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公开(公告)号:DE112012002703T5
公开(公告)日:2014-03-20
申请号:DE112012002703
申请日:2012-06-25
Applicant: KLA TENCOR CORP
Inventor: BEZEL ILYA V , SHCHEMELININ ANOTOLY , DERSTINE MATTHEW W
IPC: H05H1/24
Abstract: Es ist ein Verfahren zum Aufrechterhalten eines Plasmas offenbart, das das Bereitstellen eines Gasvolumens umfasst. Es wird eine erste ausgewählte Wellenlänge erzeugt. Danach erfolgt das Bilden einer ersten Plasmaart in einer ersten Region des Gases und einer zweiten Plasmaart in mindestens einer zweiten Region des Gases, indem eine Fokussierung der Beleuchtung der ersten ausgewählten Wellenlänge in das Volumen des Gases erfolgt, wobei die erste Region eine erste Durchschnittstemperatur und eine erste Größe hat, die mindestens eine zweite Region mindestens eine zweite Durchschnittstemperatur und mindestens eine zweite Größe hat, die Beleuchtung der ersten ausgewählten Wellenlänge im Wesentlichen durch die mindestens eine zweite Plasmaart übertragen wird, die Beleuchtung der ersten ausgewählten Wellenlänge im Wesentlichen durch die erste Plasmaart absorbiert wird, indem die erste ausgewählte Wellenlänge der Beleuchtung auf eine Absorptionslinie der ersten Plasmaart angepasst wird, und die Absorptionslinie mit mindestens einem ionischen Absorptionsübergang oder einem neutralen Absorptionsübergang der ersten Plasmaart verbunden ist.
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12.
公开(公告)号:DE112014001747T5
公开(公告)日:2015-12-17
申请号:DE112014001747
申请日:2014-03-28
Applicant: KLA TENCOR CORP
Inventor: BEZEL ILYA V , DERSTINE MATTHEW W , GROSS KENNETH P , SHORTT DAVID W , ZHAO WEI , CHIMMALGI ANANT , WANG JINCHENG , SHCHEMELININ ANATOLY
IPC: H01J61/02
Abstract: Eine Vorrichtung zur Steuerung einer Konvektionsströmung in einem lichtgestützten Plasma umfasst eine Beleuchtungsquelle, die konfiguriert ist, um Beleuchtung zu erzeugen, eine Plasmazelle, die einen Kolben zum Einschluss eines Gasvolumens umfasst, ein Kollektorelement, das angebracht ist, um Beleuchtung aus der Beleuchtungsquelle in das Gasvolumen zu fokussieren, um ein Plasma innerhalb des Gasvolumens, das im Kolben enthalten ist, zu erzeugen. Außerdem ist die Plasmazelle innerhalb eines konkaven Bereichs des Kollektorelements angeordnet, wobei das Kollektorelement eine Öffnung umfasst, damit ein Teil einer Plasmafahne sich zu einem Bereich außerhalb des konkaven Bereichs des Kollektorelements ausbreitet.
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公开(公告)号:DE112013001634T5
公开(公告)日:2014-12-31
申请号:DE112013001634
申请日:2013-06-26
Applicant: KLA TENCOR CORP
Inventor: SHCHEMELININ ANATOLY , BEZEL ILYA V
IPC: H01J65/04
Abstract: Eine lasergestützte Plasmalichtquelle umfasst einen Plasmakolben, welcher eine Strömung eines Arbeitsgases enthält, welche durch einen innerhalb des Plasmakolbens aufrechterhaltenen elektrischen Strom getrieben wird. Geladene Teilchen werden in das Arbeitsgas des Plasmakolbens eingeführt. Eine Anordnung von Elektroden, welche auf unterschiedlichen Spannungsniveaus gehalten werden, treibt die geladenen Teilchen durch das Arbeitsgas. Die Bewegung der geladenen Teilchen innerhalb des Arbeitsgases lässt das Arbeitsgas durch Mitführung in die Bewegungsrichtung der geladenen Teilchen strömen. Die resultierende Strömung des Arbeitsgases verstärkt die Konvektion um das Plasma und erhöht die Wechselwirkung zwischen dem Laser und dem Plasma. Die Strömung des Arbeitsgases innerhalb des Plasmakolbens kann stabilisiert und gesteuert werden durch Steuerung der an jeder der Elektroden herrschenden Spannung. Eine stabilere Strömung des Arbeitsgases durch das Plasma trägt zu einer stabileren Form und Position des Plasmas innerhalb des Plasmakolbens bei.
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公开(公告)号:DE112013000595T5
公开(公告)日:2014-10-16
申请号:DE112013000595
申请日:2013-01-17
Applicant: KLA TENCOR CORP
Inventor: BEZEL ILYA V , PANZER MATTHEW , DERSTINE MATTHEW W , PATIL RAJEEV , SHCHEMELININ ANATOLY , SHIFRIN EUGENE , WANG JINCHENG , CHIMMALGI ANANT , BRUNNER RUDOLF
IPC: H01J65/04
Abstract: Eine Plasmazelle (100) zur Verwendung in einer mittels Laser aufrechterhaltenen Plasmalichtquelle umfasst einen Plasmakolben (102), der derart konfiguriert ist, dass er ein zur Erzeugung eines Plasmas (106) geeignetes Gas enthält. Der Plasmakolben (102) ist im Wesentlichen für Licht von einem Pumplaser transparent, um das Plasma (106) innerhalb des Plasmakolbens (102) aufrecht zu erhalten. Der Plasmakolben (102) ist im Wesentlichen transparent für mindestens einen Abschnitt eines sammelbaren spektralen Bereichs der Beleuchtung, die durch das Plasma (106) emittiert wird. Eine Filterschicht (104) ist auf einer inneren Oberfläche des Plasmakolbens (102) angeordnet, wobei die Filterschicht (104) so konfiguriert ist, dass sie einen ausgewählten Spektralbereich der vom Plasma (106) emittierten Beleuchtung blockiert.
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15.
公开(公告)号:DE112012002689T5
公开(公告)日:2014-03-20
申请号:DE112012002689
申请日:2012-06-25
Applicant: KLA TENCOR CORP
Inventor: BEZEL ILYA V , SHCHEMELININ ANOTOLY , ZHAO YANMING , DERSTINE MATTHEW W
Abstract: Es ist eine Vorrichtung zur Korrektur von in einer Plasmazelle erzeugten Aberrationen offenbart. Die Vorrichtung umfasst eine Lichtquelle zum Erzeugen einer Beleuchtung. Ferner ist eine Plasmazelle vorgesehen, wobei die Plasmazelle einen Kolben für ein Gasvolumen besitzt. Eine Ellipse ist derart ausgebildet, dass eine Beleuchtung von der Beleuchtungsquelle in das Gasvolumen fokussierbar ist, um ein Plasma innerhalb des Gasvolumens zu erzeugen. Ein oder mehrere adaptive optische Elemente sind derart konfiguriert, dass Aberrationen von einem oder mehreren optischen Elementen kompensiert werden, wobei das eine oder die mehreren adaptiven optischen Elemente entlang eines Beleuchtungspfads zwischen der Lichtquelle und der Plasmazelle angeordnet sind.
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公开(公告)号:WO2010093903A3
公开(公告)日:2010-12-02
申请号:PCT/US2010024074
申请日:2010-02-12
Applicant: KLA TENCOR CORP , BEZEL ILYA V , SHCHEMELININ ANOTOLY , SHIFRIN EUGENE , DERSTINE MATTHEW W
Inventor: BEZEL ILYA V , SHCHEMELININ ANOTOLY , SHIFRIN EUGENE , DERSTINE MATTHEW W
CPC classification number: G21B1/23
Abstract: This application claims all rights and priority on co-pending United States provisional patent application serial number 61/152,578 filed 2009.02.13. This invention relates to the field of plasma light sources. More particularly, this invention relates to increasing the brightness of plasma light sources.
Abstract translation: 本申请要求于2009年2月13日提交的共同未决的美国临时专利申请序列号61 / 152,578的全部权利和优先权。 等离子光源技术领域本发明涉及等离子光源领域。 更具体地说,本发明涉及增加等离子光源的亮度。
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