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    Wafer checking fourier filtering mechanism
    1.
    发明专利
    Wafer checking fourier filtering mechanism 有权
    WAFER检查FOURIER过滤机制

    公开(公告)号：JP2007123920A

    公开(公告)日：2007-05-17

    申请号：JP2006329247

    申请日：2006-12-06

    Applicant: Kla-Tencor Corp ,  ケイエルエイ−テンコー コーポレイション

    Inventor： MONTESANTO STEVE ,  PERELMAN GERSHON ,  BRUNNER RUDOLF

    IPC: G01B11/30 ,  H01L21/66 ,  G01N21/956 ,  G02B5/18 ,  G02B27/46

    CPC classification number: G01N21/95623 ,  H01L22/12 ,  H01L2924/0002 ,  H01L2924/00

    Abstract: PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a method in which the output of a fourier filter for detecting the defect of semiconductor wafer is not influenced by ordinary oscillation existing in an environment. SOLUTION: The attenuation tab 606 of a fourier filter mechanism 600 is located at the center between magnets 610. When the tab 606 moves in a magnetic field, a magnetic flux which passes through the electric loop of the tab 606 changes. Eddy current is induced by the tab 606. A magnetic force vector produced by the eddy current works such that the oscillation of a Z-spring 608 is attenuated. COPYRIGHT: (C)2007,JPO&INPIT

    Abstract translation: 要解决的问题：提供一种用于检测半导体晶片的缺陷的傅立叶滤波器的输出不受环境中存在的普通振荡的影响的方法。 解决方案：光栅滤光器机构600的衰减片606位于磁体610之间的中心。当突片606在磁场中移动时，穿过突片606的电环路的磁通量发生变化。 涡流由引脚606引起。由涡电流产生的磁力矢量工作使得Z弹簧608的振荡被衰减。 版权所有（C）2007，JPO＆INPIT

    METHOD AND APPARATUS TO REDUCE THERMAL STRESS BY REGULATION AND CONTROL OF LAMP OPERATING TEMPERATURES
    2.
    发明公开
    METHOD AND APPARATUS TO REDUCE THERMAL STRESS BY REGULATION AND CONTROL OF LAMP OPERATING TEMPERATURES 有权
    方法和装置以降低火电根据规定和LAMP温度控制

    公开(公告)号：EP2890930A4

    公开(公告)日：2016-03-09

    申请号：EP13832549

    申请日：2013-08-28

    Applicant: KLA TENCOR CORP

    Inventor： WANG JINCHENG ,  CHIMMALGI ANANT ,  PATIL RAJEEV ,  KIM ERIK ,  BRUNNER RUDOLF ,  GIANG QUANG ,  WILSON LAUREN ,  GROSS KENNETH P ,  BEZEL ILYA ,  LASFARGUES CEDRIC ,  SCOTT DANIEL ,  VORA YOUNUS ,  DERSTINE MATTHEW

    IPC: F21V29/503 ,  F21V19/00 ,  F21V29/60

    CPC classification number: F28C3/04 ,  F21V19/00 ,  F21V29/02 ,  F21V29/503 ,  F21V29/60

    Abstract: A fluid input manifold distributes injected fluid around the body of a bulb to cool the bulb below a threshold. The injected fluid also distributes heat more evenly along the surface of the bulb to reduce thermal stress. The fluid input manifold may comprise one or more airfoils to direct a substantially laminar fluid flow along the surface of the bulb or it may comprise a plurality of fluid injection nozzles oriented to produce a substantially laminar fluid flow. An output portion may be configured to facilitate fluid flow along the surface of the bulb by allowing injected fluid to easily escape after absorbing heat from the bulb or by applying negative pressure to actively draw injected fluid along the surface of the bulb and away.

    Abstract translation: 一种流体输入歧管喷射配给流体围绕灯泡的主体冷却到低于阈值的灯泡。 注入的流体因此沿所述灯泡的表面更均匀地分布热量，以减少热应力。 所述流体输入歧管可以包括一个或多个翼型件以沿着灯泡的表面的基本层流流动，或者它可包括定向成产生基本上层流流动的流体喷射喷嘴的复数。 的输出部分可以被配置成通过允许注入的流体，以吸收来自灯泡热后容易逃脱或通过施加负压，以积极绘制注入的流体沿着灯泡和远离的表面以便沿着灯泡的表面的流体流动。

    System und Verfahren zum elektrodenlosen Zünden von Plasma in einer lasergestützten Plasmalichtquelle
    4.
    发明专利
    System und Verfahren zum elektrodenlosen Zünden von Plasma in einer lasergestützten Plasmalichtquelle 未知

    公开(公告)号：DE112016004526T5

    公开(公告)日：2018-06-14

    申请号：DE112016004526

    申请日：2016-09-30

    Applicant: KLA TENCOR CORP

    Inventor： CHIMMALGI ANANT ,  BRUNNER RUDOLF ,  SHCHEMELININ ANATOLY ,  BEZEL ILYA V ,  KIM ERIK ,  PATIL RAJEEV

    IPC: H01J65/04

    Abstract: Eine Beleuchtungsquelle zum Zünden und Aufrechterhalten eines Plasmas in einer Plasmalampe einer lasergestützten Plasma-Breitbandquelle (LSP) umfasst einen oder mehrere Laser zum Zünden, die zum Zünden des Plasmas innerhalb eines in der Plasmalampe enthaltenen Gases konfiguriert sind. Die Beleuchtungsquelle umfasst auch einen oder mehrere Laser zum Aufrechterhalten, die dazu konfiguriert sind, das Plasma aufrechtzuerhalten. Die Beleuchtungsquelle umfasst eine optische Bereitstellungsfaser, ein oder mehrere optische Elemente, die konfiguriert sind, um selektiv einen Output des einen oder der mehreren Laser zum Zünden und einen Output des einen oder der mehreren Laser zum Aufrechterhalten mit der optischen Bereitstellungsfaser optisch zu koppeln.

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