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公开(公告)号：KR100306087B1
公开(公告)日：2001-11-30
申请号：KR1019930030041
申请日：1993-12-27
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 , 도오교오에레구토론큐우슈우가부시끼가이샤
IPC: H01L21/304
Abstract: 기판 세정 장치는, 여러 개의 기판을 세정하기 위한 세정액이 수용된 세정탱크와, 이 세정탱크내에 여러 개의 기판을 서로 평행하게 유지하는 보호유지부와, 세정탱크의 바닥부에 형성한 액공급구와, 이 액공급구에 연결되어 액공급구를 통하여 세정탱크내에 세정액을 공급하는 액공급 시스템과, 보호유지부에 유지된 여러 개의 기판과 상기 액공급구와의 사이에 설치되고, 세정액을 유통시키기 위한 여러 개의 정류구멍을 가지는 정류판을 가진다. 이들 여러 개의 정류구멍은 기판의 배열을 따라서 직렬로 나란한 여러 개의 열(列)을 형성하고, 각 열의 구멍은 기판에 대하여 하나씩 걸러서 위치하며, 또, 그 인접한 구멍과는 위치가 어긋나도록 배열되어 있다.
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公开(公告)号：KR1019990066686A
公开(公告)日：1999-08-16
申请号：KR1019980017968
申请日：1998-05-19
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 , 도오교오에레구토론큐우슈우가부시끼가이샤
IPC: H01L21/304
Abstract: 세정처리장치는, 하부에 세정액의 액공급구를 가지는 세정탱크와, 이 세정탱크내에 수용되어 세정액중에 침적되는 피처리체와 상기 액공급구 사이에 배치되는 정류수단을 구비하며, 상기 정류수단은, 상기 세정탱크를 상하로 구획하기 위해 수평으로 배치됨과 동시에 복수의 세정액의 정류구멍을 형성한 정류판과, 상기 액공급구의 상부에 위치하는 분산판으로 구성하고, 상기 정류판으로부터 아래로 향하여 늘어뜨린 세정액의 저류벽을 형성하며, 상기 분산판의 가장자리부로부터 아래로 향하여 늘어뜨린 세정액의 저류벽을 형성함과 동시에 분산판에 세정액의 분산구멍을 형성하여 이루어진다.
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公开(公告)号：KR1019930006877A
公开(公告)日：1993-04-22
申请号：KR1019920004018
申请日：1992-03-11
Applicant: 도오교오에레구토론큐우슈우가부시끼가이샤 , 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
IPC: H01L21/68
Abstract: 다운플로우중에 배치된 피처리체에 처리를 하는 여러 개의 처리부에, 피처리체를 반송 및 실어서 이송하기 위한 장치는, 처리부간을 이동이 자유롭게 설치된 반송부와, 반송부를 이동시키는 제1구동기구와, 반송부에 이동이 자유롭게 설치되고, 처리부내에서 소정의 온도로 온도조정된 피처리체에 대하여 사용되는 제1 아암과, 반송부에 이동이 자유롭게 설치되고, 온도조정된 피처리체 이외의 피처리체에 대하여 사용되는 제2아암과, 제1 및 제2아암을 각각 이동시키기 위한 제2 구동기구를 구비하고 있다.
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公开(公告)号：KR100338534B1
公开(公告)日：2002-09-27
申请号：KR1019940028107
申请日：1994-10-29
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 , 도오교오에레구토론큐우슈우가부시끼가이샤
IPC: H01L21/304
Abstract: 본 발명은 피처리체를 수용하는 피처리체 수용영역 및 휘발성의 처리액을 수용하는 처리액 수용영역을 가지며, 처리액을 기화시키기 위한 가열 수단을 구비한 처리조와, 피처리체 본체 수용영역의 아래쪽에 설치되고, 기화된 상기 처리액을 사용하여 상기 피처리체로부터 제거된 수분을 받은 용기와, 용기에 부착되고, 상기 용기로부터의 수분을 처리조의 외부에 배출하는 액 배출관과, 처리조의 피처리체 수용 영역의 위쪽에 설치되고, 기화된 처리액을 응축시키는 냉각 수단을 구비하고, 액 배출관은 개폐밸브를 가지고 있고, 또 상기 개폐밸브보다도 용기에 접근하는 위치에 상기 배기관으로부터 분지된 관을 가지는 기판 건조 장치를 제공한다.
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公开(公告)号：KR1019950012610A
公开(公告)日：1995-05-16
申请号：KR1019940028107
申请日：1994-10-29
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 , 도오교오에레구토론큐우슈우가부시끼가이샤
IPC: H01L21/304
CPC classification number: H01L21/67034 , F26B21/145
Abstract: 본발명은피처리체를수용하는피처리체수용영역및 휘발성의처리액을수용하는처리액수용역역을가지며, 처리액을기화시키기위한가열수단을구비한처리조와, 피처리체본체수용영역의아래쪽에설치되고, 기화된상기처리액을사용하여상기피처리체로부터제거된수분을받은용기와, 용기에부착되고, 상기용기로부터의수분을처리조의외부에배출하는액배출관과, 처리조의피처리체수용영역의위쪽에설치되고, 기화된처리액을응축시키는냉각수단을구비하고, 액배출관은개폐밸브를가지고있고, 또상기개폐밸브보다도용기에접근하는위치에상기배기관으로부터분지된관을가지는기판건조장치를제공한다.
Abstract translation: 安装在处理量的底部，本发明具有一个服务站，具有加热装置，用于汽化该处理液处理槽和，待治疗受试者的身体接收区域，用于接收所述对象的接收区域和波动，用于接收所述对象的处理液中要被处理 并且使用蒸发要处理的处理液体在容器接收来自所述对象的除水附接时，容器中，所述液体排出管的排出到容器robuteoui水处理罐外，该处理套工件容纳区的顶部 被安装在，包括：冷却装置，用于冷凝所述蒸发的处理液，和液体排出管上设置具有在位置从排气管支管的基板干燥装置，且具有开闭阀，并进入容器比开闭阀的 的。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：KR100357316B1
公开(公告)日：2002-10-19
申请号：KR1020010051301
申请日：2001-08-24
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 , 도오교오에레구토론큐우슈우가부시끼가이샤
IPC: H01L21/304
Abstract: PURPOSE: A substrate drying apparatus is provided to unnecessarily exhaust treatment liquid during a standby time of a dry process such that the treatment liquid is vapor of the treatment liquid coagulated and stored in a container for receiving the water eliminated from an object to be treated. CONSTITUTION: A process bath(14) has the object to be treated. A treatment liquid containing region contains a volatile treatment liquid(16). A heating member evaporates the treatment liquid. A receiving container(10) receives water removed from the object with use of the evaporated treatment liquid, provided below the object containing region. An exhaust pipe(42) exhausts the water from the container to the outside of the process bath, attached to the container. A cooling device condenses the evaporated treatment liquid, provided above the object containing region of the process bath. The exhaust pipe has a valve and a branch pipe branched from the exhaust pipe such that the branch pipe is closer to the container than the valve is.
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公开(公告)号：KR100188453B1
公开(公告)日：1999-06-01
申请号：KR1019920004018
申请日：1992-03-11
Applicant: 도오교오에레구토론큐우슈우가부시끼가이샤 , 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
IPC: H01L21/68
Abstract: 다운플로우중에 배치된 피처리체에 처리를 하는 여러 개의 처리부에, 피처리체를 반송 및 실어서 이송하기 위한 장치는, 처리부간을 이동이 자유롭게 설치된 반송부와, 반송부를 이동시키는 제1구동기구와, 반송부에 이동이 자유롭게 설치되고, 처리부내에서 소정의 온도로 온도조정된 피처리체에 대하여 사용되는 제1아암과, 반송부에 이동이 자유롭게 설치되고, 온도조정된 피처리체 이외의 피처리체에 대하여 사용되는 제2아암과, 제1 및 제2아암을 각각 이동시키기 위한 제2구동기구를 구비하고 있다.
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公开(公告)号：KR1019990066687A
公开(公告)日：1999-08-16
申请号：KR1019980017969
申请日：1998-05-19
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 , 도오교오에레구토론큐우슈우가부시끼가이샤
IPC: H01L21/304
Abstract: 기판 세정 장치는, 바닥부에 세정액을 도입하는 액공급구를 가지고 세정할 피처리체를 수용하는 세정탱크와, 상기 세정탱크의 바닥부로부터 이격시켜 설치함과 동시에 상기 세정액이 통과하는 다수의 정류구멍을 가지며, 상기 액공급구로부터 도입된 세정액을 정류하면서 상기 피처리체쪽으로 흐르게 하는 정류판을 구비하며, 상기 세정탱크의 바닥부의 양쪽은, 비스듬하게 경사진 바닥 경사부를 가지고, 상기 정류판은 상기 바닥부의 중심부에 대응하여 수평으로 이루어진 수평정류부와, 이 수평정류부의 양측에 형성되어 상기 바닥 경사부에 대응하여 비스듬하게 경사진 경사정류부를 가지고, 상기 액공급구의 상부에는, 상기 액공급구로부터 도입되는 상기 세정액을 상기 정류판 하부의 전면을 향하여 분산시키는 분산판이 설치되어 있다.
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公开(公告)号：KR100163362B1
公开(公告)日：1999-02-01
申请号：KR1019930003225
申请日：1993-03-04
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 , 도오교오에레구토론큐우슈우가부시끼가이샤
IPC: H01L21/304
Abstract: 복수의 웨이퍼를 세정하는 세정장치에 사용되는 처리조이다. 처리조는 세정액공급원과, 순환펌프와, 필터와, 입구를 바닥부에 가지는 주조와, 복수의 웨이퍼를 주조의 중앙영역에 유지하는 보우트와, 입구와 기판의 사이에 형성된 정류어셈블리를 구비하고 있다. 정류어셈블리는, 상기 입구로부터의 세정액을 수평방향으로 분산시키는 분산판과, 입구로부터 유입된 세정액을 실질적으로 층류로 하고, 층류화한 세정액을 주조의 중앙영역으로 유도하는 유도유로를 가진다. 유도유로는, 분산판 및 측면판의 상호간극, 또는 분산판의 다수의 구멍에 의하여 형성된다. 이와같은 유도유로에 의하여 웨이퍼의 상호간 공간에 세정액의 대부분을 저극적으로 통하여 흐르게 한다. 또한, 정류어셈블리는, 웨이퍼의 주변 영역에 흐르는 세정액의 양을 억제하기 위한 유량억제부를 가진다.
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公开(公告)号：KR1019940016548A
公开(公告)日：1994-07-23
申请号：KR1019930030041
申请日：1993-12-27
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 , 도오교오에레구토론큐우슈우가부시끼가이샤
IPC: H01L21/304
Abstract: 기판 세정 장치는, 여러개의 기판을 세정하기 위한 세정액이 수용된 처리탱크와, 이 처리탱크내에 여러개의 기판을 서로 평행하게 유지하는 보트와, 처리탱크의 저부에 뚫린 액공급구와, 이 액공급구에 통하게 되어 액공급구를 통하여 처리탱크내에 세정액을 공급하는 액공급 시스템과, 보트에 유지된 여러개의 기판과 상기 액공급구와의 사이에 설치되고, 세정액을 통류시키기 위한 여러개의 구멍을 가지는 정류판을 가진다. 이들 여러개의 구멍은 기판의 배열을 따라서 직렬로 나란한 여러개의 열(列)을 형성하고, 각 열의 구멍은 기판에 대하여 1개 걸러서 위치하며, 또, 그 옆열의 구멍과 위치가 어긋나도록 배열되어 있다.
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