公开(公告)号：KR101371107B1

公开(公告)日：2014-03-10

申请号：KR1020130091387

申请日：2013-08-01

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 이토노리히로

IPC: H01L21/302 ,  H01L21/02

CPC classification number: H01L21/6708 ,  H01L21/67051 ,  H01L21/67248 ,  Y10S134/902

Abstract: 액처리 장치(10)는, 제1액 공급 기구(15)와, 액공급 기구에 접속되며 온도 조절된 액을 토출하는 토출 개구(30a)를 갖는 제1 공급 라인(30)과, 공급 라인의 토출 개구를 지지하는 처리 유닛(50)과, 공급 라인에 공급된 액을 액공급 기구에 복귀시키는 복귀 라인(35)과, 처리 유닛에서의 피처리체의 처리에 이용되는 액의 공급 및 공급 정지를 전환하는 액공급 전환 밸브(38a)를 구비한다. 액공급 전환 밸브(38a)는, 제1 공급 라인(30) 상에 설치되고, 제1 공급 라인(30)으로부터 복귀 라인(35)을 통해 제1액 공급 기구(15)에 복귀되는 액의 경로 상에 위치하고 있다.

公开(公告)号：KR101275965B1

公开(公告)日：2013-06-17

申请号：KR1020080069152

申请日：2008-07-16

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 미나미데루오미 ,  이토노리히로 ,  가미카와유지

IPC: H01L21/304 ,  B08B3/02 ,  B08B3/08

CPC classification number: H01L21/67051 ,  H01L21/67028 ,  H01L21/67034

Abstract: 본 발명은 피처리 기판을 플루오르화수소산계 처리액에 의해 처리한 후, 유기 용매에 의해 건조시키는 방법을 이용한 경우에도, 상기 피처리 기판에 얼룩이 발생하는 것을 방지하는 것을 목적으로 한다.
액처리 장치(1)는, 케이싱(5)과, 웨이퍼(피처리 기판)(W)를 유지하는 기판 유지 기구(20)와, 처리액을 공급하는 처리액 공급 기구(30)와, 처리액을 받는 배액컵(12)과, 처리액을 바깥쪽으로 배출하는 배액관(13)을 구비하고 있다. 처리액 공급 기구(30)는, 플루오르화수소산계 처리액을 공급하는 제1 약액 공급 기구와, 웨이퍼(W)를 건조시키기 위한 유기 용매를 공급하는 건조액 공급 기구를 가지고 있다. 제어부(50)는, 제1 약액 공급 기구에 의해 플루오르화수소산계 처리액을 공급시킨 후, 건조액 공급 기구에 의해 유기 용매를 공급시키고, 또한, 건조액 공급 기구에 의해 유기 용매를 공급시키기 전에, 세정 기구(10)에 의해 케이싱(5) 내의 알칼리 성분을 제거시킨다.

公开(公告)号：KR1020130023320A

公开(公告)日：2013-03-07

申请号：KR1020130014512

申请日：2013-02-08

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 이토노리히로 ,  아라타케히데마사

IPC: H01L21/302

CPC classification number: B08B3/04 ,  H01L21/67051 ,  Y10S134/902

Abstract: PURPOSE: A liquid treatment apparatus is provided to efficiently discharge liquid near a wafer and on the upper side of the wafer by including a rotary discharge cup which rotates with a rotary cup. CONSTITUTION: A support plate(30) includes a support unit(30a) which supports a wafer(W). A rotary shaft(31) is downwardly extended from the support plate. A rotary driving device(60) rotates a wafer supported by the support unit. A rotary discharge cup is formed on the upper side of a rotary cup and rotates with the rotary cup. A liquid supply unit supplies liquid to the wafer and includes a surface liquid supply unit(41), a rear liquid supply unit(42), and a liquid supply source(40). [Reference numerals] (AA) To the outside; (BB) To 41; (CC) To 28

Abstract translation: 目的：提供一种液体处理装置，用于通过包括旋转杯旋转的旋转放电杯来有效地排出晶片附近和晶片上侧的液体。 构成：支撑板（30）包括支撑晶片（W）的支撑单元（30a）。 旋转轴（31）从支撑板向下延伸。 旋转驱动装置（60）旋转由支撑单元支撑的晶片。 旋转放电杯形成在旋转杯的上侧，并与旋转杯一起旋转。 液体供应单元向晶片供应液体，包括表面液体供应单元（41），后部液体供应单元（42）和液体供应源（40）。 （附图标记）（AA）到外面; （BB）至41; （CC）至28

公开(公告)号：KR101215254B1

公开(公告)日：2012-12-24

申请号：KR1020090009813

申请日：2009-02-06

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 이토노리히로 ,  난바히로미츠

IPC: H01L21/304 ,  H01L21/306

CPC classification number: B08B3/04 ,  H01L21/67051 ,  H01L21/68742 ,  H01L21/68792

Abstract: 액처리장치는, 피처리체(W)를유지하며중공(中空) 형상으로된 유지플레이트(1)와, 유지플레이트(1)에고정연결되며중공형상으로된 회전축(2)과, 회전축(2)을회전구동하는회전구동부(40)와, 유지플레이트(1)의중공내에배치되며, 본체(25)와피처리체(W)를지지하는리프트핀(21)을갖는리프트핀플레이트(20)를포함하고있다. 회전축(2)의중공내에는, 세정액을공급하는세정액공급부(11)와불활성가스를공급하는불활성가스공급부(10)가연장되어있다. 리프트핀플레이트(20)는경사면(25a, 25b)을가지며, 불활성가스공급부(10)의선단이세정액공급부(11)의선단보다도높은위치에위치하고있다.

公开(公告)号：KR101019445B1

公开(公告)日：2011-03-07

申请号：KR1020070037458

申请日：2007-04-17

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 가네코사토시 ,  마츠모토가즈히사 ,  이토노리히로 ,  아키모토마사미 ,  도시마다카유키 ,  난바히로미츠

IPC: H01L21/304

CPC classification number: H01L21/67051 ,  H01L21/6715 ,  H01L21/68728 ,  Y10S134/902

Abstract: 액 처리 장치는 기판을 수평으로 유지하고, 기판과 함께 회전 가능한 기판 유지부와, 기판 유지부에 유지된 기판을 둘러싸며, 기판과 함께 회전 가능한 회전 컵과, 회전 컵 및 기판 유지부를 일체적으로 회전시키는 회전 기구와, 적어도 기판의 표면에 처리액을 공급하는 액 공급 기구와, 회전 컵으로부터 외부로 배기 및 배액하는 배기·배액부와, 표면이 기판 표면과 대략 연속하도록 기판의 외측에 설치되고, 기판 유지부 및 회전 컵과 함께 회전하며, 기판 표면에 공급되어 기판으로부터 털어진 처리액을 그 표면을 통해 회전 컵으로부터 배기·배액부에 안내하는 안내 부재를 구비한다.

公开(公告)号：KR101019444B1

公开(公告)日：2011-03-07

申请号：KR1020070037375

申请日：2007-04-17

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 아키모토마사미 ,  도시마다카유키 ,  가네코사토시 ,  마츠모토가즈히사 ,  이토노리히로 ,  난바히로미츠

IPC: H01L21/304

CPC classification number: H01L21/67051 ,  H01L21/6715 ,  H01L21/68728

Abstract: 본 발명의 액 처리 장치는, 기판을 수평으로 유지하고, 기판과 함께 회전 가능한 기판 유지부와, 기판 유지부에 유지된 기판을 둘러싸고, 기판과 함께 회전 가능한 회전 컵과, 회전 컵 및 기판 유지부를 일체적으로 회전시키는 회전 기구와, 기판에 처리액을 공급하는 액 공급 기구와, 회전 컵의 배기 및 배액을 행하는 배기·배액부를 포함한다. 배기·배액부는 주로 기판으로부터 털어진 처리액을 받아들여 배액하는 환형을 이루는 배액 컵과, 배액 컵의 외측을 둘러싸도록 설치되며, 회전 컵 및 그 주위로부터의 주로 기체 성분을 받아들여 배기하는 배기 컵을 포함하며, 배액 컵으로부터의 배액과 배기 컵으로부터의 배기를 독립적으로 실행한다.

Abstract translation: 本发明的液体处理装置中，水平地保持基板，并旋转基板支架成为可能，通过所述衬底保持器，可旋转的旋转杯保持的基板周围，并与所述基板与所述基板部保持旋转杯以及基板一起一起 用于将处理液供应到基板的液体供应机构以及用于执行旋转杯的排出和排出的排出和分配部。 排气＆middot;排水单元和排水杯主要形成环形排水从衬底接受处理液二进制断，它被设置成围绕排液杯的外侧，旋转杯以及从周围排气排气接受一个主要气体组分 杯子与排水杯和排气杯分开分配。

公开(公告)号：KR1020110013251A

公开(公告)日：2011-02-09

申请号：KR1020100071348

申请日：2010-07-23

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 이토노리히로

IPC: H01L21/302

CPC classification number: H01L21/6708 ,  H01L21/67051 ,  H01L21/67248 ,  Y10S134/902

Abstract: PURPOSE: A liquid processing device is provided to efficiently suppress the temperature variation of the heated first liquid by stabilizing the temperature of a valve. CONSTITUTION: A first supply line(30) has a discharge opening which discharges liquid whose temperature is controlled. A process unit(50) supports the discharge opening of a supply line. A return line(35) returns the liquid supplied to the supply line to a liquid supplying device. A liquid supply switch valve switches the stop and supply of the liquid which is used for processing a target. The liquid supply switch valve is positioned on the liquid path for returning the liquid from the first supply line to the first liquid supply device through the return line.

Abstract translation: 目的：提供一种液体处理装置，通过稳定阀的温度来有效地抑制加热的第一液体的温度变化。 构成：第一供应管线（30）具有排出温度被控制的液体的排出口。 处理单元（50）支撑供应管线的排放口。 返回管线（35）将供应给供应管线的液体返回到液体供应装置。 液体供应开关阀切换用于处理目标物的液体的停止和供应。 液体供应开关阀位于液体路径上，用于通过返回管线将液体从第一供应管线返回到第一液体供应装置。

公开(公告)号：KR100992803B1

公开(公告)日：2010-11-09

申请号：KR1020057001397

申请日：2003-07-25

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 초우노야스히로 ,  이토노리히로

IPC: H01L21/68

CPC classification number: H01L21/67748 ,  H01L21/68728 ,  H01L21/68742

Abstract: 기판 처리 용기는 용기 본체(100)와, 용기 본체(100)에 밀봉하여 걸어 맞춰지는 덮개(130)를 갖는다. 용기 본체(100)에는 복수의 기판 지지 로드(102)가 부착되어 있고, 기판 지지 로드(102)는 축부(103)와, 축부(103) 상단에 설치된 대직경의 헤드부(104)를 갖는다. 축부(103)는 용기 본체(100)를 관통하여 상하 방향으로 연장되어 있다. 기판 지지 로드(102)가 하강 위치에 있는 경우에, 헤드부(104)는 축부(103)가 통과된 구멍(108)의 입구를 기밀하게 폐색한다. 기판 지지 로드(102)가 상승 위치에 있는 경우, 용기 본체(100)의 상면과 기판 지지 로드(102)에 의해 지지되어 있는 웨이퍼(W) 사이에 웨이퍼 반송 아암(14a)의 진입을 허용하는 큰 간극이 형성된다. 이 구성에 의해 기판 처리 용기내의 처리 공간의 상하 방향 두께를 매우 작게 할 수 있고, 처리 유체의 사용량의 삭감 및 작업 처리량의 향상을 도모할 수 있다.

公开(公告)号：KR1020090126186A

公开(公告)日：2009-12-08

申请号：KR1020090046447

申请日：2009-05-27

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 이토노리히로 ,  히가시지마지로

IPC: H01L21/68

CPC classification number: H01L21/67051 ,  B05D1/002 ,  B05D3/0486 ,  H01L21/68728 ,  H01L21/68742 ,  H01L21/68792

Abstract: PURPOSE: A substrate processing apparatus, substrate processing method and program storage medium are provided to keep stably the wafer on the table by using the protrusion member. CONSTITUTION: The protruding member has the base plate(20) is projected to the upper part and can rotate. The drivingly rotative mechanism(35) rotates the base plate. The conduit line(56) for absorption has one opened end at the gap. The pressure controlling device(55) comprises the absorption unit connected to the conduit line for absorption. The control device is connected to the drivingly rotative mechanism and pressure controlling device. The pressure monitor unit(50) comprises the pressure sensor(53) connected to the conduit line for the pressure measurement. The base plate is that the opening at the location facing the substrate.

Abstract translation: 目的：提供基板处理装置，基板处理方法和程序存储介质，以通过使用突出部件将晶片稳定地保持在工作台上。 构成：突出构件具有基板（20）突出到上部并且可以旋转。 驱动旋转机构（35）使基板旋转。 用于吸收的导管（56）在间隙处具有一个开口端。 压力控制装置（55）包括连接到导管的吸收单元用于吸收。 控制装置连接到驱动旋转机构和压力控制装置。 压力监视器单元（50）包括连接到用于压力测量的导管线的压力传感器（53）。 基板是面向基板的位置处的开口。

公开(公告)号：KR1020090126181A

公开(公告)日：2009-12-08

申请号：KR1020090044101

申请日：2009-05-20

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 아라타케히데마사 ,  이토노리히로

IPC: H01L21/306

CPC classification number: H01L21/67051

Abstract: PURPOSE: A liquid treatment apparatus, liquid treatment method and storage medium are provided to divide the first processing liquid and the second processing liquid. CONSTITUTION: The process liquid supply mechanism(30) supplies the first processing liquid and the second processing liquid. The outside exhausting part(15) and inner side exhausting part(16) respectively discharge the first processing liquid and the second processing liquid received in the first receiving surface(61a) of the rotating cup(61). Exhausting part opening and closing device(34) open and close the outside exhausting part. In case that exhausting part opening and closing device rise, the first processing liquid is exhausted towards the outside exhausting part. In case that exhausting part opening and closing device descend, the second processing liquid is exhausted towards the inner side exhausting part.

Abstract translation: 目的：提供一种液体处理装置，液体处理方法和存储介质，以分割第一处理液和第二处理液。 构成：处理液供给机构（30）供给第一处理液和第二处理液。 外部排气部15和内侧排气部16分别排出容纳在旋转杯61的第一容纳面61a中的第一处理液和第二处理液。 排气部开闭装置（34）打开和关闭外部排气部。 在排气部开闭装置上升的情况下，第一处理液朝向外侧排气部排出。 在排气部开闭装置下降的情况下，第二处理液向内侧排气部排出。