公开(公告)号：KR200119712Y1

公开(公告)日：1998-08-01

申请号：KR2019930020079

申请日：1993-09-28

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 강성호

IPC: G11B7/00 ,  G11B7/08

Abstract: 본 고안의 와이어타입구동계를 갖는 광픽업장치는 대물렌즈이동수단을 지지하는 와이어들의 진동상태에 의해 결정되는 진폭크기가 최대인 외이어의 소정위치에 댐핑특성을 갖는 접착제인 비정상적휘어짐방지부재를 설치하므로써 대물렌즈의 양단에 걸리는 자기력의 불균형과 대물렌즈이동수단을 지지하는 외이어들의 자체진동에 의해 발생하는 비정상적인 와이어휘어짐현상을 제거할 수 있는 효과를 가져온다.

公开(公告)号：KR2019960009062U

公开(公告)日：1996-03-16

申请号：KR2019940021578

申请日：1994-08-25

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 강성호

IPC: G11B7/08

Abstract: 이고안은트래킹구동시반경방향뿐만아니라원주방향으로도대물렌즈를이동시킬수 있는 3축제어광픽업액츄에이터에관한것으로서, 디스크의반경방향과원주방향의각 방향으로의상기렌즈홀더의이동을안내하는트래킹힌지와, 상호작용에의해상기반경방향으로의렌즈홀더의이동을위한반경방향자석및 반경방향코일과, 상호작용에의해상기원주방향으로의렌즈홀더의이동을위한원주방향자석및 원주방향코일을구비함으로써, 각부품의가공및 조립공차를엄격히하지아니하더라도원주방향의이동으로보상될수 있으며, 또한에러가발생한경우에도쉽게보상할수 있어, 제조및 조립비용이적게소요될뿐만아니라, 정보재생능력도또한크게향상시킬수 있는효과가있다.

公开(公告)号：KR2019960004154U

公开(公告)日：1996-02-14

申请号：KR2019940017330

申请日：1994-07-13

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 강성호

IPC: G11B7/08

公开(公告)号：KR2019910012571U

公开(公告)日：1991-07-30

申请号：KR2019890020684

申请日：1989-12-27

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 강성호

IPC: G11B5/52

公开(公告)号：KR101829676B1

公开(公告)日：2018-02-20

申请号：KR1020110145765

申请日：2011-12-29

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 강종훈 ,  김태곤 ,  최한메 ,  조은영 ,  강곤수 ,  강성호 ,  허성호

IPC: H01L21/324

CPC classification number: H01L21/324 ,  H01L21/67115 ,  H01L21/67288 ,  H01L21/681 ,  H01L22/10 ,  H01L22/12 ,  H01L22/20

Abstract: 본발명은웨이퍼열 처리방법을개시한다. 웨이퍼열 처리방법은웨이퍼의결함을검출하는것, 결함이공정챔버내의불균일한온도구배영역들을제외한나머지영역들에위치하도록웨이퍼를정렬하는것, 및공정챔버내에서웨이퍼를급속열처리하는것을포함한다.

公开(公告)号：KR1020160142743A

公开(公告)日：2016-12-13

申请号：KR1020150135555

申请日：2015-09-24

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 이종현 ,  박기남 ,  서정우 ,  이남훈 ,  정보경 ,  강곤수 ,  강성호 ,  김태곤 ,  오병주 ,  허진화

IPC: H01J37/32

Abstract: 본발명의기술적사상의일 실시예에의한아크방전장치는냉매유입구와냉매유출구가형성된하우징및 하우징에고정된투과부재를구비하는바디부및 하우징에장착되고, 서로대향하여배치된어노드전극및 캐소드전극을구비한전극부를포함할수 있다. 어노드전극은하우징과연결되는본체부및 본체부와결합되는어노드전극팁을구비하고, 어노드전극의내부에형성되는냉각라인은냉매유입구와냉매유출구와연결되고, 어노드전극팁의내벽과접하는것을특징으로한다.

公开(公告)号：KR1020160080464A

公开(公告)日：2016-07-08

申请号：KR1020140192300

申请日：2014-12-29

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 강성호 ,  권경환 ,  김충빈 ,  박연숙 ,  정혜진

IPC: G09G3/20

CPC classification number: G09G5/006 ,  G09G3/20 ,  G09G2310/0218 ,  G09G2310/08 ,  G09G2320/103 ,  G09G2330/021 ,  G09G2330/026 ,  G09G2330/12 ,  G09G2352/00 ,  G09G2360/18 ,  G09G2370/04 ,  G09G2370/10 ,  G09G2370/14 ,  G09G3/2003 ,  G09G3/2007

Abstract: 본발명의하나의실시형태에따른멀티임베디드타이밍컨트롤러(multi embedded timing controller)는호스트디바이스(host device)와임베디드디스플레이포트를통하여통신하는마스터 TED 그리고상기마스터 TED와싱크버스(sync bus)를통하여연결된적어도하나의슬레이브 TED를포함하고, 시스템부팅동안, 상기싱크버스는풀 링크트레이닝동작을위하여사용되며, 노멀디스플레이동작동안, 상기싱크버스는 PSR(panel self refresh) 동작을위하여사용된다.

Abstract translation: 根据本发明的实施例的多嵌入式定时控制器包括与主机设备和嵌入式显示端口通信的主TED以及连接到主TED和同步总线的至少一个从TED。 在系统引导过程中，同步总线用于完整的链路训练操作。 在正常显示操作期间，同步总线用于面板自刷新（PSR）操作。 因此，数据可以被发送/接收，而不用改变主机的硬件和软件。

公开(公告)号：KR1020140090839A

公开(公告)日：2014-07-18

申请号：KR1020130002954

申请日：2013-01-10

Applicant: 삼성전자주식회사 ,  국제엘렉트릭코리아 주식회사

Inventor： 강성호 ,  구봉진 ,  주용규 ,  허성호 ,  김희석 ,  박용성

IPC: H01L21/20 ,  H01L21/205

CPC classification number: H01L21/02636 ,  C30B25/02 ,  C30B29/06 ,  H01L21/02532 ,  H01L21/0262 ,  H01L21/02664 ,  H01L21/3065 ,  H01L21/67109

Abstract: According to a method of forming an epitaxial layer, an etch gas is decomposed. A source gas is decomposed. An epitaxial layer which is deposited on the undesired area of the substrate is etched with the decomposed gases while the epitaxial layer is formed on the substrate by applying the decomposed gases to the substrate. Therefore, the etch gas is decomposed in advance before the etch gas is drawn into a reaction chamber. The decomposed etch gases are drawn into the reaction chamber so that the epitaxial layer which is formed on the insulating layer of the substrate is etched. As a result, the epitaxial layer which is formed on the substrate has uniform distribution.

Abstract translation: 根据形成外延层的方法，蚀刻气体被分解。 源气体被分解。 用分解的气体蚀刻沉积在衬底的不需要的区域上的外延层，同时通过将分解的气体施加到衬底而在衬底上形成外延层。 因此，在蚀刻气体被吸入反应室之前，预先分解蚀刻气体。 将分解的蚀刻气体吸入反应室，使得形成在基板的绝缘层上的外延层被蚀刻。 结果，形成在基板上的外延层具有均匀的分布。

公开(公告)号：KR1020130091952A

公开(公告)日：2013-08-20

申请号：KR1020120013327

申请日：2012-02-09

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 강성호 ,  구봉진 ,  김기철 ,  복진권 ,  주용규 ,  하상철

IPC: H01L21/205

Abstract: PURPOSE: A gas supply pipe and a chemical vapor deposition device having the same are provided to uniformly discharge gas by preventing the deposition of reaction gas inside a pipe. CONSTITUTION: A first pipe (310) is connected to a gas storage apparatus through a gas supply line. Reaction gas is supplied to a reaction chamber through the first pipe. A second pipe (320) has a thermal contact surface which is in contact with the first pipe. One part of the second pipe is connected to a refrigerant supply part (321). The other part of the second pipe is connected to a refrigerant collection part (322).

Abstract translation: 目的：提供一种气体供给管和具有该气体供给管的化学气相沉积装置，以通过防止反应气体在管内沉积来均匀地排出气体。 构成：第一管道（310）通过气体供应管线连接到气体存储装置。 反应气体通过第一管道供应到反应室。 第二管（320）具有与第一管接触的热接触表面。 第二管的一部分连接到制冷剂供给部（321）。 第二管的另一部分连接到制冷剂收集部分（322）。

公开(公告)号：KR1020070044142A

公开(公告)日：2007-04-27

申请号：KR1020050100127

申请日：2005-10-24

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 전두한 ,  김대옥 ,  김기석 ,  이광영 ,  김영민 ,  강성호

IPC: H01L21/3065

CPC classification number: H01J37/32522 ,  H01J37/32513 ,  H01L21/67069

Abstract: 플라즈마를 이용하여 기판을 가공하는 장치에 있어서, 상기 가공에 사용되는 반응 가스는 공정 챔버의 상부에 배치되는 돔 내부로 공급되며, 상기 돔 내부에서 고주파 파워 인가에 의해 플라즈마 상태로 여기된다. 상기 공정 챔버와 돔 사이에는 상기 돔을 지지하기 위한 돔 플랜지가 배치되며, 상기 돔 플랜지의 내부에는 냉매를 순환시킬 수 있는 냉각 채널이 구비된다. 상기 냉매의 순환에 의해 상기 돔 플랜지는 목적하는 온도로 일정하게 유지될 수 있으며, 이에 따라 상기 돔과 돔 플랜지 사이에 배치되는 가이드 링 및 밀봉 부재의 열 변형이 방지될 수 있으며, 상기 열 변형에 의해 야기될 수 있는 돔의 손상이 미연에 방지될 수 있다.