Abstract:
Es wird eine LED, die eine strahlungsemittierende aktive Schicht (7), einen n-Kontakt (10), einen p-Kontakt (9) und eine Stromaufweitungsschicht (4) aufweist, angegeben. Die Stromaufweitungsschicht (4) ist zwischen der aktiven Schicht (7) und dem n-Kontakt (10) angeordnet. Ferner weist die Stromaufweitungsschicht (4) eine sich mehrfach wiederholende Schichtfolge auf, die mindestens eine n-dotierte Schicht (44), eine undotierte Schicht (42) und eine Schicht aus Al x Ga 1-x N (43), mit 0 x Ga 1-x N (43) weist einen Konzentrationsgradienten des Al-Gehalts auf.
Abstract:
Es wird ein strahlungsemittierender Halbleiterkörper mit einer Kontaktschicht (3) und einer aktiven Zone (7) angegeben, wobei der Halbleiterkörper einen zwischen der Kontaktschicht und der aktiven Zone angeordneten Tunnelübergang (4) aufweist und die aktive Zone eine Mehrfachquantentopfstruktur aufweist, die mindestens zwei aktive Schichten (71) enthält, die bei Einprägen eines Betriebsstroms in den Halbleiterkörper elektromagnetische Strahlung emittieren.
Abstract:
Es wird eine optoelektronischer Halbleiterkörper mit einer Halbleiterschichtenfolge (2) die eine zur Erzeugung von elektromagnetischer Strahlung geeignete aktive Schicht (23) aufweist, und einer ersten und einer zweiten elektrischen Anschlussschicht (4, 6) angegeben, wobei der Halbleiterkörper zur Emission elektromagnetischer Strahlung von einer Vorderseite vorgesehen ist, die erste und die zweite elektrische Anschlussschicht an einer der Vorderseite gegenüberliegenden Rückseite angeordnet und mittels einer Trennschicht (5) elektrisch gegeneinander isoliert sind, die erste elektrische Anschlussschicht (4), die zweite elektrische Anschlussschicht (6) und die Trennschicht (5) lateral überlappen, und sich ein Teilbereich der zweiten elektrischen Anschlussschicht (6) von der Rückseite durch einen Durchbruch (3) der aktiven Schicht (23) hindurch in Richtung zu der Vorderseite hin erstreckt. Weiterhin wird ein Verfahren zur Herstellung eines solchen optoelektronischen Halbleiterkörpers angegeben.
Abstract:
Es werden ein Träger (10) und ein optoelektronisches Bauelement (100) mit dem Träger (10) angegeben, wobei der Träger (10) einen Formkörper (5), zumindest einen Durchkontakt (41, 42) und eine Mehrzahl von Verstärkungsfasern (52) aufweist, wobei der Formkörper (5) aus einem elektrisch isolierenden Formkörpermaterial (53) gebildet ist, der Durchkontakt (41, 42) aus einem elektrisch leitfähigen Material gebildet ist, und die Verstärkungsfasern (52) eine mechanische Verbindung zwischen dem Formkörper (5) und dem Durchkontakt (41, 42) vermitteln, indem die Verstärkungsfasern (52) jeweils bereichsweise in dem Formkörper (5) und bereichsweise in dem Durchkontakt (41, 42) angeordnet sind. Des Weiteren wird ein Verfahren zur Herstellung eines Trägers oder eines Bauelements mit einem solchen Träger angegeben.
Abstract:
Es wird ein optoelektronisches Halbleiterbauteil(10) angegeben umfassend einen Licht emittierenden Halbleiterkörper (1) mit einer Abstrahlseite (1a), eine Stromaufweitungsschicht (2), welche an der Abstrahlseite (1a) des Halbleiterkörpers (1) angeordnet ist und diese zumindest teilweise abdeckt, wobei die Stromaufweitungsschicht (2) ein für das vom Halbleiterkörper (1) abgestrahlte Licht transparentes elektrisch leitfähiges Material (2a) und Partikel(2b) eines weiteren Materials umfasst, und einen elektrischen Kontakt (3), welcher auf einer dem Halbleiterkörper (1) abgewandten Seite (2c) der Stromaufweitungsschicht (2) angeordnet ist.
Abstract:
Es wird ein Verfahren für das Aufwachsen von Halbleiterschichten angegeben. Dabei wird in einem Schritt A ein Träger (1) bereitgestellt. In einem Schritt B wird zumindest ein Substrat (2) auf den Träger (1) aufgebracht. Ferner wird in einem Schritt C ein Aufwachsprozess ausgeführt, bei dem eine Halbleiterschichtenfolge (20) auf eine dem Träger (1) abgewandte Hauptseite des Substrats (2) aufgewachsen wird. Die fertig gewachsene Halbleiterschichtenfolge (20) emittiert im bestimmungsgemäßen Betrieb elektromagnetischer Strahlung. In einem weiteren Schritt D wird ein Temperaturmessprozess durchgeführt, bei dem ein Temperaturprofil (3) des Substrats (2), welches während des Aufwachsprozesses in dem Substrat (2) auftritt, bestimmt wird. Zusätzlich wird ein Schritt E ausgeführt, bei dem der Träger (1) und/oder das Substrat (2) vor oder während des Aufwachsprozesses gezielt bearbeitet werden. Dadurch wird die Temperatur in ausgesuchten Bereichen des Substrats (2) verändert und ein Emissionssprofil der fertig gewachsenen Halbleiterschichtenfolge (20) geglättet.
Abstract:
Ein Verfahren zum Herstellen eines optoelektronischen Bauelements umfasst Schritte zum Bereitstellen eines Trägers mit einer Trägeroberfläche, wobei ein erster lateraler Abschnitt der Trägeroberfläche gegenüber einem zweiten lateralen Abschnitt der Trägeroberfläche erhaben ist, zum Anordnen eines optoelektronischen Halbleiterchips mit einer ersten Oberfläche und einer zweiten Oberfläche auf der Trägeroberfläche, wobei die erste Oberfläche der Trägeroberfläche zugewandt wird, und zum Ausbilden eines Formkörpers mit einer der Trägeroberfläche zugewandten Oberseite und einer der Oberseite gegenüberliegenden Unterseite, wobei der Halbleiterchip zumindest teilweise in den Formkörper eingebettet wird.
Abstract:
In mindestens einer Ausführungsform beinhaltet das optoelektronische Halbleiterbauteil (1) mindestens einen Chipträger (2) mit elektrischen Kontakteinrichtungen (3) sowie mindestens einen optoelektronischen Halbleiterchip (4), der zu einer Strahlungserzeugung eingerichtet ist und der auf dem Chipträger (2) mechanisch und elektrisch angebracht ist. Ein Bauteilträger (5) ist an dem Chipträger (2) befestigt. Der Halbleiterchip (4) befindet sich in einer Ausnehmung (54) des Bauteilträgers (5). Der Bauteilträger (5) ist elektrisch von dem Chipträger (2) und dem Halbleiterchip (4) isoliert. Es ist der Bauteilträger (5) aus einem Metall oder einer Metalllegierung geformt. An einer dem Chipträger (2) abgewandten Oberseite (50) ist der Bauteilträger (5) mit einer reflektierenden Beschichtung (55) versehen.
Abstract:
Ein optoelektronisches Halbleiterbauteil umfasst einen optoelektronischen Halbleiterchip, der in einen elektrisch isolierenden Formkörper mit einer Oberseite und einer Unterseite eingebettet ist. In den Formkörper ist außerdem ein Durchkontakt eingebettet, der eine elektrisch leitende Verbindung zwischen der Oberseite und der Unterseite des Formkörpers bildet. Auf der Oberseite des Formkörpers ist eine reflektierende Schicht angeordnet, die eine elektrisch leitende Verbindung zwischen einem elektrischen Kontakt des Halbleiterchips und dem Durchkontakt bildet. Dabei bedeckt die reflektierende Schicht die Oberseite des Formkörpers zu mindestens 50 %.
Abstract:
Die Erfindung betrifft eine Anordnung (1) zur Erzeugung von weißem Licht (5) mit wenigstens zwei Licht emittierenden Dioden wobei die erste Diode (2) ausgebildet ist, um blaues Licht zu erzeugen, wobei der ersten Diode ein Konversionselement (4) zugeordnet ist, wobei das Konversionselement ausgebildet ist, um einen Teil des blauen Lichts der ersten Diode in grünes Licht zu wandeln, wobei das Konversionselement ausgebildet ist, um einen Teil des blauen Lichts der ersten Diode in rotes Licht zu wandeln, wobei die zweite Diode (3) vorgesehen ist, um rotes Licht zu emittieren.