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公开(公告)号：CN107851592A
公开(公告)日：2018-03-27
申请号：CN201680045771.X
申请日：2016-06-06
Applicant: 沃特洛电气制造公司
CPC classification number: H01J37/32724 , H01J37/3244 , H01J37/32697 , H01J37/32715 , H01J2237/2001 , H01J2237/2007 , H01J2237/332 , H01J2237/334 , H01L21/67 , H02N13/00
Abstract: 一种用于静电卡盘的支撑基座装置包括底座壳体，所述底座壳体限定内部腔，以及底座插入件，所述底座插入件被布置成接近所述底座壳体的内部腔。在所述内部腔中形成流体路径并且所述流体路径包括多个线性平行的冷却通道、流体供应通道和流体返回通道，所述多个线性平行的冷却通道由对应的多个线性平行的散热片隔开。冷却流体流经所述流体供应通道，通过所述多个线性平行的冷却通道，并且通过所述流体返回通道返回，以冷却所述支撑基座装置。
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公开(公告)号：CN105143846B
公开(公告)日：2017-11-17
申请号：CN201480023150.2
申请日：2014-04-11
Applicant: 株式会社日立高新技术
CPC classification number: H01J37/20 , B25J7/00 , G01N1/42 , G01N2001/2873 , H01J37/28 , H01J37/30 , H01J37/302 , H01J37/304 , H01J37/3056 , H01J2237/002 , H01J2237/2001 , H01J2237/2007 , H01J2237/202 , H01J2237/208 , H01J2237/2801 , H01J2237/30461 , H01J2237/31745 , H01J2237/31749
Abstract: 在用于观察耐热性弱的材料的试样制作中，能够观察刚刚制作出最终观察面后的纯净的状态。本发明的试样制作方法使用带电粒子束装置制作试样，该带电粒子束装置具备：具有冷却机构的微型探针、具备将试样保持为冷却的状态的机构的第一试样保持器、能够导入上述微型探针和第一试样保持器的工作台，该试样制作方法具备：从冷却保持的第一试样保持器上的试样切出块状的试样片的步骤；使该试样片与被冷却为一定温度的上述微型探针的前端粘连，并在上述带电粒子束装置的真空室内将该试样片转移到与第一试样保持器不同的冷却保持的薄膜观察用的第二试样保持器的步骤；在从微型探针切离了被转移到薄膜观察用试样保持器的该试样片后，将该试样片薄膜加工为比切出时的厚度薄的厚度的步骤；以及观察薄膜加工后的该试样片的步骤。
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公开(公告)号：CN107192730A
公开(公告)日：2017-09-22
申请号：CN201610390032.6
申请日：2016-06-03
Applicant: 台湾电镜仪器股份有限公司
IPC: G01N23/225
CPC classification number: H01J37/26 , H01J37/16 , H01J37/18 , H01J37/20 , H01J2237/162 , H01J2237/166 , H01J2237/188 , H01J2237/2001 , H01J2237/2003 , H01J2237/2004 , H01J2237/202 , G01N23/225
Abstract: 一种电子显微镜，包含：带电粒子束产生器、检测器、薄膜以及承载单元。带电粒子束产生器是用以产生第一带电粒子束以轰击待测物。检测器是用以检测来自待测物的第二带电粒子以形成影像。薄膜是设置于带电粒子束产生器的下游侧，且具有第一表面以及第二表面，其中带电粒子束产生器及薄膜的第一表面之间为真空环境。承载单元是设置于薄膜的第二表面侧，且具有承载表面以及背面，其中待测物设置于承载单元的承载表面，使待测物的待测表面与薄膜的距离小于预定间距，且待测表面与薄膜之间具有液体空间，以充填液体。
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公开(公告)号：CN103782363B
公开(公告)日：2017-04-05
申请号：CN201280043932.3
申请日：2012-08-23
Applicant: 杰富意钢铁株式会社
IPC: H01J37/20
CPC classification number: H01J37/20 , H01J2237/022 , H01J2237/2001
Abstract: 本发明提供一种用于使用了电子束的显微镜或者分析装置的试样加热架、以及使用了该试样加热架的试样加热方法，所述试样加热架不需要进行超高真空化，能在不导致试样表面的破坏的情况下稳定地防止试样表面的污染。该用于使用了电子束的显微镜或者分析装置的试样加热架，对于观察和分析期间的碳污染的生长和热漂移的抑制能力优异，其特征在于，具备正温度系数（PTC）热敏电阻作为发热体。
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公开(公告)号：CN104685603B
公开(公告)日：2016-11-16
申请号：CN201380039786.1
申请日：2013-06-19
Applicant: 株式会社日立高新技术
CPC classification number: H01J37/20 , H01J37/244 , H01J37/26 , H01J37/261 , H01J2237/006 , H01J2237/063 , H01J2237/2001 , H01J2237/2002 , H01J2237/2003 , H01J2237/2007 , H01J2237/2448 , H01J2237/2602
Abstract: 本发明的目的在于提供一种电子显微镜及电子显微镜用试样保持装置，其能在电子显微镜内容易且安全地营造气体或液体环境，以高分辨率观察其中的试样及其反应。在具备保持试样(23)的试样保持单元(6)的电子显微镜中，上述试样(23)配置于电子束能通过的毛细管(17)内部，在上述毛细管(17)内部具有向上述毛细管(17)内部供给气体或液体的供给装置、以及回收上述气体或液体的回收装置，一边使上述气体或液体流动一边获得上述试样的试样图像。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN105474348A
公开(公告)日：2016-04-06
申请号：CN201480045594.6
申请日：2014-09-18
Applicant: 株式会社日立高新技术
CPC classification number: H01J37/18 , F25B19/005 , F25B45/00 , H01J2237/002 , H01J2237/022 , H01J2237/028 , H01J2237/182 , H01J2237/2001 , H01J2237/2002
Abstract: 本发明提供防污染阱以及真空应用装置，在现有构造中将双重的冷却罐之间真空隔热，通过与内侧容器连接的高导热率材料来对冷却部进行冷却。在这样的构造中，也有由于高导热率材料、针对冷却部的浸入热而造成的影响，但例如在制冷剂使用了液体氮的情况下，约需要30分钟到达－120℃。即使花费了时间的情况下，也就是－150℃前后的到达温度，远远不及液体氮温度的－196℃。因此，在本发明的防污染阱以及真空应用装置中，其特征在于，是在真空应用装置中冷却装置内冷却部(5)的构造，具有装有对冷却部(5)进行冷却的制冷剂(2)的冷却罐(1)、和从上述冷却罐(1)到冷却部(5)附近的冷却管(7)，制冷剂(2)被供给到冷却部(5)前端。并且，其特征在于，将用于释放冷却管内气泡(10)的管(8)插入到冷却部(5)。
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公开(公告)号：CN103460335B
公开(公告)日：2016-01-27
申请号：CN201180013955.5
申请日：2011-03-16
IPC: H01L21/00 , H01L21/683
CPC classification number: H01L21/6831 , H01J37/20 , H01J37/3171 , H01J2237/002 , H01J2237/2001 , H01J2237/2007 , H01J2237/20214 , H01J2237/2065 , H01J2237/31701 , H01L21/67109
Abstract: 本发明涉及利用蒸汽压缩冷却系统的离子注入系统。在一个实施例中，在蒸汽压缩系统中的热控制器依照理想蒸汽压缩循环发送制冷剂流体通过压缩机和冷凝器，以帮助限制或防止在注入期间工件不期望的加热，或者主动冷却所述工件。
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公开(公告)号：CN102918621B
公开(公告)日：2015-11-25
申请号：CN201180026216.X
申请日：2011-05-26
Applicant: 艾克塞利斯科技公司
Inventor： 威廉·李
IPC: H01J37/317 , H01J37/18 , H01J37/02
CPC classification number: H01J37/3171 , H01J37/185 , H01J2237/006 , H01J2237/184 , H01J2237/2001 , H01J2237/24585
Abstract: 本发明公开一种用于避免离子植入系统的端部站中的工件上的凝结的系统、装置和方法。工件在第一环境中被冷却，并且被转移至载荷锁定室，载荷锁定室分别地与端部站和第二环境选择性地流体连通。工件温度监测装置配置成用于测量在载荷锁定室中的工件的温度。外部监测装置测量第二环境中的温度和相对湿度，并且控制器配置成在工件从载荷锁定室转移至第二环境时工件上不会形成凝结的工件的温度。
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公开(公告)号：CN102907180B
公开(公告)日：2015-09-16
申请号：CN201180019903.9
申请日：2011-06-03
Applicant: 应用材料公司
Inventor： 哈密迪·塔瓦索里 , 逍平·周 , 沙恩·C·尼维尔 , 道格拉斯·A·布池贝尔格尔 , 费纳多·M·斯李维亚 , 巴德·L·梅斯 , 蒂娜·琼 , 科坦·马哈德斯瓦拉萨瓦米 , 亚莎斯维尼·B·帕特 , 达·D·源 , 沃特·R·梅丽
CPC classification number: H01J37/20 , H01J37/32724 , H01J37/32908 , H01J37/32926 , H01J37/32935 , H01J2237/2001 , H05H1/34
Abstract: 本发明描述通过脉冲式施加加热功率和脉冲式施加冷却功率来控制等离子体处理腔室中的温度的方法和系统。在实施例中，温度控制至少部分地基于前馈控制信号，前馈控制信号源自输入到处理腔室中的等离子体功率。在另一实施例中，部分地通过耦接两个储器的被动平衡管，来维持热储器与冷储器各自的液位，两个储器耦接至温度受控部件。在另一实施例中，随着取决于加热/冷却工作循环值和比例循环的脉冲宽度，打开数字式传热流体流量控制阀，比例循环具有提供良好温度控制性能的持续时间。
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公开(公告)号：CN101582375B
公开(公告)日：2015-06-24
申请号：CN200810178907.1
申请日：2006-10-18
Applicant: 先进热科学公司
Inventor： 丹尼尔·J·霍夫曼 , 保罗·卢卡丝·比瑞哈特 , 理查德·弗威尔 , 哈密迪·塔瓦索里 , 道格拉斯·A·小布什伯格 , 道格拉斯·H·伯恩斯 , 卡洛·贝拉
IPC: H01L21/00 , H01L21/683 , H01J37/32
CPC classification number: H01L21/67248 , F25B49/02 , F25B2400/0401 , F25B2400/0403 , F25B2400/0411 , F25B2700/21174 , F25B2700/21175 , H01J37/32091 , H01J37/32183 , H01J37/32724 , H01J2237/2001 , H01L21/67069 , H01L21/67109 , H01L21/6831 , H05H2001/4682
Abstract: 本发明公开具有均匀温度分布晶片支撑的电容耦合等离子体反应装置。用于处理工件的等离子体反应装置包括反应室、在室内用于支撑工件的静电吸盘、耦合用来向静电吸盘施加RF功率的RF等离子体偏置功率发生器以及具有在静电吸盘内部并且具有入口和出口的热交换器的相变传热(PCHT)环路。PCHT环路可以工作在两种模式之一，这两种模式是冷却模式和加热模式。PCHT环路还可以包括至少间接耦合到热交换器的出口的压缩器以及(在冷却模式中)耦合到压缩器的出口的冷凝器及耦合在冷凝器的输出和热交换器的入口之间的膨胀阀。优选地，在热交换器内的相变传热(PCHT)介质的一部分是气相和液相的混合物。结果，静电吸盘和热交换器内的PCHT介质之间的传热是恒温过程。
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