中科微点-全球专利检索

  1. Login
  2. Sign Up

Search Results

58 records (took 0.024 seconds)

    ВОДНАЯ ПОЛИРУЮЩАЯ КОМПОЗИЦИЯ И СПОСОБ ХИМИКО-МЕХАНИЧЕСКОГО ПОЛИРОВАНИЯ ПОДЛОЖЕК ДЛЯ ЭЛЕКТРИЧЕСКИХ, МЕХАНИЧЕСКИХ И ОПТИЧЕСКИХ УСТРОЙСТВ
    21.
    发明专利
    ВОДНАЯ ПОЛИРУЮЩАЯ КОМПОЗИЦИЯ И СПОСОБ ХИМИКО-МЕХАНИЧЕСКОГО ПОЛИРОВАНИЯ ПОДЛОЖЕК ДЛЯ ЭЛЕКТРИЧЕСКИХ, МЕХАНИЧЕСКИХ И ОПТИЧЕСКИХ УСТРОЙСТВ 未知

    公开(公告)号：RU2607214C2

    公开(公告)日：2017-01-10

    申请号：RU2013115239

    申请日：2011-09-06

    Applicant: BASF SE

    Inventor： LI YUZHUO ,  CHU DZHEA-DZHU ,  VENKATARAMAN SHIAM SUNDAR ,  USMAN IBRAKHIM SHEJK ANSAR ,  PINDER KHARVI UEJN

    IPC: C09G1/02 ,  C09G1/04 ,  C09G1/18

    Abstract: Изобретениеотноситсяк воднойполирующейкомпозиции, имеющей pH от 3 до 11. Композициясодержит (А) поменьшеймереодинтипабразивныхчастиц, которыеположительнозаряженыпридиспергированиив воднойсреде, свободнойоткомпонента (В) иимеющей pH винтервалеот 3 до 9, чтоподтверждаетсяэлектрофоретическойподвижностью. Абразивныечастицы (А) являютсянеорганическимичастицами, содержащимиилисостоящимииздиоксидацерия. Композициясодержит (B) поменьшеймереодинанионныйфосфатныйдиспергирующийагент, выбранныйизгруппырастворимыхв водеконденсированныхфосфатов, причемрастворимыйв водеконденсированныйфосфатвыбранизгруппы, состоящейизметафосфатовобщейформулы I:иполифосфатовобщейформулы II и III:гдеМ являетсяаммонием, натриеми калиеми индекс n равенот 2 до 10000. Композициясодержит (C) поменьшеймереодинкомпонентнаосновемногоатомногоспирта, выбранныйизгруппы (с1) многоатомныхспиртов, причеммногоатомныйспирт (с1) содержитсяв количествахот 0,005 до 5 мас.% впересчетенамассууказаннойкомпозиции, (с2) смеси, состоящейиз (с21) поменьшеймереодногомногоатомногоспиртаи (с22) поменьшеймереодногорастворимогов водеилидиспергируемогов водеполимера, (с3) смесей (с1) и (с2). Описантакжеспособполированияподложекдляэлектрических, механическихи оптическихустройстви применениеводнойполирующейкомпозициидляизготовленияэлектрических, механическихи оптическихустройств. Техническийрезультат– обеспечениекомпозиции, имеющейулучшеннуюизбирательностьв отношенииоксидакремнияпосравнениюс нитридомкремниядажеболее 50 сполучениемотполированныхпластин, имеющихпревосходнуюглобальнуюи локальнуюплоскостность. 3 н. и 5

    AQUEOUS POLISHING COMPOSITION AND PROCESS FOR CHEMICALLY MECHANICALLY POLISHING SUBSTRATES FOR ELECTRICAL, MECHANICAL AND OPTICAL DEVICES
    22.
    发明专利
    AQUEOUS POLISHING COMPOSITION AND PROCESS FOR CHEMICALLY MECHANICALLY POLISHING SUBSTRATES FOR ELECTRICAL, MECHANICAL AND OPTICAL DEVICES 未知

    公开(公告)号：SG10201506169XA

    公开(公告)日：2015-09-29

    申请号：SG10201506169X

    申请日：2011-09-06

    Applicant: BASF SE

    Inventor： LI YUZHUO ,  CHU JEA-JU ,  VENKATARAMAN SHYAM SUNDAR ,  USMAN IBRAHIM SHEIK ANSAR ,  PINDER HARVEY WAYNE

    Abstract: An aqueous polishing composition having a pH of 3 to 11 and comprising (A) abrasive particles which are positively charged when dispersed in an aqueous medium free from component (B) and of a pH of 3 to 9 as evidenced by the electrophoretic mobility; (B) anionic phosphate dispersing agents; and (C) a polyhydric alcohol component selected from the group consisting of (c1) water-soluble and water-dispersible, aliphatic and cycloaliphatic, monomeric, dimeric and oligomeric polyols having at least 4 hydroxy groups; (c2) a mixture consisting of (c21) water-soluble and water-dispersible, aliphatic and cycloaliphatic polyols having at least 2 hydroxy groups; and (c22) water-soluble or water-dispersible polymers selected from linear and branched alkylene oxide homopolymers and copolymers (c221); and linear and branched, aliphatic and cycloaliphatic poly(N-vinylamide) homopolymers and copolymers (c222); and (c3) mixtures of (c1) and (c2); and a process for polishing substrates for electrical, mechanical and optical devices.

    Ceroxid und Siliciumdioxid enthaltende Dispersion
    23.
    发明专利
    Ceroxid und Siliciumdioxid enthaltende Dispersion 未知

    公开(公告)号：DE102009027211A1

    公开(公告)日：2010-12-30

    申请号：DE102009027211

    申请日：2009-06-25

    Applicant: BASF SE ,  EVONIK DEGUSSA GMBH

    Inventor： KROELL MICHAEL ,  LORTZ WOLFGANG ,  HEBERER STEFAN ,  BRANDS MARIO ,  LI YUZHUO ,  DRESCHER BETTINA ,  FRANZ DIANA

    IPC: C09G1/02 ,  B24B37/00 ,  C09G1/04 ,  H01L21/3105

    Abstract: Wässrige, Ceroxid und Siliciumdioxid enthaltende Dispersion, erhältlich, indem man eine Ceroxid-Ausgangsdispersion und eine Siliciumdioxid-Ausgangsdispersion zunächst unter Rühren vermischt und nachfolgend bei einer Scherrate von 10000 bis 30000 sdispergiert, wobei a) die Ceroxid-Ausgangsdispersion - als feste Phase 0,5 bis 30 Gew.-% Ceroxidpartikel enthält, - einen d-Wert der Teilchengrößenverteilung von 10 bis 100 nm - und einen pH-Wert von 1 bis 7 aufweist und - b) die Siliciumdioxid-Ausgangsdispersion - als feste Phase 0,1 bis 30 Gew.-% kolloidale Siliciumdioxidpartikel enthält, - einen d-Wert der Teilchengrößenverteilung von 3 bis 50 nm und - einen pH-Wert von 6 bis 11,5 aufweist, d) unter der Maßgabe, dass - der d-Wert der Teilchengrößenverteilung der Ceroxidpartikel größer ist als der der Siliciumdioxidpartikel, - das Gewichtsverhältnis Ceroxid/Siliciumdioxid > 1 ist und - die Menge an Ceroxid-Ausgangsdispersion so bemessen ist, dass das Zetapotential der Dispersion negativ ist.

    ВОДНЫЕ ПОЛИРУЮЩИЕ КОМПОЗИЦИИ, СОДЕРЖАЩИЕ N-ЗАМЕЩЕННЫЕ ДИАЗЕНИЙ ДИОКСИДЫ И/ИЛИ СОЛИ N -ЗАМЕЩЕННЫХ N'-ГИДРОКСИ-ДИАЗЕНИЙ ОКСИДОВ
    28.
    发明专利
    ВОДНЫЕ ПОЛИРУЮЩИЕ КОМПОЗИЦИИ, СОДЕРЖАЩИЕ N-ЗАМЕЩЕННЫЕ ДИАЗЕНИЙ ДИОКСИДЫ И/ИЛИ СОЛИ N -ЗАМЕЩЕННЫХ N'-ГИДРОКСИ-ДИАЗЕНИЙ ОКСИДОВ 未知

    公开(公告)号：RU2608890C2

    公开(公告)日：2017-01-26

    申请号：RU2013115236

    申请日：2011-09-06

    Applicant: BASF SE

    Inventor： NOLLER BASTIAN ,  FRANTS DIANA ,  LI YUZHUO ,  USMAN IBRAKHIM SHEJK ANSAR ,  PINDER KHARVI UEJN ,  VENKATARAMAN SHIAM SUNDAR

    IPC: C09G1/02 ,  A01N51/00 ,  C09G1/04

    Abstract: Изобретениеотноситсяк воднымполирующимкомпозициямдляполированияматериаловподложекэлектрических, высокойточностимеханическихи оптическихустройств. Воднаяполирующаякомпозициясодержит (A) поменьшеймереоднорастворимоев водеилидиспергируемоев водесоединение, выбранноеизсолей N-замещенных N'-гидрокси-диазений-оксидов, и (В) абразивныечастицы, содержащиеоксидцерияилисостоящиеизнего. Описываетсятакжеспособполированияматериаловдодостиженияжелательнойплоскостностис использованиемуказаннойкомпозиции. Предложеннаяполирующаякомпозицияобеспечиваетповышеннуюоксид/нитрид-селективностьи улучшеннуюглобальнуюи локальнуюплоскостностьотполированныхматериаловэлектрических, механическихи оптическихустройств. 3 н. и 6 з. п. ф-лы, 2 табл., 6 пр.

Patent Agency Ranking