一种布线基板制造方法
    4.
    发明公开

    公开(公告)号:CN1620230A

    公开(公告)日:2005-05-25

    申请号:CN200410094797.2

    申请日:2004-11-18

    Abstract: 一种用于布线基板的制造方法,包括:在绝缘基板的至少一个表面形成的布线层上形成包含无机填充物的绝缘树脂层的步骤;通过粗化绝缘树脂层表面和通过无电镀铜镀覆该表面形成一个薄铜膜层的步骤;在薄铜膜层上形成一个绝缘膜层的步骤;通过按照一种图形曝光和冲洗绝缘膜而形成具有该图形的阻镀层的步骤;和通过在其上具有阻镀层的绝缘树脂层的表面上电镀铜而形成布线图层的步骤,其中,这些阻镀层中的至少一个宽度小于20μm,这些阻镀层包括邻近的两阻镀层,在两邻近阻镀层间的间隙宽度小于20μm。

    多层配线基板的制造方法

    公开(公告)号:CN103179811A

    公开(公告)日:2013-06-26

    申请号:CN201210576073.6

    申请日:2012-12-26

    Abstract: 本发明提供针对具有在芯基板的两个表面交替层叠有至少一层的导体层和至少一层的树脂绝缘层的层叠构造体而得到的多层配线基板,能够在不降低制造产量的前提下能够通过使芯基板减薄来实现小型化的制造方法。在支承基板上层叠有第1层叠构造体,该第1层叠构造体包含至少1层的导体层和至少一层的树脂绝缘层,在该该第1层叠构造体中,导体层和树脂绝缘层交替层叠,而且,以与位于第1层叠构造体的最上层的导体层相接触的方式形成芯基板。接着,通过对该芯基板进行激光照射而形成通孔,并在上述通孔内形成金属层。之后,在上述芯基板上形成包含至少一层的导体层和至少一层的树脂绝缘层的第2层叠构造体。此时,能够将上述第1层叠构造体的上述最上层的导体层的厚度设为比其他导体层的厚度大。

    布线基板及其制造方法
    9.
    发明公开

    公开(公告)号:CN101472407A

    公开(公告)日:2009-07-01

    申请号:CN200810176900.6

    申请日:2008-11-28

    Abstract: 提供一种布线基板及其制造方法,即使不进行表面粗糙化,也能够在细微布线图案层和树脂绝缘层之间提供充分的紧密性,并且能够形成形状优良的细微布线图案层。在该制造方法中,在无电解镀铜工序及抗蚀剂形成工序之后,通过电镀形成电解镀铜层。接着,在使用剥离液剥离抗电镀剂之后,使用蚀刻液选择性地去除位于抗电镀剂正下方的无电解镀铜层,与电解镀铜相比,上述蚀刻液更容易溶解电解镀铜。其结果,形成在底部具有底切部的布线图案层。接着,在布线图案层的表面上形成树脂粘结层,对该表面进行金属表面改性工序。之后,形成树脂绝缘层,成为布线基板。

    一种布线基板制造方法
    10.
    发明授权

    公开(公告)号:CN100508700C

    公开(公告)日:2009-07-01

    申请号:CN200410094797.2

    申请日:2004-11-18

    Abstract: 一种用于布线基板的制造方法,包括:在绝缘基板的至少一个表面形成的布线层上形成包含无机填充物的绝缘树脂层的步骤;通过粗化绝缘树脂层表面和通过无电镀铜镀覆该表面形成一个薄铜膜层的步骤;在薄铜膜层上形成一个绝缘膜层的步骤;通过按照一种图形曝光和冲洗绝缘膜而形成具有该图形的阻镀层的步骤;和通过在其上具有阻镀层的绝缘树脂层的表面上电镀铜而形成布线图层的步骤,其中,这些阻镀层中的至少一个宽度小于20μm,这些阻镀层包括邻近的两阻镀层,在两邻近阻镀层间的间隙宽度小于20μm。

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