반도체웨이퍼의 증기건조장치
    2.
    发明公开
    반도체웨이퍼의 증기건조장치 失效
    半导体晶片的蒸气干燥装置

    公开(公告)号:KR1019940020500A

    公开(公告)日:1994-09-16

    申请号:KR1019940002752

    申请日:1994-02-16

    Abstract: 반도체 웨이퍼의 세정처리 시스템에 조립된 웨이퍼의 건조장치는 IPA를 수용하는 탱크를 구비한다. 탱크에는 IPA의 증기를 발생 시키기위한 히터가 설치된다. 탱크는 케이싱에 의하여 포위되고, 케이싱은 셔터에 의하여 개폐되는 개구부를 3방향으로 가진다. 탱크에는 화재발생을 검지하는 센서와, 탱크내에 CO
    2 가스를 방출하기 위한 노즐이 설치된다. 웨이퍼는 복수매가 반송로보트의 척에 유지되고, 케이싱의 외부로부터 개구부를 통하여 케이싱의 내부로 반송된다. 센서에 의하여 화재발생이 검지되면, 바로 척이 케이싱으로부터 퇴피함과 동시에 셔터가 폐쇄된다. 10초 후에 셔터를 폐쇄시키는 신호가 재차 셔터의 구동원에 전달되어 20초후에 CO
    2 가스의 방출이 개시된다.

    반송장치
    4.
    发明授权

    公开(公告)号:KR100165559B1

    公开(公告)日:1999-02-18

    申请号:KR1019920015418

    申请日:1992-08-26

    Abstract: 반도체 웨이퍼를 반송하는 회전반송아암이 밀폐용기내에 배열설치된다. 용기에는 개폐가능한 개구부가 형성되고, 이것을 통하여 반송아암이 용기바깥으로 뻗어나오는 것이 가능하게 되어있다. 반송아암의 선단에는 포크가 배열설치된다. 포크에는 여러 개의 웨이퍼를 간격을 두고 배치하는 여러 개의 유지홈이 형성된다. 용기의 상부에는 포크용 크리너가 배열설치된다. 크리너는 변환아암의 선단에 부착된 세정노즐 및 건조노즐(s)을 구비한다. 변환아암은 작동위치와 후퇴위치 사이에서 선회가 가능하게 되어있다. 변환아암은 작동위치와 후퇴위치와의 사이에서 선회가능하도록 되어 있다. 변환아암 또는 포크를 따라서 세정노즐 및 건조노즐을 이동가능하게 되어 있다. 세정 및 건조시, 포크에 대하여 세정노즐로부터 순수한 물이 분출되며 건조노즐로부터 질소가 분출된다.

    세정처리장치
    8.
    发明授权
    세정처리장치 失效
    清洁处理设备

    公开(公告)号:KR100190539B1

    公开(公告)日:1999-06-01

    申请号:KR1019930003653

    申请日:1993-03-11

    CPC classification number: H01L21/67028 B08B3/06 Y10S134/902

    Abstract: 인접하는 처리실을 서로 구획하는 격벽의 하부에 연통구를 형성하여 양 처리실을 서로 이어지도록 하고, 양 처리실 내부에 처리액을 수용하는 가동처리탱크를 이동가능하게 배설한다.
    가동처리탱크에 수용되는 처리액과 격벽을 접속시켜서 양 처리실을 차폐한다. 이것에 의해 양 처리실의 분위기가 서로 격리되므로, 양 처리실 내부의 가동처리탱크를 겸용으로 사용할 수 있어, 장치 전체를 소형화로 함과 동시에, 처리액의 소비량을 저감시킬 수 있다. 또 웨이퍼의 반송수단이 불필요하기 때문에, 수율을 향상시킬 수 있다.

    기판 건조장치
    10.
    发明授权
    기판 건조장치 失效
    半导体衬底干燥器

    公开(公告)号:KR100236411B1

    公开(公告)日:1999-12-15

    申请号:KR1019930016459

    申请日:1993-08-24

    CPC classification number: H01L21/67034 F26B3/283 F26B21/14

    Abstract: 기판건조장치는, IPA를 수용하는 액조와, 이 액조를 둘러싸는 체임버와, IPA를 가열하여 그 증기를 액조내 및 그 근방의 증기처리부에 발생시키는 가열히터와, 액으로 적셔진 복수의 반도체 웨이퍼를 증기처리부에 위치하도록 반송하는 반송기구와, 증기처리부의 위편에 설치되고, IPA증기를 응축액화시키기 위하여 냉각하는 냉각기구와, 이 냉각기구의 더 위편에 설치되고 웨이퍼에 부착한 IPA를 제거하는 건조처리부와, 이 건조처리부내에 위편으로부터 아래편을 향하여 흐르는 가스기류를 형성하는 가스공급장치 및 가스배기장치를 가진다.

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