公开(公告)号：CN1658331A

公开(公告)日：2005-08-24

申请号：CN200510051944.2

申请日：2005-02-16

Applicant: FEI公司

Inventor： J·奇梅里克 ,  A·亨斯特拉

IPC: G21K1/00 ,  G21K1/02 ,  G02B3/00

CPC classification number: H01J37/05 ,  H01J37/09 ,  H01J37/153 ,  H01J37/26

Abstract: 本发明揭示了一种能够进行能量选择的粒子源。能量选择是通过使带电粒子束(13)偏心通过透镜(6)。由于这种方式，在经透镜(6)所形成的像15内出现能量扩散。通过将像(15)投射到光阑(7)上，可仅允许能谱内有限部分的粒子通过。因此，通过的射束(16)具有减小的能够分布。通过增设偏转单元(10)，该粒子束(16)能够向光轴偏转。还可选择向光轴偏转通过透镜(6)中央的(例如具有较大射束电流的)射束(12)。

公开(公告)号：CN1129172C

公开(公告)日：2003-11-26

申请号：CN98117900.2

申请日：1998-09-03

Applicant: 恩益禧电子股份有限公司

Inventor： 小野田中

IPC: H01L21/30 ,  G03F7/00 ,  G03F7/20

CPC classification number: H01J37/09 ,  H01J2237/0453 ,  H01J2237/31794

Abstract: 提供一种用于通过电子束光刻法在衬底上形成图形的装置，该装置包括：(a)形成有至少一个开口(6)的孔(10)，电子束通过开口(6)穿过，(b)利用粘合剂(30)稳固支撑孔(10)的夹具(20)，其特征在于孔(10)被粘接固定到夹具(20)上的孔(10)的表面形成有至少一个凹槽(9)，用于流入粘合剂(30)的过量部分。可防止过量粘合剂被压出进入孔的开口中，从而防止在光刻胶膜上形成错误的图形。

公开(公告)号：CN1211818A

公开(公告)日：1999-03-24

申请号：CN98117900.2

申请日：1998-09-03

Applicant: 日本电气株式会社

Inventor： 小野田中

IPC: H01L21/30 ,  G03F7/00 ,  G03F7/20

CPC classification number: H01J37/09 ,  H01J2237/0453 ,  H01J2237/31794

Abstract: 提供一种用于通过电子束光刻法在衬底上形成图形的装置,该装置包括:(a)形成有至少一个开口(6)的孔(10),电子束通过开口(6)穿过,(b)利用粘合剂(30)稳固支撑孔(10)的夹具(20),其特征在于孔(10)被粘接固定到夹具(20)上的孔(10)的表面形成有至少一个凹槽(9),用于流入粘合剂(30)的过量部分。可防止过量粘合剂被压出进入孔的开口中,从而防止在光刻胶膜上形成错误的图形。

公开(公告)号：CN108666193A

公开(公告)日：2018-10-16

申请号：CN201810229218.2

申请日：2018-03-20

Applicant: 日本株式会社日立高新技术科学

Inventor： 岩堀敏行

IPC: H01J37/20 ,  H01J37/244

CPC classification number: H01J37/045 ,  H01J37/09 ,  H01J37/20 ,  H01J37/22 ,  H01J37/244 ,  H01J2237/002 ,  H01J2237/0203 ,  H01J2237/022 ,  H01J2237/028 ,  H01J2237/0458 ,  H01J2237/202 ,  H01J2237/20207 ,  H01J2237/28 ,  H01J2237/31749

Abstract: 本发明的目的在于提供带电粒子束装置，其能够防止起因于人为的错误等而导致试样与电子束镜筒接触。该带电粒子束装置(10)具有试样室(11)、试样载台(31)、向试样S照射电子束的电子束镜筒(13)以及照射会聚离子束的会聚离子束镜筒(14)。带电粒子束装置(10)具有移位部件(45)，该移位部件(45)具有：开闭部，其被设置为能够在电子束镜筒(13)的出射端部和试样载台(31)之间的插入位置与离开插入位置的退出位置之间移位；以及接触部，其设置于在试样载台(31)进行动作时能够比出射端部先与试样(S)接触的接触位置。带电粒子束装置(10)具有使移位部件(45)移位的驱动机构(42)和检测有无试样(S)与接触部的接触的导通传感器(24)。

公开(公告)号：CN107431037A

公开(公告)日：2017-12-01

申请号：CN201580078094.7

申请日：2015-09-18

Applicant: 英特尔公司

Inventor： Y·A·波罗多维斯基

IPC: H01L21/68 ,  H01L23/544 ,  H01J37/317 ,  G03F7/20 ,  G03F9/00

CPC classification number: H01J37/3045 ,  H01J37/045 ,  H01J37/09 ,  H01J37/20 ,  H01J37/244 ,  H01J37/3174 ,  H01J37/3177 ,  H01J2237/0453 ,  H01J2237/24475 ,  H01J2237/24578 ,  H01J2237/2817 ,  H01L21/0277 ,  H01L21/0337 ,  H01L21/31144 ,  H01L23/544 ,  H01L2223/5442 ,  H01L2223/54426 ,  H01L2223/54453 ,  H01L2223/54473 ,  H01L21/682 ,  G03F7/2059 ,  G03F9/7003

Abstract: 描述了适用于互补型电子束光刻(CEBL)的光刻装置以及涉及互补型电子束光刻(CEBL)的方法。在示例中，电子束工具的精密对准的方法包括：在沿着Y移动晶圆时，在晶圆的X方向对准特征上投射电子束列的多个孔径的电子图像。该方法还包括：在投射期间检测时间分辨的背散射电子(BSE)检测响应波形。该方法还包括：通过计算BSE检测响应波形的导数来确定X方向对准特征的每个特征的每个边缘的X位置。该方法还包括：在确定X方向对准特征的每个特征的每个边缘的X位置之后，调整电子束列与晶圆的对准。

公开(公告)号：CN107039226A

公开(公告)日：2017-08-11

申请号：CN201710020518.5

申请日：2017-01-12

Applicant: 株式会社爱德万测试

Inventor： 滨口新一 ,  田中仁 ,  得能敦 ,  小岛信一 ,  山田章夫

IPC: H01J37/06 ,  H01J37/12 ,  H01J37/147 ,  H01J37/22 ,  G03F7/20

CPC classification number: H01J37/3177 ,  H01J37/045 ,  H01J37/065 ,  H01J37/09 ,  H01J37/10 ,  H01J2237/0435 ,  H01J2237/0453 ,  H01J2237/06308 ,  H01J2237/0835 ,  H01J2237/31754 ,  H01J37/226 ,  G03F7/70808 ,  H01J37/06 ,  H01J37/12 ,  H01J37/1478 ,  H01J2237/063 ,  H01J2237/12

Abstract: 本发明提供一种曝光装置。一种曝光装置(100)，其具有形成试样上的照射位置不同的多个带电粒子束的形成部(122)，形成部(122)具有：粒子源(20)，其从在长边方向和与该长边方向垂直的短边方向上具有不同宽度的放射区域(21)放射带电粒子束；孔径阵列元件(60)，其在长边方向和与该长边方向垂直的短边方向上具有不同宽度的被照明区域(61)上配置有多个开口(62)；照明透镜(30、50)，其设置于粒子源(20)与孔径阵列元件(60)之间；以及束截面变形元件(40)，其设置于粒子源(20)与孔径阵列元件(60)之间，通过磁场或电场的作用使带电粒子束的截面形状变形成各向异性的形状。

公开(公告)号：CN103811248B

公开(公告)日：2017-07-21

申请号：CN201410083953.9

申请日：2011-03-17

Applicant: 汉辰科技股份有限公司

Inventor： 万志民 ,  约翰·D·波拉克 ,  唐·贝瑞安 ,  任克川

IPC: H01J37/09 ,  H01J37/317

CPC classification number: C23C14/48 ,  H01J37/09 ,  H01J37/3171 ,  H01J2237/0455 ,  H01J2237/24542 ,  H01J2237/31711

Abstract: 本发明提供一种利用一离子束以及一可变孔隙在一衬底的不同部分上以不同的离子掺杂量进行离子注入的方法，用以先改变离子束形状，特别是在衬底附近改变离子束的最终形状，然后再以成形后离子束来对衬底进行离子注入。因此，衬底的不同部分或是不同的衬底，可在不使用公知通过多个固定孔隙或是每次都要重新调整离子束等方法的情况下，分别通过不同的成形后离子束来进行离子注入。换句话说，不需要高成本与复杂的操作步骤，即可达成分别通过特制离子束来进行不同离子注入的目的。另外，相较于现有技术，由于可变孔隙的调整可通过机械操作而易于达成，故能加速离子束调整过程，以获得进行离子注入的一特定离子束的离子束调整过程。

公开(公告)号：CN103094031B

公开(公告)日：2017-05-24

申请号：CN201210438995.0

申请日：2012-11-06

Applicant: FEI 公司

Inventor： N.W.帕克 ,  M.W.乌特劳特 ,  D.塔格尔 ,  J.格雷厄姆

IPC: H01J37/09 ,  H01J37/26 ,  H01J37/28 ,  H01J9/00

CPC classification number: G21K1/00 ,  H01J37/09 ,  H01J2237/045 ,  H01J2237/0453

Abstract: 实现一种改进的限束孔阑结构及制作的方法。在位于支撑衬底中的空腔上方的薄的导电膜中制作孔阑开口，其中孔阑的尺寸和形状由导电膜中的开口确定，而不是由衬底确定。

公开(公告)号：CN106683966A

公开(公告)日：2017-05-17

申请号：CN201610792695.0

申请日：2016-08-31

Applicant: 北京埃德万斯离子束技术研究所股份有限公司

Inventor： 刁克明

IPC: H01J37/09

CPC classification number: H01J37/09

Abstract: 本发明涉及一种大束径离子源，包括：气体电离装置、离子光学系统和中和装置，其中气体电离装置用于产生等离子体，离子光学系统用于从等离子体中抽取离子束并加速，中和装置用于向离子束发射电子生成中性离子束；该大束径离子源的发射口径为100～200mm；所述离子光学系统包括在同一中心线上轴向间隔设置的屏栅和加速栅，该屏栅中部设有带栅孔的栅孔区，栅孔区的栅孔孔径沿径向方向从栅孔区圆心向外逐渐增大。本发明的大束径离子源，通过设计变孔径屏栅，使屏栅孔径与屏栅抽取的等离子浓度分布相匹配，进而通过不同的孔径抽取相同的束流密度，达到改善束流均匀度的目的，可产生束流宽、方向性强的离子束，且有效束径及均匀度大，束流稳定性强。

公开(公告)号：CN105103264B

公开(公告)日：2017-04-05

申请号：CN201580000348.3

申请日：2015-02-27

Applicant: 株式会社爱发科

Inventor： 汤濑琢巳 ,  寺泽寿浩

IPC: H01J37/30 ,  H01J37/04

CPC classification number: H01J37/04 ,  H01J37/09 ,  H01J37/1472 ,  H01J37/3171 ,  H01J2237/0213 ,  H01J2237/028 ,  H05H1/16 ,  H05H7/04

Abstract: 从离子源向离子加速装置16入射并且在离子加速管24内飞行的正离子被在离子加速管24的内部配置的多个加速电极2a~2h加速而向照射对象物照射。在离子加速管24内配置有多个磁铁装置5，使各磁铁装置5分别形成的磁力线的方向在相邻的磁铁装置5中以比0度大且90度以下的角度不同，使各磁力线在离子加速管24内沿一个方向旋转。使在离子加速管24内逆行的电子与磁力线交叉，使电子一边逆行一边增加离飞行轴的距离。电子与离子加速管24内的构件冲撞，在变为高能量之前停止，因此，不产生高能量X射线。