公开(公告)号：EP1451849A4

公开(公告)日：2007-07-18

申请号：EP02800741

申请日：2002-10-02

Applicant: CANON KK

Inventor： MOTOI TAIKO ,  UENO RIE

IPC: H01J37/20 ,  H01J37/28 ,  H01J37/30 ,  H01J37/304 ,  H01J37/317

CPC classification number: H01J37/28 ,  H01J37/20 ,  H01J37/3005 ,  H01J37/304 ,  H01J2237/2001 ,  H01J2237/2002 ,  H01J2237/2814 ,  H01J2237/30455 ,  H01J2237/3174 ,  H01J2237/31745 ,  H01J2237/31749

Abstract: The invention provides a cross section evaluating apparatus capable of analyzing the cross sectional structure in a state where the temperature of the specimen is regulated. There is disclosed an information acquisition apparatus comprising a stage for placing the specimen, temperature regulation means for regulating the temperature of the specimen, exposure means for exposing a surface, of which information is desired, of the specimen, and information acquisition means for acquiring information relating to the surface exposed by the exposure means.

公开(公告)号：EP1205964A4

公开(公告)日：2005-02-02

申请号：EP00937315

申请日：2000-06-20

Applicant: TOKYO ELECTRON LTD

Inventor： KOMINO MITSUAKI ,  SASAKI YASUHARU ,  TSUBOI KYO ,  AMANO HIDEAKI

IPC: C23C16/46 ,  H01L21/00 ,  H01L21/205 ,  H01L21/302 ,  H01L21/3065 ,  H01L21/31 ,  H01L21/683 ,  C23C16/505

CPC classification number: H01L21/67109 ,  C23C16/46 ,  H01J2237/2002

Abstract: An electrode structure is provided for use in a plasma device that processes a workpiece (W) using a plasma in a process chamber (26) in a vacuum. An electrode (38) includes a heater (44). The electrode (38) is coupled to a cooling block (40) having a cooling jacket (58) for cooling the electrode. A heat-resistant metal sealant (66A, 66B) covers the electrode in a heat-transfer space (62, 64) formed between the electrode and the cooling block. Gas supply means (94) on the electrode side supplies a heat medium to the space (62, 64). Such an electrode structure maintains the electrode sealed in the space in a high temperature range above 200 DEG C, even at 350 to 500 DEG C, and prevents the gas leakage.

公开(公告)号：EP1114435A1

公开(公告)日：2001-07-11

申请号：EP99971965.1

申请日：1999-10-25

Applicant: FRAUNHOFER-GESELLSCHAFT ZUR FÖRDERUNG DERANGEWANDTEN FORSCHUNG E.V.

Inventor： BRÜNGER, Wilhelm

IPC: H01J37/02 ,  H01J37/28

CPC classification number: H01J37/026 ,  H01J37/3056 ,  H01J2237/0044 ,  H01J2237/2002 ,  H01J2237/2608

Abstract: The invention relates to method for examining the surface structures of a sample (14) or for modifying the surface structures of a sample (14) using a beam (11) which strikes the surface structure of said sample (14). According to the inventive method, a gas is intermittently supplied, preferably in a pulsed mode, to the surface structure of the sample (14) at least in the area of incidence (13) of the beam (11).

公开(公告)号：EP0969493A1

公开(公告)日：2000-01-05

申请号：EP98112389.6

申请日：1998-07-03

Applicant: ICT Integrated Circuit Testing Gesellschaft für Halbleiterprüftechnik mbH

Inventor： Feuerbaum, Hans-Peter, Dr. ,  Winkler, Dieter, Dr.

IPC: H01J37/02

CPC classification number: H01J37/026 ,  H01J37/28 ,  H01J2237/0044 ,  H01J2237/006 ,  H01J2237/2002 ,  H01J2237/2608

Abstract: An apparatus for examining a specimen with a beam of charged particles. The apparatus comprises a particle source for providing a beam of charged particles and an optical device for directing said beam of charged particles onto said specimen to be examined. Furthermore, a gas supply provides inert gas to the area of incidence of said beam of charged particles onto said specimen. The specimen can be loaded into a vacuum chamber.

公开(公告)号：NL1040131C

公开(公告)日：2014-01-28

申请号：NL1040131

申请日：2013-03-27

Applicant: UNIV DELFT TECH

Inventor： HOOGENBOOM JACOB PIETER ,  ZONNEVYLLE AERNOUT CHRISTIAAN

IPC: G02B21/00 ,  G02B21/33 ,  H01J37/22 ,  H01J37/28

CPC classification number: G02B21/0004 ,  G02B21/0088 ,  G02B21/33 ,  H01J37/228 ,  H01J37/28 ,  H01J2237/18 ,  H01J2237/2002 ,  H01J2237/2003 ,  H01J2237/2608

公开(公告)号：KR101671323B1

公开(公告)日：2016-11-02

申请号：KR1020147036503

申请日：2013-06-28

Applicant: 가부시키가이샤 히다치 하이테크놀로지즈

Inventor： 오미나미유스케 ,  이토스케히로

IPC: H01J37/244 ,  H01J37/20 ,  H01J37/16 ,  H01J37/18

CPC classification number: H01J37/16 ,  H01J37/00 ,  H01J37/18 ,  H01J37/20 ,  H01J37/244 ,  H01J37/26 ,  H01J37/28 ,  H01J2237/2002 ,  H01J2237/24455 ,  H01J2237/2605

Abstract: 일차하전입자선을시료상에조사해서, 상기조사에의해얻어지는이차하전입자신호를검출하여, 상기시료를관찰하는시료관찰방법에있어서, 진공상태로유지된하전입자광학경통내에서발생하는상기일차하전입자선을, 상기시료가재치된공간과상기하전입자광학경통을격리하도록배치된격막을투과또는통과시키고, 대기압또는대기압보다약간의부압상태의소정의가스분위기에놓여진상기시료에상기일차하전입자선을조사하는것에의하여얻어지는투과하전입자선을검출하는것을특징으로한다.

公开(公告)号：KR1020150067143A

公开(公告)日：2015-06-17

申请号：KR1020157006923

申请日：2013-10-10

Applicant: 질레코 인코포레이티드

Inventor： 메도프,마샬 ,  마스터맨,토마스,크레이그 ,  파라디스,로버트

IPC: B01J19/08 ,  B65G27/04

CPC classification number: G21F3/00 ,  A61L2/087 ,  B01J19/082 ,  B01J19/085 ,  B01J19/12 ,  B01J19/123 ,  B01J19/125 ,  B01J19/22 ,  B01J2219/0869 ,  B01J2219/0871 ,  B01J2219/0879 ,  B01J2219/12 ,  B01J2219/1203 ,  B65G27/04 ,  C08H8/00 ,  C10B19/00 ,  C10B53/02 ,  C10G1/02 ,  C10G32/04 ,  C10L5/403 ,  C10L5/442 ,  C10L5/445 ,  C10L5/46 ,  C10L2200/0469 ,  C10L2290/24 ,  C10L2290/28 ,  C10L2290/36 ,  C10L2290/52 ,  C13K1/02 ,  C13K13/002 ,  D21B1/02 ,  G21K5/04 ,  G21K5/10 ,  H01J5/18 ,  H01J33/04 ,  H01J37/20 ,  H01J37/317 ,  H01J2237/2002 ,  H01J2237/202 ,  Y02E50/10 ,  Y02E50/14 ,  Y02E50/16 ,  Y02E50/30 ,  Y02E50/32 ,  Y02P20/145

Abstract: 셀룰로스및 리그노셀룰로스물질을에너지및 연료등과같은유용한중간생성물및 생성물로가공처리는방법및 시스템이기재되어있다. 예를들어, 셀룰로스및 리그노셀룰로스물질의가공처리를위하여고도로효율적인진동컨베이어등과같은반송시스템이기재되어있다. 본명세서에서는, 이온화방사선공급원을포함하는, 처리된바이오매스물질을생산하는장치가제공된다.

Abstract translation: 加工生物质（例如，植物生物质，动物生物质和城市废物生物质）以产生有用的中间体和产品，例如能量，燃料，食品或材料。 例如，描述了可用于处理储存库中的原料（例如纤维素和/或木质纤维素材料）的系统和方法，其中设备通过设备外壳防止辐射和有害气体。 设备外壳可能会被气体吹扫。

公开(公告)号：KR1020150067134A

公开(公告)日：2015-06-17

申请号：KR1020157005135

申请日：2013-10-02

Applicant: 액셀리스 테크놀러지스, 인크.

Inventor： 리,윌리엄 ,  레이놀즈,윌리엄 ,  스톤,스탠리

IPC: H01J37/317 ,  H01J37/18 ,  H01J37/20 ,  H01L21/67 ,  H01L21/677

CPC classification number: H01J37/18 ,  H01J37/20 ,  H01J37/3171 ,  H01J2237/2001 ,  H01J2237/2002 ,  H01J2237/2007 ,  H01J2237/201 ,  H01J2237/204 ,  H01J2237/31705 ,  H01L21/02002 ,  H01L21/67109 ,  H01L21/67201 ,  H01L21/67213 ,  H01L21/67742 ,  H01L21/67766

Abstract: 이온주입시스템은냉각된척 상에프로세스챔버의진공환경에위치된피가공재에이온들을제공한다. 프로세스챔버내의예냉스테이션은, 피가공재를제 1 온도로냉각하도록구성된냉각된피가공재서포트를가지며, 프로세스챔버내의후열스테이션은피가공재를제 2 온도로가열하도록구성된가열된피가공재서포트를갖는다. 제 1 온도는프로세스온도보다낮으며, 제 2 온도는외부온도보다높다. 피가공재전달아암은척, 로드록 챔버, 예냉스테이션및 후열스테이션중 2 개또는그 초과사이에서 2 개또는그 초과의피가공재들을동시에전달하도록추가로구성된다.

公开(公告)号：KR101432562B1

公开(公告)日：2014-08-21

申请号：KR1020070141363

申请日：2007-12-31

Applicant: (주)소슬

Inventor： 한영기 ,  서영수

IPC: H01L21/205 ,  H01L21/3065

CPC classification number: H01J37/20 ,  H01J37/3244 ,  H01J37/32449 ,  H01J2237/2002 ,  H01J2237/20235

Abstract: 본 발명은 반응 공간을 제공하는 챔버와, 상기 챔버 내부에 설치되는 스테이지와, 상기 스테이지에 대향하여 상기 챔버 내부에 설치되는 플라즈마 차폐부와, 상기 스테이지와 상기 플라즈마 차폐부 사이에 기판을 거치하는 거치대와, 상기 스테이지에 마련되어 상기 기판의 일면에 반응 가스 또는 비반응 가스를 공급하는 제 1 공급구와, 상기 플라즈마 차폐부에 마련되어 상기 기판의 타면에 반응 가스를 공급하는 제 2 공급구 및 비반응 가스를 공급하는 제 3 공급구를 포함하는 기판 처리 장치 및 기판 처리 방법을 제공한다.
이와 같은 본 발명은 단일 챔버 내에서 기판의 에지 영역 및 배면 영역에 대한 플라즈마 처리를 개별적으로 수행할 수 있다. 따라서, 장비의 설치 공간이 줄어들어 생산 라인의 공간 활용성을 높일 수 있다. 그리고, 챔버 이동에 따른 대기 노출이 없으므로 기판 오염이 적으며, 챔버 이동에 따른 대기 시간이 없으므로 전체적인 공정 시간을 단축할 수 있다.
기판, 플라즈마, 에지 식각, 반응 가스, 비반응 가스, 단일 챔버

公开(公告)号：WO2016126785A1

公开(公告)日：2016-08-11

申请号：PCT/US2016/016312

申请日：2016-02-03

Applicant: KLA-TENCOR CORPORATION

Inventor： SCHULTZ, William G. ,  DELGADO, Gildardo ,  ROSE, Garry

IPC: H01L21/027

CPC classification number: H01J37/28 ,  G03F1/62 ,  G03F1/86 ,  H01J37/244 ,  H01J2237/2002 ,  H01J2237/2445 ,  H01J2237/24475 ,  H01J2237/2448 ,  H01J2237/2449 ,  H01J2237/2817

Abstract: A system for imaging a sample through a protective pellicle is disclosed. The system includes an electron beam source configured to generate an electron beam and a sample stage configured to secure a sample and a pellicle, wherein the pellicle is disposed above the sample. The system also includes an electron-optical column including a set of electron-optical elements to direct at least a portion of the electron beam through the pellicle and onto a portion of the sample. In addition, the system includes a detector assembly positioned above the pellicle and configured to detect electrons emanating from the surface of the sample.

Abstract translation: 公开了一种通过保护性薄膜成像样品的系统。 该系统包括被配置为产生电子束的电子束源和被配置为固定样品和防护薄膜组件的样品台，其中防护薄膜组件设置在样品上方。 该系统还包括电子 - 光学柱，其包括一组电子 - 光学元件，以将至少一部分电子束通过防护薄膜组件引导到样品的一部分上。 此外，该系统包括位于防护薄膜组件上方并被配置成检测从样品表面发出的电子的检测器组件。