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公开(公告)号:KR100481074B1
公开(公告)日:2005-06-28
申请号:KR1019970046633
申请日:1997-09-10
Applicant: 삼성전자주식회사
IPC: H01L21/66
Abstract: 본 발명은 렌즈부로의 열전달을 방지하고, 위치조절이 자유로운 조명장치와, 전자식으로 조절되는 웨이퍼 육안검사기를 설치하여 웨이퍼의 정밀검사를 가능하게 하여 검사의 자동화를 이룰 수 있게 하는 반도체 웨이퍼 검사 시스템에 관한 것이다.
본 발명에 따른 반도체 웨이퍼 검사 시스템은, 위치이동이 자유롭고 웨이퍼에 특정파장의 빛을 조사하도록 하는 조명장치와, 카셋트에 적재된 웨이퍼를 개별이송하여 상기 조명장치에서 조사되는 빛의 조사각도를 조절하도록 웨이퍼의 경사를 조절하고, 회전시키는 웨이퍼 육안검사기 및 상기 웨이퍼 육안검사기로부터 웨이퍼를 인계받아 정밀검사하는 현미경을 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 한다.
따라서 웨이퍼 반사각도의 조절을 전자장치로 정밀하게 조절하여 미숙련자도 쉽고, 정확하게 웨이퍼 오염을 발견할 수 있으며, 조명장치의 위치조절 및 광량의 조절이 자유롭고, 발열부의 영향이 없어 미세알갱이에 의한 웨이퍼불량을 방지하며, 웨이퍼의 이송을 자동화하여 취급부주의로 인한 웨이퍼 손실을 방지하게 하는 효과를 갖는다.-
公开(公告)号:KR100278477B1
公开(公告)日:2001-03-02
申请号:KR1019970054900
申请日:1997-10-24
Applicant: 삼성전자주식회사
IPC: G02B21/00
Abstract: 본 발명은 검사대상체의 특정 부위 형상을 일정 배율로 확대하여 그 상태를 확인 또는 검사하는데 사용되는 광학현미경에 관한 것이다.
본 발명에 따른 광학현미경은 대안렌즈부의 일측 단부에 설치되어 리플렉터 커버와, 내부에 보조배율렌즈가 구비되어 있고 상기 리플렉터 커버의 내측에서 상기 대안렌즈부의 단부에 연이어 설치되는 보조배율부 및 상기 리플렉터 커버의 내측과 상기 보조배율부의 외측 사이에 위치되어 광을 공급하는 램프를 포함하여 구성됨을 특징으로 한다.
따라서, 본 발명에 의하면, 램프가 리플렉터 커버의 내측과 보조배율부의 외측 사이에 위치됨에 따라 램프로부터 공급된 광이 직접 또는 난반사되어 보조배율렌즈로 유입되지 않고, 요구되는 광만이 보조배율부를 통해 대안렌즈부로 유동하게 되어 해상도가 향상되고, 또 결합 길이의 축소에 의해 보조배율부의 하측 공간이 확대되어 검사작업이 용이한 효과가 있다.-
公开(公告)号:KR1019990021285A
公开(公告)日:1999-03-25
申请号:KR1019970044820
申请日:1997-08-30
Applicant: 삼성전자주식회사
IPC: G02B21/00
Abstract: 본 발명은 검사대상체의 특정 부위 형상을 일정 배율로 확대하여 그 상태를 확인 또는 검사하는데 사용되는 광학현미경에 관한 것이다.
본 발명에 따른 광학현미경은 검사대상체가 놓이는 스테이지로부터 대물렌즈부, 보조배율부 및 스크린부가 연이어 설치된 광학현미경에 있어서,
상기 대물렌즈부와 스크린부 사이에 위치되는 보조배율부 내부에 광로거리보상용 렌즈가 구비됨을 특징으로 한다.
따라서, 본 발명의 광학 현미경에 의하면, 스테이지의 높낮이를 조절하지 않은 상태에서 저배율 대물렌즈에서 고배율 대물렌즈가 위치되도록 대물렌즈부를 회전시켜도 고배율 대물렌즈의 단부가 검사대상체와 접촉되지 않게 되어 검사대상체의 손상 및 파손을 방지하게 되고, 촛점 거리가 일치됨에 따라 촛점을 맞추기 위한 시간이 단축되어 작업이 용이한 이점이 있다.-
公开(公告)号:KR1020080037353A
公开(公告)日:2008-04-30
申请号:KR1020060104333
申请日:2006-10-26
Applicant: 삼성전자주식회사
IPC: H01L21/304
Abstract: A method for dispensing slurry of a CMP and an apparatus thereof are provided to maximize the use efficiency of slurry by widely diffusing the slurry in a polishing pad while making it to a fine particle. A method for dispensing slurry of a CMP supplies the slurry between friction surfaces of a wafer and a polishing pad(20), the wafer is pressed in one side of the polishing pad at a predetermined pressure by a polishing head(30). The slurry is widely supplied between friction surfaces of the polishing pad and the wafer by widely dispensing the slurry from an upper surface of the polishing pad to a center portion thereof, the wafer is pressed to the polishing pad. The slurry is dispensed from the polishing pad to one side of the polishing pad within the same diameter as that of the wafer in a radial direction.
Abstract translation: 提供一种用于分配CMP的浆料的方法及其装置,以通过在抛光垫中将浆料广泛地分散在细颗粒中来使浆料的使用效率最大化。 用于分配CMP的浆料的方法在晶片的摩擦表面和抛光垫(20)之间提供浆料,通过抛光头(30)以预定的压力将晶片压在抛光垫的一侧。 通过从抛光垫的上表面广泛分配浆料到其中心部分,将浆料广泛地供应在抛光垫的摩擦表面和晶片之间,将晶片压到抛光垫。 将浆料从抛光垫分配到抛光垫的一侧,其直径与晶片的径向相同。
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公开(公告)号:KR1020080016246A
公开(公告)日:2008-02-21
申请号:KR1020060078090
申请日:2006-08-18
Applicant: 삼성전자주식회사
CPC classification number: G01N21/954 , G01F23/02
Abstract: An apparatus for monitoring powder in a pipe is provided to check the amount of powder formed in the pipe and thus to prevent contamination of a process chamber due to the powder. An apparatus for monitoring powder in a pipe(30) comprises a light unit(110), a camera unit(120), and a display unit(130). The light unit is configured in the pipe coupled to a process chamber(10), to illuminate inside the pipe. The camera unit, which is configured in the pipe, photographs the inner wall of the pipe to monitor powder in the pipe. The display unit is connected to the camera unit and displays the image.
Abstract translation: 提供一种用于监测管道中的粉末的装置,以检查管道中形成的粉末的量,从而防止由于粉末而导致的处理室的污染。 一种用于监测管道(30)中的粉末的装置,包括光单元(110),照相机单元(120)和显示单元(130)。 光单元配置在耦合到处理室(10)的管中,以在管内照明。 配置在管道中的相机单元拍摄管道的内壁,以监测管道中的粉末。 显示单元连接到相机单元并显示图像。
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公开(公告)号:KR1020070032499A
公开(公告)日:2007-03-22
申请号:KR1020050086777
申请日:2005-09-16
Applicant: 삼성전자주식회사
IPC: H01L21/68
CPC classification number: H01L21/68 , Y10S414/136
Abstract: A flat zone alignment apparatus is provided to prevent abrasion of an alignment roller and contamination of wafers by varying a portion of the alignment roller connected to sides of the wafers. A housing(110) accommodates plural wafers vertically and holds down a cassette whose upper and lower portions are opened. An alignment roller(120) is formed in the housing. The alignment roller is contacted to an edge part of a lower portion of the wafers exposed through the lower portion of the cassette. A first driving unit(150) rotates the alignment roller to align a flat zone of the wafers. A second driving unit(160) straight-reciprocates the alignment roller to an extended direction of the central axis of the alignment roller to vary a connecting surface of the alignment roller that is connected with the sides of the wafers.
Abstract translation: 设置平坦区域对准装置,以通过改变连接到晶片侧面的对准辊的一部分来防止对准辊的磨损和晶片的污染。 壳体(110)垂直地容纳多个晶片并且压住其上部和下部打开的盒。 定位辊(120)形成在壳体中。 对准辊与通过盒的下部暴露的晶片的下部的边缘部分接触。 第一驱动单元(150)旋转对准辊以对准晶片的平坦区域。 第二驱动单元(160)使对准辊沿对准辊的中心轴线的延伸方向直线往复运动,以改变与晶片侧面连接的对准辊的连接表面。
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公开(公告)号:KR1020040028386A
公开(公告)日:2004-04-03
申请号:KR1020020059556
申请日:2002-09-30
Applicant: 삼성전자주식회사
IPC: G01N21/88
Abstract: PURPOSE: An apparatus for inspecting an optical system is provided to precisely inspect a contamination degree of the optical system of a photo device by using an optical system inspection apparatus. CONSTITUTION: An optical system inspection apparatus includes a light radiating section(12) for radiating light onto an optical system(10) and a detecting section(14) for detecting light passing through the optical system(10). The light radiating section(12) has a light source(120) providing light and a socket(122) for receiving the light source(120) therein. One side of the socket(122) has a size sufficient for receiving the optical system(10). The detecting section(14) has a light collecting section for collecting light passing through the optical system(10), an amplifying section and a current transforming section.
Abstract translation: 目的:提供一种用于检查光学系统的装置,以通过使用光学系统检查装置来精确地检查照相装置的光学系统的污染程度。 构成:光学系统检查装置包括用于将光照射到光学系统(10)上的光辐射部分(12)和用于检测通过光学系统(10)的光的检测部分(14)。 光辐射部分(12)具有提供光的光源(120)和用于在其中接纳光源(120)的插座(122)。 插座(122)的一侧具有足以接收光学系统(10)的尺寸。 检测部分(14)具有用于收集通过光学系统(10)的光的聚光部分,放大部分和电流变换部分。
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公开(公告)号:KR1020030055422A
公开(公告)日:2003-07-04
申请号:KR1020010084942
申请日:2001-12-26
Applicant: 삼성전자주식회사
IPC: B25B21/00
Abstract: PURPOSE: A tool for coupling screws is provided to prevent the damage of a screw head by maximizing the contact surface with the screw head when coupling and disjointing a screw. CONSTITUTION: A fixing member(106) is composed of two rods(102,104). Fixing grooves(102a,104a) are formed at one side of the rods, respectively. The fixing grooves have a screw-head shape when adjoining to face each other. A connecting member(108) connects the rods rotatably. The rods are rotated on the connecting member to adjoin each other, and the screw head is fixed on the fixing grooves.
Abstract translation: 目的:提供一种用于联接螺丝的工具,用于在联接和分离螺钉时最大限度地利用螺钉头与螺钉头接触的表面,以防止螺钉头损坏。 构成:固定构件(106)由两个杆(102,104)组成。 固定槽(102a,104a)分别形成在杆的一侧。 固定槽相互相邻时具有螺丝头形状。 连接构件(108)可旋转地连接杆。 杆在连接构件上旋转以彼此邻接,并且螺钉头固定在固定槽上。
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公开(公告)号:KR1020030055421A
公开(公告)日:2003-07-04
申请号:KR1020010084941
申请日:2001-12-26
Applicant: 삼성전자주식회사
IPC: B25B27/06
Abstract: PURPOSE: A tool for disjointing bearings is provided to easily disjoint the bearings from a rotary shaft regardless of parts coupled with the rotary shaft. CONSTITUTION: A clamping member(106) is composed of two rods(102,104). Grooves(102a,104a) are formed at one side of the rods, respectively, and face each other. The circumference of the bearings coupled with a rotary shaft is inserted into the grooves. A connecting member(108) connects the rods rotatably. A separating bolt(116) pierces the center of the connecting member, and compresses one end of the rotary shaft and disjoints the bearing from the rotary shaft.
Abstract translation: 目的:提供一种不相交轴承的工具,无论与旋转轴连接的部件如何,都可以方便地将旋转轴分离。 构成:夹紧件(106)由两个杆(102,104)组成。 沟槽(102a,104a)分别形成在杆的一侧并彼此面对。 与旋转轴连接的轴承的圆周被插入槽中。 连接构件(108)可旋转地连接杆。 分离螺栓(116)刺穿连接构件的中心,并且压缩旋转轴的一端并将轴承与旋转轴分离。
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公开(公告)号:KR2020010001412U
公开(公告)日:2001-01-15
申请号:KR2019990011852
申请日:1999-06-29
Applicant: 삼성전자주식회사
IPC: B25B5/14
Abstract: 목적: 본고안은고주파플라즈마를이용한건식식각공정에서파생되는정전기유도시에도핑거부저면에웨이퍼가부착되는것을방지할수 있는건식식각장치의클램프링을제공한다. 구성: 챔버내 척전극의상부면에안치된웨이퍼(WF)의외주측에지부를상부에서눌러고정하도록내주면에다수의핑거부(142)가형성된클램프링(140)을갖는건식식각장치에있어서, 상기핑거부(142) 저면을너얼링가공하여요철(142a)을형성함으로써웨이퍼(WF)와의접촉면적을줄일수 있다. 효과: 웨이퍼를눌러고정하는클램프링의핑거부저면을웨이퍼와의접촉면적을줄일수 있는동시에공간방전을속행시킬수 있는구조로개선하여정전기충전으로인한웨이퍼의부착을방지할수 있고, 이에따라서웨이퍼의클램프링 부착으로인해발생되던공정상의불량을해결할수 있어수율을양호하게확보할수 있다.
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