장수단에서 항상 소정량의 저장수가 저장되어 있기 때문에 폐액의 액면에 미스트를 흡수시킬 수 있으며, 또한 저장수단내에서의 폐액의 고체화를 방지할 수 있으며, 또 장치가 정지하고 있을 때에도 열림정도 조정이 가능한 배기댐퍼에 의해 최소한의 배기가 실시되기 때문에 저장수단내에서 저장수를 응고시키는 일 없이 기화한 저장수를 적절히 배기할 있는 것을 특징으로 한다.

公开(公告)号：KR1019960030434A

公开(公告)日：1996-08-17

申请号：KR1019960000126

申请日：1996-01-05

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 마쯔야마유우지 ,  쓰네마쯔구니에 ,  후쿠다다카히데 ,  이즈미시니치로 ,  기무라요시오 ,  모리타사토시

IPC: H01L21/027

Abstract: 처리제를 처리장치로 공급하는 장치는 액체 처리제를 저장하는 탱크와 탱크속에 구비되어 나선형 관에 의해 형성되는 열교환기를 가지고 있다. 질소가스(N
2 가스)가 탱크 속으로 도입되어 액체 처리제를 증발시킨다. 물은 열교환기의 하부에 연결된 유체 도입관으로부터 열교환기의 나선형관을 통해 열교환기의 상부에 연결된 유체 배출관으로 공급된다. 열교환기에서 물과 액체 처리제 사이의 열교환은 매우 효율적으로 수행된다. 전기를 사용하지 않아 안정성이 매우 높다. 버블링 공정에 의해 기체상태로 변화되는 액체 처리제의 온도는 효율적으로 제어되며, 탱크속에서 기화된 처리제의 농도는 안정화된다.