반도체 장치의 제조 방법
    73.
    发明公开
    반도체 장치의 제조 방법 审中-实审
    半导体器件的制造方法

    公开(公告)号:KR1020170019676A

    公开(公告)日:2017-02-22

    申请号:KR1020150113781

    申请日:2015-08-12

    Abstract: 반도체장치의제조방법이제공된다. 반도체장치의제조방법은, 미리정해진제1 두께를갖는제1 반도체칩과미리정해진제2 두께를갖는제2 반도체칩을이용하여, 상기제1 및제2 두께의합보다크고미리정해진제3 두께를갖는반도체장치를제조하는반도체장치의제조방법으로서, 상기제1 두께를갖는제1 반도체칩을형성하고, 상기제1 반도체칩 상에, 상기제1 반도체칩과 TSV(Through Silicon Via)로접속되고, 상기제2 두께를갖는제2 반도체칩을형성하고, 상기제2 반도체칩 상에, 상기제2 반도체칩과전기적으로미접속되고, 제4 두께를갖는더미반도체칩을형성하는것을포함하되, 상기제4 두께는상기제3 두께와상기제1 및제2 두께의합의차이를고려하여결정된다.

    Abstract translation: 一种半导体器件的制造方法,其中使用具有期望的第一厚度的第一半导体芯片和具有期望的第二厚度的半导体芯片来制造具有期望的第三厚度的半导体器件,所述第三厚度大于第一和第二厚度之和的半导体器件, 第二厚度包括提供具有第一厚度的第一半导体芯片,形成第二半导体芯片,第二半导体芯片经由第一半导体芯片上的硅通孔(TSV)连接到第一半导体芯片并具有第二厚度,并且提供 在所述第二半导体芯片上未与所述半导体芯片电连接并具有第四厚度的虚设半导体芯片,其中所述第四厚度基于所述第三厚度和所述第一和第二厚度之和之间的差大小而产生 厚度。

    기판 처리 장치 및 기판 처리 방법
    75.
    发明公开
    기판 처리 장치 및 기판 처리 방법 审中-实审
    基板处理装置及基板处理方法

    公开(公告)号:KR1020160125585A

    公开(公告)日:2016-11-01

    申请号:KR1020150056039

    申请日:2015-04-21

    CPC classification number: H01L21/67051 B24B7/228

    Abstract: 본발명은기판처리장치및 기판처리방법에관한것으로, 기판을지지하는스핀척, 상기스핀척 상부(over)에배치되고, 상기스핀척에의해지지되는기판을연마하는연마헤드및 상기스핀척에의해지지되는상기기판으로고압수를분사하는분사노즐을갖는노즐부재를포함하되, 상기분사노즐은상기기판과오버랩되도록배치되어상기기판의가장자리로상기고압수를분사하도록구성되는기판처리장치가제공된다.

    Abstract translation: 本发明的概念涉及基板处理装置和使用其的基板的处理方法。 该装置包括配置成支撑基板的旋转卡盘,设置在旋转卡盘上方并构造成研磨由旋转卡盘支撑的基板的研磨头,以及包括喷射喷嘴的喷嘴构件,该喷嘴构造成将高压水喷射到基板 由旋转卡盘支撑。 喷射喷嘴与基板重叠以将高压水喷射到基板的边缘。

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