公开(公告)号：KR1020060002894A

公开(公告)日：2006-01-09

申请号：KR1020057018481

申请日：2004-03-26

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 하야시다야스시 ,  하라요시타카

IPC: H01L21/68 ,  H01L21/027

CPC classification number: G05B19/4189 ,  G05B2219/32244 ,  G05B2219/45031 ,  H01L21/67276 ,  Y02P90/20 ,  Y02P90/28

Abstract: Formed on a transfer control table are a transfer schedule (SA) and a transfer schedule (SB) for different A-lot and B-lot. The transfer schedule (SB) which follows is moved forward in a time-axis direction only to the extent which does not interfere with the A-lot transfer schedule (SA) which precedes. The transfer schedules (SA, SB) are simultaneously executed such that the timing for initiation of the following transfer schedule (SB) is earlier than the timing for termination of the preceding A-lot transfer schedule (SA), whereby the throughput of the transfer of wafers is improved.

Abstract translation: 在转移控制表上形成的是用于不同A批和B批的转移计划（SA）和转移计划（SB）。 随后的传送调度（SB）在时间轴方向上向前移动到不干扰之前的A-lot传送调度（SA）的程度。 传输时间表（SA，SB）被同时执行，使得用于启动以下传送调度（SB）的定时早于先前的A批传送调度（SA）的终止的定时，由此传送的吞吐量 的晶片得到改进。

公开(公告)号：KR101266735B1

公开(公告)日：2013-05-28

申请号：KR1020097007376

申请日：2007-09-11

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 하야시다야스시 ,  하라요시따까 ,  가네꼬도모히로

IPC: H01L21/027 ,  G03F7/20

CPC classification number: H01L21/67745 ,  H01L21/67178 ,  H01L21/67276

Abstract: 본발명은검사모듈로기판이불필요하게체류하는시간을삭감하고, 이에의해도포, 현상장치의처리량을향상시킬수 있는기술을제공하는것이다. 처리스테이션에서처리를받은기판을, 캐리어스테이션으로전달하는검사스테이션에있어서, 검사에필요로하는시간이서로상이한복수의검사모듈과, 기판을일시적으로체류시키는버퍼유닛과, 제어부에의해그 동작이제어되는기판반송수단이마련되고, 검사모듈이기판의처리를행하는동안, 후속의, 그검사모듈에의한검사대상으로되어있는기판은상기기판반송수단에의해버퍼유닛으로반송되어체류됨으로써, 검사모듈에있어서의기판의체류를억제하여처리량의향상을도모할수 있다.

公开(公告)号：KR101220623B1

公开(公告)日：2013-01-21

申请号：KR1020110106342

申请日：2011-10-18

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 아키모토마사미 ,  하야시신이치 ,  하야시다야스시 ,  마츠오카노부아키 ,  키무라요시오 ,  우에다이세이 ,  이토히카루

IPC: H01L21/027 ,  G03F7/26

CPC classification number: H01L21/6715 ,  H01L21/00 ,  H01L21/67178 ,  H01L21/67184 ,  H01L21/6719

Abstract: 본 발명은 도포 현상장치 및 그 방법에 관한 것으로서 처리 블럭 (S2)에 도포막 형성용의 단위 블럭인 TCT층 (B3) ; COT층 (B4); BCT층 (B5)와 현상 처리용의 단위 블럭인 DEV층 (B1; B2)를 서로 적층하여 설치한다. 반사 방지막을 형성하는 경우 하지 않는 경우의 어느 경우에 있어서도 TCT층 (B3); COT층 (B4) ; BCT층 (B5) 중 사용하는 단위 블럭을 선택함으로써 대응할 수 있고 이 때 반송 프로그램의 복잡화를 억제하여 소프트웨어의 간이화를 도모할 수 있다.
레지스트막 형성용의 단위 블럭과 반사 방지막 형성용의 단위 블럭을 적층해 설치하는 것으로 레지스트막의 상하에 반사 방지막을 형성하는 것에 있어 공간절약화를 도모하는 것과 또 반사 방지막을 형성하는 경우 하지 않는 경우의 어느 것에도 대응하는 것이 가능하고 이 때 소프트웨어의 간이화를 도모하는 기술을 제공한다.

公开(公告)号：KR101198427B1

公开(公告)日：2012-11-06

申请号：KR1020117026678

申请日：2010-06-11

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 가리노겐타로 ,  고자와세이지 ,  미야타아키라 ,  간바야시아키라 ,  하야시다야스시

IPC: H01L21/027 ,  H01L21/02

CPC classification number: H01L21/67248

Abstract: 본 발명의 기판을 처리하는 기판 처리 시스템의 복수의 가열 장치는, 처리 레시피에 설정된 기판의 처리 순서로 가열 장치를 승온하는 룰, 상하 방향으로 적층하여 배치된 가열 장치의 아래에서부터 위의 순으로 승온하는 룰, 승온 시작에서 승온 완료까지의 제정 시간이 짧은 가열 장치에서부터, 제정 시간이 긴 가열 장치의 순으로 승온하는 룰 중의 적어도 어느 하나 또는 2개 이상을 조합시킨 룰에 따라서 승온된다. 가열 장치의 승온은, 하나의 가열 장치가 승온됨에 따라 그 하나의 가열 장치로부터 방산되는 열을, 다른 가열 장치에 전달시키면서 이루어진다.

公开(公告)号：KR101188081B1

公开(公告)日：2012-10-05

申请号：KR1020110014015

申请日：2011-02-17

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 아키모토마사미 ,  하야시신이치 ,  하야시다야스시 ,  마츠오카노부아키 ,  키무라요시오 ,  우에다이세이 ,  이토히카루

IPC: H01L21/027

CPC classification number: H01L21/67184 ,  H01L21/67173 ,  H01L21/67178 ,  H01L21/67207 ,  H01L21/67745

Abstract: 본 발명은 도포 현상장치에 관한 것으로서 복수의 단위 블럭의 집합체로부터 되는 도포·현상 장치가 제공된다. 제 1의 단위 블럭 적층체와 제 2의 단위 블럭 적층체가 전후방향이 다른 위치에 배치된다. 노광 후의 현상 처리를 실시하는 현상 유니트를 포함한 복수의 처리 유니트 및 이들 유니트간의 기판의 반송을 실시하는 반송 수단을 구비한 현상용 단위 블럭이 최하단에 배치된다. 노광전의 도포 처리를 실시하는 도포 유니트를 포함한 복수의 처리 유니트 및 이들 유니트간의 기판의 반송을 실시하는 반송 수단을 구비한 도포용 단위 블럭은 현상용 단위 블럭 위에 배치된다. 도포용 단위 블럭은 제 1의 단위 블럭 적층체 및 제 2의 단위 블럭 적층체의 양쪽 모두에 배치된다. 반사 방지막과 레지스트막의 적층 위치 관계에 따라 도포·현상 장치내에 있어서 노광전의 웨이퍼나 경유하는 도포용 단위 블럭을 결정한다. 노광 후의 웨이퍼는 도포용 단위 블럭을 통과하는 일 없이 현상용 단위 블럭만을 통과하는 기술을 제공한다.

公开(公告)号：KR101177965B1

公开(公告)日：2012-08-28

申请号：KR1020080038861

申请日：2008-04-25

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 마츠오카노부아키 ,  하시모토타카히로 ,  츠치야카츠히로 ,  하야시신이치 ,  하야시다야스시

IPC: H01L21/027

CPC classification number: G03B27/32 ,  G03F7/162 ,  G03F7/3021

Abstract: 본 발명은 도포, 현상 장치에 있어서 스루풋을 향상시킨다.
수평축의 주위에 회동하고, 회동축이 서로 평행이 되도록 전후에 배치된 한 쌍의 회동체(91, 92)와 이들 회동체(91, 92)의 사이에 걸쳐 주회 궤도에 따라 이동하고 그 위에 적재된 웨이퍼(W)의 반송로를 형성하는 반송로 부재(9)와, 상기 반송로의 상류단에 설치된 반입용 수수부(81)와 상기 반송로의 하류단에 설치된 반출용 수수부(82)와, 상기 반송로의 상류단과 하류단 사이에, 웨이퍼(W)를 가열하기 위한 열판(83, 84)을 구비한다.

公开(公告)号：KR101121794B1

公开(公告)日：2012-03-20

申请号：KR1020060005978

申请日：2006-01-19

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 아키모토마사미 ,  하야시신이치 ,  하야시다야스시 ,  마츠오카노부아키 ,  키무라요시오 ,  우에다이세이 ,  이토히카루

IPC: H01L21/027

CPC classification number: H01L21/67184 ,  H01L21/00 ,  H01L21/6715 ,  H01L21/67178 ,  H01L21/6719

Abstract: 본 발명은 도포 현상장치 및 그 방법에 관한 것으로서 처리 블럭 (S2)에 도포막 형성용의 단위 블럭인 TCT층 (B3) ; COT층 (B4); BCT층 (B5)와 현상 처리용의 단위 블럭인 DEV층 (B1 ; B2)를 서로 적층하여 설치한다. 반사 방지막을 형성하는 경우 하지 않는 경우의 어느 경우에 있어서도 TCT층 (B3); COT층 (B4) ;BCT층 (B5) 중 사용하는 단위 블럭을 선택함으로써 대응할 수 있고 이 때 반송 프로그램의 복잡화를 억제하여 소프트웨어의 간이화를 도모 할 수 있다.
레지스트막 형성용의 단위 블럭과 반사 방지막 형성용의 단위 블럭을 적층해 설치하는 것으로 레지스트막의 상하에 반사 방지막을 형성하는 것에 있어 공간절약화를 도모하는 것과 또 반사 방지막을 형성하는 경우 하지 않는 경우의 어느 것에도 대응하는 것이 가능하고 이 때 소프트웨어의 간이화를 도모하는 기술을 제공한다.

公开(公告)号：KR101121321B1

公开(公告)日：2012-03-09

申请号：KR1020110041642

申请日：2011-05-02

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 마츠오카노부아키 ,  하야시다야스시 ,  하야시신이치

IPC: H01L21/02 ,  H01L21/027

CPC classification number: H01L21/67745 ,  H01L21/67178

Abstract: 본발명은도포, 현상장치, 기판처리방법및 기록매체로서, 복수의처리유니트및 반송기구 (A3, A4)를포함하는도포막형성부 (B3)과복수의처리유니트 (31) 및반송기구 (A1)을포함하는현상처리부 (B1)을상하에중복하여처리블럭 (S2)에배치한다. 각해당부의반송기구와의사이에기판 W의수수가행해지는복수의수수유니트 (TRS)로서상하에중복하여배치된복수의수수유니트 (TRS)와각 수수유니트의사이에기판을수수하는승강자유로운수수유니트용반송기구 (D1)이처리블럭 (S2)의캐리어블럭 (S1)측에설치된다. 도포막형성부현상처리부중적어도어느한쪽은해당부의반송기구에의해반송되는기판의검사를실시하는기판검사유니트 (43)을가지는기판검사유니트를구성함에점유면적이좁고불리한레이아웃을피할수가있는도포, 현상장치를제공하는기술을제공한다.

公开(公告)号：KR1020110128767A

公开(公告)日：2011-11-30

申请号：KR1020110106342

申请日：2011-10-18

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 아키모토마사미 ,  하야시신이치 ,  하야시다야스시 ,  마츠오카노부아키 ,  키무라요시오 ,  우에다이세이 ,  이토히카루

IPC: H01L21/027 ,  G03F7/26

CPC classification number: H01L21/6715 ,  H01L21/00 ,  H01L21/67178 ,  H01L21/67184 ,  H01L21/6719 ,  G03F7/265 ,  H01L21/0274

Abstract: PURPOSE: A coating and developing apparatus is provided to obtain high carrier efficiency and carry freely a substrate by forming a reflection barrier layer on the top and the bottom of a resist film. CONSTITUTION: A substrate(W) is carried by a carrier(20) and is received in a processing block(S2). A coating film, which includes a resist film, is formed in the processing block. A substrate is processed by a light exposure through an interface which is connected to the opposite side of a carrier block(S1) in a corresponding processing block. The substrate is carried. The substrate, which returns through an interface block(S3) after being exposed by light, is developed in the processing block and received in the carrier block. The processing block includes a laminated unit block for forming a plurality of coating films and a laminated unit block for developing and processing. The carrier part for a unit block carries the substrate between units along a carrier way which is vertically extended from the carrier block to the interface block.

Abstract translation: 目的：提供涂覆和显影装置以通过在抗蚀剂膜的顶部和底部形成反射阻挡层来获得高载流子效率并自由地携带基板。 构成：衬底（W）由载体（20）承载并被接收在处理块（S2）中。 在处理块中形成包括抗蚀剂膜的涂膜。 通过在对应的处理块中连接到载体块（S1）的相对侧的界面通过曝光来处理衬底。 承载底物。 在光被曝光之后通过界面块（S3）返回的衬底在处理块中显影并被接收在载体块中。 处理块包括用于形成多个涂膜的层压单元块和用于显影和加工的层压单元块。 单元块的承载部件沿着从承载块垂直延伸到接口块的承载方式在单元之间承载基板。

公开(公告)号：KR101075733B1

公开(公告)日：2011-10-21

申请号：KR1020060009384

申请日：2006-01-31

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 아키모토마사미 ,  하야시신이치 ,  하야시다야스시 ,  마츠오카노부아키 ,  키무라요시오 ,  우에다이세이 ,  이토히카루

IPC: H01L21/027

CPC classification number: H01L21/67184 ,  H01L21/67173 ,  H01L21/67178 ,  H01L21/67207 ,  H01L21/67745

Abstract: 본발명은도포현상장치에관한것으로서복수의단위블럭의집합체로부터되는도포·현상장치가제공된다. 제 1의단위블럭적층체와제 2의단위블럭적층체가전후방향이다른위치에배치된다. 노광후의현상처리를실시하는현상유니트를포함한복수의처리유니트및 이들유니트간의기판의반송을실시하는반송수단을구비한현상용단위블럭이최하단에배치된다. 노광전의도포처리를실시하는도포유니트를포함한복수의처리유니트및 이들유니트간의기판의반송을실시하는반송수단을구비한도포용단위블럭은현상용단위블럭위에배치된다. 도포용단위블럭은제 1의단위블럭적층체및 제 2의단위블럭적층체의양쪽모두에배치된다. 반사방지막과레지스트막의적층위치관계에따라도포·현상장치내에있어서노광전의웨이퍼나경유하는도포용단위블럭을결정한다. 노광후의웨이퍼는도포용단위블럭을통과하는일 없이현상용단위블럭만을통과하는기술을제공한다.