公开(公告)号：KR101176250B1

公开(公告)日：2012-08-22

申请号：KR1020080038514

申请日：2008-04-25

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 마쯔오까노부아끼 ,  하시모또다까히로 ,  쯔찌야가쯔히로 ,  하야시신이찌 ,  하야시다야스시

IPC: H01L21/027 ,  G02F1/1335

CPC classification number: H01L21/67178 ,  H01L21/67028 ,  H01L21/6715 ,  H01L21/67173 ,  H01L21/67709 ,  H01L21/6776

Abstract: 수평축주위로회전하고, 회전축이서로평행하게되도록전후에배치된한 쌍의회전체(131, 132)와, 이들회전체(131, 132) 사이에걸쳐져주회궤도를따라이동하고그 위에적재된웨이퍼(W)의반송로를형성하는반송로부재(130)와, 상기반송로의상류단에설치된반입용전달부(110)와, 상기반송로의하류단에설치된반출용전달부(111)와, 상기반송로의상류단과하류단사이에, 상류측으로부터차례로웨이퍼(W)에현상액을공급하기위한현상노즐(151), 웨이퍼(W)에세정액을공급하기위한세정노즐(152) 및웨이퍼(W)에기체를공급하기위한가스노즐(154)을구비한다.

公开(公告)号：KR101117872B1

公开(公告)日：2012-07-12

申请号：KR1020060004421

申请日：2006-01-16

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 아키모토마사미 ,  하야시신이치 ,  하야시다야스시 ,  마츠오카노부아키

IPC: B05C9/02 ,  B05B15/04 ,  B05D3/02

CPC classification number: H01L21/67276 ,  H01L21/67173 ,  H01L21/67178 ,  H01L21/67754

Abstract: 본 발명은 도포· 현상장치 및 도포 · 현상방법에 관한 것으로서 도포·현상 장치는 웨이퍼에 대해서 레지스트막을 형성한 후 노광 장치에 반송하고 노광후의 기판을 현상 처리하는 처리 블럭과 처리 블럭과 노광 장치와의 사이에 설치된 인터페이스 반송 기구를 구비하고 상기 처리 블럭은 도포막 형성용의 단위 블럭과 현상 처리용의 단위 블럭을 갖고 이들이 적층된 상태로 배치되고 있다. 상기 인터페이스 반송 기구에 이상이 일어났을 때에 도포막 형성용의 단위 블럭내에 존재하는 웨이퍼에 대해서 상기 단위 블럭내에서 통상의 처리를 실시한 후처리 후의 웨이퍼를 수용유니트에 퇴피시키는 것과 동시에 도포막 형성용의 단위 블럭내로의 웨이퍼의 반입을 금지하는 기술을 제공한다.

公开(公告)号：KR1020110128766A

公开(公告)日：2011-11-30

申请号：KR1020110106232

申请日：2011-10-18

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 아키모토마사미 ,  하야시신이치 ,  하야시다야스시 ,  마츠오카노부아키 ,  키무라요시오 ,  우에다이세이 ,  이토히카루

IPC: H01L21/027

CPC classification number: H01L21/6715 ,  H01L21/00 ,  H01L21/67178 ,  H01L21/67184 ,  H01L21/6719 ,  H01L21/0273

Abstract: PURPOSE: A coating and developing apparatus and a substrate processing apparatus are provided to save a space by forming a reflection preventing layer on the top and bottom of a resist film. CONSTITUTION: A substrate(W) is carried by a carrier and is received in the processing block. The coating film including the resist film is formed in the processing block. The substrate is exposed by light through an interface which is connected to the opposite side of the carrier block against a corresponding processing block and is carried. The substrate, which returns through an interface block(S3) after being exposed by light, is developed in the processing block and received in the carrier block. The processing block includes a laminated unit block for forming a plurality of coating films and a laminated unit block for developing and processing.

Abstract translation: 目的：通过在抗蚀膜的顶部和底部形成反射防止层来提供涂覆和显影装置和基板处理装置以节省空间。 构成：衬底（W）由载体承载并被接收在处理块中。 在处理块中形成包括抗蚀剂膜的涂膜。 衬底通过接口暴露，该接口与载体块的相反侧相对于相应的处理块连接并被承载。 在光被曝光之后通过界面块（S3）返回的衬底在处理块中显影并被接收在载体块中。 处理块包括用于形成多个涂膜的层压单元块和用于显影和加工的层压单元块。

公开(公告)号：KR101018517B1

公开(公告)日：2011-03-03

申请号：KR1020070093527

申请日：2007-09-14

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 하야시다야스시 ,  하라요시따까

IPC: H01L21/304 ,  H01L21/027 ,  H01L21/677

CPC classification number: H01L21/6708 ,  H01L21/67051 ,  H01L21/67225

Abstract: 본 발명의 과제는 복수의 액 처리용 모듈에 대해 처리액을 토출하는 노즐부를 공통화하는 구성을 채용하는 데 있어서, 높은 스루풋을 얻는 것이다.
웨이퍼를 흡착하는 스핀 척 및 이 주위를 둘러싸는 컵을 각각 포함하는, 4개 이상의 짝수개의 모듈, 예를 들어 6개의 모듈과, 이들 모듈을 각각 동일 복수 개수씩 포함하는, 예를 들어 3개씩 포함하는 2개의 그룹으로 나누고, 각 그룹마다 웨이퍼에 액 처리용 처리액을 토출하기 위한 공유화 노즐부를 설치한다. 그리고 1번째의 웨이퍼를 한쪽 그룹의 모듈로, 2번째의 웨이퍼를 다른 쪽 그룹의 모듈로, 3번째의 웨이퍼를 한쪽 모듈로 각각 순차 반송하는 것과 같은 방식으로, 양쪽의 그룹에 대해 교대로 웨이퍼를 반송한다.
웨이퍼, 노즐부, 모듈, 아암, 현상 유닛

公开(公告)号：KR1020090075687A

公开(公告)日：2009-07-08

申请号：KR1020097007376

申请日：2007-09-11

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 하야시다야스시 ,  하라요시따까 ,  가네꼬도모히로

IPC: H01L21/027 ,  G03F7/20

CPC classification number: H01L21/67745 ,  H01L21/67178 ,  H01L21/67276 ,  G03F7/16 ,  G03F7/70483 ,  G03F7/70716 ,  G03F7/70725 ,  G03F7/70775 ,  H01L21/673 ,  H01L21/67703

Abstract: A time that when a substrate wastefully stays at an inspection module is reduced, and the throughput of the coating/developing apparatus is improved. A coating/developing apparatus is provided with a plurality of inspection modules having different times required for inspecting substrates, which have been processed at a process station, at an inspection station for receiving the substrate and transferring them to a carrier station; a buffer unit for having the substrate temporarily stay; and a substrate transfer means of which operation is controlled by a control section. While the inspection module processes the substrate, a subsequent substrate to be inspected by the inspection module is transferred to the buffer unit by the substrate transfer means to stay at the buffer unit. Thus, the stay of the substrate at the inspection module is suppressed and the throughput can be improved.

Abstract translation: 当基板浪费地停留在检查模块时的时间减少，并且提高了涂布/显影装置的生产量。 涂布显影装置具有多个检查模块，该检查模块具有在检测站处理的基板的检查所需时间不同的时间，用于接收基板并将其传送到承载站; 用于使衬底暂时停留的缓冲单元; 以及由控制部控制操作的基板转印单元。 当检查模块处理衬底时，由检查模块检查的随后的衬底被衬底转移装置转移到缓冲单元以停留在缓冲单元上。 因此，能够抑制基板在检查模块的滞留，能够提高生产率。

公开(公告)号：KR1020080089245A

公开(公告)日：2008-10-06

申请号：KR1020080028876

申请日：2008-03-28

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 마쯔오까노부아끼 ,  하시모또다까히로 ,  쯔찌야가쯔히로 ,  하야시신이찌 ,  하야시다야스시

IPC: H01L21/68 ,  H01L21/677

CPC classification number: H01L21/67745 ,  H01L21/67178 ,  G05B19/4189 ,  G05B2219/31002 ,  H01L21/67196 ,  H01L21/67742

Abstract: A coating and developing system, a coating and developing method, and a storage medium are provided to adjust easily a processing speed by increasing or reducing the number of processing blocks arranged between a carrier block and an interface block. A processing station is installed between a carrier block(S1) and an interface block(S6) and includes at least two processing blocks of the same construction. Each of the processing blocks is built by stacking a plurality of unit blocks including a film forming unit block and a developing unit block, and is arranged longitudinally contiguously between the carrier block on a front side and the interface block on a back side along a substrate carrying passage of a substrate. A transfer unit group is installed at a position corresponding to each unit block in a front side within the processing blocks in order to transfer a substrate between the stacked unit blocks of the processing blocks. The transfer unit group includes a plurality of transfer units for transferring the substrate by using a substrate carrying unit of each unit block. Transfer arms(D1,D2,D3) are installed at the processing blocks, respectively. Inlet/outlet transfer units are installed to transfer the substrate between the carrier block and the processing block or between the adjacent processing blocks. Direct carrying unit is installed in each of the processing blocks in order to carry the substrate exclusively between the inlet and outlet transfer unit of the processing block and the inlet and outlet transfer unit of the processing block behind and adjacent to the prior processing block.

Abstract translation: 提供一种涂覆和显影系统，涂层和显影方法以及存储介质，以通过增加或减少布置在载体块和界面块之间的处理块的数量来容易地调整处理速度。 处理站安装在承载块（S1）和接口块（S6）之间，并且包括至少两个相同结构的处理块。 每个处理块通过堆叠包括成膜单元块和显影单元块的多个单位块而构成，并且在前侧的载体块和沿着基板的背侧的界面块之间纵向连续地布置 承载基底的通道。 传送单元组安装在与处理块内的前侧中的每个单元块相对应的位置处，以便在处理块的堆叠单元块之间传送衬底。 转印单元组包括多个转印单元，用于通过使用每个单位块的基板承载单元来转印基板。 传送臂（D1，D2，D3）分别安装在处理块上。 安装入口/出口传送单元以在载体块和处理块之间或相邻处理块之间传送衬底。 直接承载单元安装在每个处理块中，以便仅将处理块的入口和出口传送单元以及处理块的入口和出口传送单元背后并与之相邻的先前处理块承载基板。

公开(公告)号：KR1020080089240A

公开(公告)日：2008-10-06

申请号：KR1020080028806

申请日：2008-03-28

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 마쯔오까노부아끼 ,  하시모또다까히로 ,  쯔찌야가쯔히로 ,  하야시신이찌 ,  하야시다야스시

IPC: H01L21/68 ,  H01L21/677

CPC classification number: H01L21/67178 ,  H01L21/67745 ,  G05B19/4189 ,  G05B2219/31002 ,  H01L21/67196 ,  H01L21/67742

Abstract: A coating and developing system, a coating and developing method, and a storage medium are provided to compose easily a carrying program by using the same carrying path. A first processing block(S2) is installed to be connected to a carrier block(S1) and is formed by stacking up a plurality of unit blocks including a film forming block, in order to receive a substrate from the carrier block or transmit the substrate to the carrier block by using a transfer unit installed in the carrier block. A second processing block(S4) is installed to be connected to an interface block(S5) and is formed by stacking up a plurality of unit blocks including a film forming unit block, in order to receive the substrate from the interface block or transmit the substrate to the interface block by using an interface arm(F). A transfer block(S3) is installed between the first and the second processing blocks and includes a plurality of common transfer units of a stacked structure to receive and transmit the substrate from and to a substrate carrying unit included in the unit blocks of the first and the second processing block. The transfer block includes a transfer arm(E) for transferring the substrate between the common transfer units. A developing unit block is installed at least in either of the first and the second processing blocks and is stacked on the film forming unit block. A first direct carrying unit is installed in the first processing block to transfer the substrate between the carrier block and the common transfer units of the transfer block. A second direct carrying unit is installed in the second processing block to transfer the substrate between the common transfer units of the transfer block and the interface block. A control unit controls the transfer unit, the direct carrying unit, the transfer arm, the substrate carrying unit, and the interface arm.

Abstract translation: 提供一种涂覆和显影系统，涂层和显影方法以及存储介质，以通过使用相同的传送路径容易地构成携带程序。 安装第一处理块（S2）以连接到载体块（S1），并且通过堆叠多个包括成膜块的单元块而形成，以便从载体块接收基板或传输基板 通过使用安装在承载块中的传送单元到载波块。 安装第二处理块（S4）以连接到接口块（S5），并且通过堆叠包括成膜单元块的多个单元块而形成，以便从接口块接收基板或者将 通过使用接口臂（F）到接口块的衬底。 传送块（S3）安装在第一处理块和第二处理块之间，并且包括堆叠结构的多个公共传送单元，用于从包括在第一和第二处理块的单元块中的基板传送单元接收和发送基板， 第二处理块。 传送块包括用于在公共传送单元之间传送基板的传送臂（E）。 显影单元块至少安装在第一处理块和第二处理块中的任一个中，并且堆叠在成膜单元块上。 第一直接承载单元安装在第一处理块中，以在承载块和转移块的公共转移单元之间传送基板。 第二直接承载单元安装在第二处理块中，以在传送块的公共传送单元和接口块之间传送基板。 控制单元控制传送单元，直接传送单元，传送臂，基板传送单元和接口臂。

公开(公告)号：KR1020060088495A

公开(公告)日：2006-08-04

申请号：KR1020060009384

申请日：2006-01-31

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 아키모토마사미 ,  하야시신이치 ,  하야시다야스시 ,  마츠오카노부아키 ,  키무라요시오 ,  우에다이세이 ,  이토히카루

IPC: H01L21/027

CPC classification number: H01L21/67184 ,  H01L21/67173 ,  H01L21/67178 ,  H01L21/67207 ,  H01L21/67745 ,  H01L21/67017 ,  H01L21/6715

Abstract: 본 발명은 도포 현상장치에 관한 것으로서 복수의 단위 블럭의 집합체로부터 되는 도포·현상 장치가 제공된다. 제 1의 단위 블럭 적층체와 제 2의 단위 블럭 적층체가 전후방향이 다른 위치에 배치된다. 노광 후의 현상 처리를 실시하는 현상 유니트를 포함한 복수의 처리 유니트 및 이들 유니트간의 기판의 반송을 실시하는 반송 수단을 구비한 현상용 단위 블럭이 최하단에 배치된다. 노광전의 도포 처리를 실시하는 도포 유니트를 포함한 복수의 처리 유니트 및 이들 유니트간의 기판의 반송을 실시하는 반송 수단을 구비한 도포용 단위 블럭은 현상용 단위 블럭 위에 배치된다. 도포용 단위 블럭은 제 1의 단위 블럭 적층체 및 제 2의 단위 블럭 적층체의 양쪽 모두에 배치된다. 반사 방지막과 레지스트막의 적층 위치 관계에 따라 도포·현상 장치내에 있어서 노광전의 웨이퍼나 경유하는 도포용 단위 블럭을 결정한다. 노광 후의 웨이퍼는 도포용 단위 블럭을 통과하는 일 없이 현상용 단위 블럭만을 통과하는 기술을 제공한다.

公开(公告)号：KR1019900013600A

公开(公告)日：1990-09-06

申请号：KR1019900001934

申请日：1990-02-16

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 ,  도오교오에레구토론큐우슈우가부시끼가이샤

Inventor： 하야시다야스시

IPC: H01L21/027

Abstract: 내용 없음

公开(公告)号：KR101339541B1

公开(公告)日：2013-12-12

申请号：KR1020080028806

申请日：2008-03-28

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 마쯔오까노부아끼 ,  하시모또다까히로 ,  쯔찌야가쯔히로 ,  하야시신이찌 ,  하야시다야스시

IPC: H01L21/68 ,  H01L21/677

CPC classification number: H01L21/67178 ,  H01L21/67745

Abstract: 본 발명의 과제는 반송 프로그램의 작성을 용이하게 하면서, 처리량의 향상을 도모할 수 있는 기술을 제공하는 것이다.
제1 처리 블록과 제2 처리 블록 사이에 전달 블록을 설치하고, 캐리어 블록으로부터 제1 직통 반송 수단에 의해 기판을 전달 블록으로 반송하고, 여기로부터 기판을 제1 처리 블록의 도포막 형성용 단위 블록과 제2 처리 블록의 도포막 형성용 단위 블록에 나누어 전달한다. 계속해서 제1 및 제2 처리 블록으로 각각 도포막이 형성된 기판을 일단 전달 블록에 모아, 여기로부터 제2 직통 반송 수단에 의해 기판을 인터페이스 블록으로 반송한다. 처리 블록이 증가하므로 처리량의 향상을 도모할 수 있고, 또한 캐리어 블록으로부터 제1 처리 블록으로의 반송 경로와, 제2 처리 블록으로의 반송 경로가 동일해지므로, 반송 프로그램의 작성이 용이해진다.
반도체 웨이퍼, 노광 장치, 전달 아암, 셔틀 아암, 인터페이스 아암