公开(公告)号：KR1020120023517A

公开(公告)日：2012-03-13

申请号：KR1020110066928

申请日：2011-07-06

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 하야시도쿠타료 ,  사카구치기미나리

IPC: H01L21/677 ,  B65G49/07 ,  B25J13/08 ,  G06F19/00

CPC classification number: H01L21/681 ,  H01L21/68 ,  H01L21/67742 ,  H01L21/68707 ,  Y10S414/141

Abstract: PURPOSE: A substrate transfer apparatus, a substrate transfer method thereof, and a recording medium in which a program for executing the substrate transfer method is recorded are provided to detect a substrate position deviation amount with high precision, thereby easily correcting the deviation amount. CONSTITUTION: A maintenance part(3A) maintains a substrate(W). The maintenance part is installed in order to be transferred from/to a base. Four or more detection parts(5A,5B,5C,5D) respectively detect a location of a peripheral part of the substrate at different locations. The detection part is comprised of a light source and linear image sensors(52A,52B,52C,52D). A controller calculates the center position of the substrate based on the location of the peripheral part.

Abstract translation: 目的：提供记录基板转印方法的程序的基板转印装置及其基板转印方法以及记录介质，以高精度检测基板位置偏差量，从而容易地校正偏差量。 构成：维护部件（3A）维持基板（W）。 安装维护部件以从基座转移到基座。 四个或更多个检测部分（5A，5B，5C，5D）分别在不同位置检测基板的周边部分的位置。 检测部分由光源和线性图像传感器（52A，52B，52C，52D）组成。 控制器基于周边部件的位置来计算基板的中心位置。

公开(公告)号：KR100797721B1

公开(公告)日：2008-01-23

申请号：KR1020010067417

申请日：2001-10-31

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 도미타히로시 ,  오가타구니에 ,  사카구치기미나리 ,  이와시타야스하루 ,  우에무라료이치 ,  나카쓰루마사히로

IPC: H01L21/027

CPC classification number: H01L21/67253

Abstract: 도포 유닛에 있어서 도포액의 종류는 같지만 목표 막두께가 다른 생산라인용 레시피와 막두께 측정용 레시피를 복수 준비하고, 이들 중 도포액의 종류 및 목표 막두께가 대응하는 것에 관하여 공통의 스핀커브에 링크시킨다. 그리고 막두께 측정용 레시피를 실행하여 막두께 측정 데이터마다 회전수의 보정치를 산출한다. 각 레시피의 회전수 설정치는 이 보정치를 사용함으로써 일괄하여 보정할 수 있다.

公开(公告)号：KR101790867B1

公开(公告)日：2017-10-26

申请号：KR1020160022561

申请日：2016-02-25

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 하야시도쿠타료 ,  사카구치기미나리

IPC: H01L21/677 ,  H01L21/66 ,  H01L21/68 ,  H01L21/683

CPC classification number: H01L21/681 ,  H01L21/68

Abstract: 본발명은, 기판의주연부에절결이있는기판을포크에의해유지하고, 반송할때에, 기판위치의어긋남량을정밀도좋게검출할수 있어, 그어긋남량을용이하게보정할수 있고, 포크의상태를동시에확인하여보정할수 있는기판반송장치를제공하는것을과제로한다. 베이스와, 베이스로부터진퇴가능하게설치되고, 기판(W)을유지하는유지부(3A)와, 유지부(3A)가기판(W)을유지한상태에서후퇴했을때에, 유지부(3A)가유지하고있는기판(W)의주연부의위치를, 각각상이한위치에서검출하는 4개이상의검출부(5)와, 검출부(5)가주연부의위치를검출한검출값에기초하여, 검출부(5) 중어느것이기판(W)의주연부의절결이형성된부분(WN)을검출했는지여부를판정하여, 하나의검출부(5)가절결이형성된부분(WN)을검출했다고판정했을때에, 하나의검출부(5) 이외의 3개의검출부(5)의검출값에기초하여, 다음처리유닛에반송할때에처리유닛의기판(W)의전달위치에보정하는, 제어부를갖는다.

公开(公告)号：KR101601510B1

公开(公告)日：2016-03-11

申请号：KR1020140143481

申请日：2014-10-22

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 하야시도쿠타료 ,  사카구치기미나리

IPC: H01L21/677 ,  H01L21/68 ,  B25J13/08 ,  G06F19/00

CPC classification number: H01L21/681 ,  H01L21/68

Abstract: 본발명은, 기판의주연부에절결이있는기판을포크에의해유지하고, 반송할때에, 기판위치의어긋남량을정밀도좋게검출할수 있어, 그어긋남량을용이하게보정할수 있고, 포크의상태를동시에확인하여보정할수 있는기판반송장치를제공하는것을과제로한다. 베이스와, 베이스로부터진퇴가능하게설치되고, 기판(W)을유지하는유지부(3A)와, 유지부(3A)가기판(W)을유지한상태에서후퇴했을때에, 유지부(3A)가유지하고있는기판(W)의주연부의위치를, 각각상이한위치에서검출하는 4개이상의검출부(5)와, 검출부(5)가주연부의위치를검출한검출값에기초하여, 검출부(5) 중어느것이기판(W)의주연부의절결이형성된부분(WN)을검출했는지여부를판정하여, 하나의검출부(5)가절결이형성된부분(WN)을검출했다고판정했을때에, 하나의검출부(5) 이외의 3개의검출부(5)의검출값에기초하여, 다음처리유닛에반송할때에처리유닛의기판(W)의전달위치에보정하는, 제어부를갖는다.

公开(公告)号：KR1020140130094A

公开(公告)日：2014-11-07

申请号：KR1020140143481

申请日：2014-10-22

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 하야시도쿠타료 ,  사카구치기미나리

IPC: H01L21/677 ,  H01L21/68 ,  B25J13/08 ,  G06F19/00

CPC classification number: H01L21/681 ,  H01L21/68 ,  H01L21/67745

Abstract: 본 발명은, 기판의 주연부에 절결이 있는 기판을 포크에 의해 유지하고, 반송할 때에, 기판 위치의 어긋남량을 정밀도 좋게 검출할 수 있어, 그 어긋남량을 용이하게 보정할 수 있고, 포크의 상태를 동시에 확인하여 보정할 수 있는 기판 반송 장치를 제공하는 것을 과제로 한다.
베이스와, 베이스로부터 진퇴 가능하게 설치되고, 기판(W)을 유지하는 유지부(3A)와, 유지부(3A)가 기판(W)을 유지한 상태에서 후퇴했을 때에, 유지부(3A)가 유지하고 있는 기판(W)의 주연부의 위치를, 각각 상이한 위치에서 검출하는 4개 이상의 검출부(5)와, 검출부(5)가 주연부의 위치를 검출한 검출값에 기초하여, 검출부(5) 중 어느 것이 기판(W)의 주연부의 절결이 형성된 부분(WN)을 검출했는지 여부를 판정하여, 하나의 검출부(5)가 절결이 형성된 부분(WN)을 검출했다고 판정했을 때에, 하나의 검출부(5) 이외의 3개의 검출부(5)의 검출값에 기초하여, 다음 처리 유닛에 반송할 때에 처리 유닛의 기판(W)의 전달 위치에 보정하는, 제어부를 갖는다.

Abstract translation: 本发明的目的是提供一种基板传送装置，其可以通过叉子在圆周部分保持具有弯曲纹理的基板，并且可以精确地检测在转印基板时基板位置的不一致量，从而容易地补偿未对准的基板 位置，检查叉的状态，并同时补偿叉。 基板传送装置包括基座; 维修单元（3A），其从所述基座安装以可前后移动并维持基板（W）; 四个或更多个检测单元（5）当维护单元（3A）在保持基板（W）的同时移回时，从不同的位置检测由维护单元（3A）保持的基板的圆周部分的位置; 以及控制单元，基于由所述检测单元（5）检测到的圆周部位置值，确定所述检测单元（5）中的一个是否已经检测到形成有弯曲纹理的基板的圆周部分的部分（WN） 并且如果确定检测单元（5）中的一个具有检测到的部分（WN），则基于由其余部件检测到的值将基板传送到下一个处理单元时补偿处理单元的基板（W）转移位置 的三个检测单元（5）。

公开(公告)号：KR100687949B1

公开(公告)日：2007-02-27

申请号：KR1020060094084

申请日：2006-09-27

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 미야자키게이 ,  우치하마유이치로 ,  야스다겐지 ,  사카구치기미나리 ,  나가시마신지

IPC: H01L21/263

CPC classification number: H01L21/67115 ,  H01L21/67109

Abstract: 웨이퍼(W) 상에 형성된 절연막 재료 표면에 자외선을 조사하는 처리를 실시하는 것에 의해, 그 표면의 접촉각이 작아진다. 따라서, 그 위에 절연막 재료를 도포할 때에 재료가 부드럽게 확장하고, 상층 절연막 재료의 표면에 요철이 생기지 않게 된다. 이것에 의해, 기판 상에 절연막을 두껍게, 그리고 보다 평탄하게 형성할 수 있다.

Abstract translation: 在晶片W上形成的绝缘膜材料的表面上照射紫外线以减小绝缘膜材料表面的接触角。 因此，当绝缘膜材料被施加到其上时，材料平滑地膨胀，并且上绝缘膜材料的表面不具有凹凸。 这使得可以在基板上形成更厚且更平坦的绝缘膜。

公开(公告)号：KR1020060108587A

公开(公告)日：2006-10-18

申请号：KR1020060094084

申请日：2006-09-27

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 미야자키게이 ,  우치하마유이치로 ,  야스다겐지 ,  사카구치기미나리 ,  나가시마신지

IPC: H01L21/263

CPC classification number: H01L21/67115 ,  H01L21/67109

Abstract: 웨이퍼(W) 상에 형성된 절연막 재료 표면에 자외선을 조사하는 처리를 실시하는 것에 의해, 그 표면의 접촉각이 작아진다. 따라서, 그 위에 절연막 재료를 도포할 때에 재료가 부드럽게 확장하고, 상층 절연막 재료의 표면에 요철이 생기지 않게 된다. 이것에 의해, 기판 상에 절연막을 두껍게, 그리고 보다 평탄하게 형성할 수 있다.

公开(公告)号：KR1020020035439A

公开(公告)日：2002-05-11

申请号：KR1020010067417

申请日：2001-10-31

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 도미타히로시 ,  오가타구니에 ,  사카구치기미나리 ,  이와시타야스하루 ,  우에무라료이치 ,  나카쓰루마사히로

IPC: H01L21/027

CPC classification number: H01L21/67253

Abstract: PURPOSE: To reduce labor necessary for setting or for re-setting or correcting the number of rotation of a substrate and improve throughput by automating the above works, when coating film is formed by using spin coating method. CONSTITUTION: In a coating unit, a plurality of recipes for a production line and recipes for measuring film thickness where the kind of coating liquid is identical but target film thickness is different are prepared. Among the recipes, recipes with the kind of coating liquid and the target film thickness corresponding to each other are linked by a common spin curve. A recipe for measuring film thickness is performed, and a correction value of the number of rotation is calculated for each film thickness measuring datum. Setting values for the number of rotation of the respective recipes can be corrected collectively, by using the correction value.

Abstract translation: 目的：通过使用旋涂法形成涂膜，减少设定或重新设定或校正基板旋转数量所需的劳动力，并通过自动化以上工作提高生产率。 构成：在涂布单元中，制备多个用于生产线的配方和用于测量涂层液体的种类相同但靶膜厚度不同的膜厚度的配方。 在配方中，具有涂布液的种类和彼此对应的目标膜厚度的配方通过共同的自旋曲线连接。 执行用于测量膜厚度的配方，并且对于每个膜厚测量基准计算旋转次数的校正值。 可以通过使用校正值来集中地校正各配方的旋转次数的设定值。

公开(公告)号：KR1020010039876A

公开(公告)日：2001-05-15

申请号：KR1020000053436

申请日：2000-09-08

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 미야자키게이 ,  우치하마유이치로 ,  야스다겐지 ,  사카구치기미나리 ,  나가시마신지

IPC: H01L21/263

CPC classification number: H01L21/67115 ,  H01L21/67109

Abstract: PURPOSE: Provided is a substrate-treating device which can quickly perform treatment for obtaining desired characteristics, while the device suppresses the contamination by particles to the utmost. CONSTITUTION: When a wafer(W) is delivered from a main wafer transfer mechanism into a heat treatment chamber(151), the air pressure in the chamber(151) is made higher than the air pressure on the transfer mechanism side by blowing nitrogen gas into the chamber(151). Thereafter, a hermetically sealed space for heat treatment is formed in the chamber(151), and heat treatment is performed on the wafer(W), by stopping the blown-out nitrogen gas and setting the inside of the chamber(151) at an air pressure which is lower than the atmospheric pressure by starting a vacuum pump(170).

Abstract translation: 目的：提供一种能够快速进行处理以获得所需特性的基板处理装置，同时该装置最大限度地抑制颗粒污染。 构成：当将晶片（W）从主晶片传送机构传送到热处理室（151）时，通过吹氮气使室（151）中的空气压力高于传送机构侧的空气压力 进入腔室（151）。 然后，在室（151）中形成用于热处理的气密密封空间，通过停止吹出的氮气并将室（151）的内部设置在罐（151）的内部，对晶片（W）进行热处理 通过启动真空泵（170），气压低于大气压。