公开(公告)号：KR1020100036996A

公开(公告)日：2010-04-08

申请号：KR1020090092381

申请日：2009-09-29

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 아메미야히로시 ,  가타기리히로후미 ,  오츠카사토시 ,  후치가미신지

IPC: G01R31/26 ,  H01L21/66

CPC classification number: G01R31/2872 ,  G01R31/2601 ,  G01R31/2862 ,  G01R31/2874 ,  G01R31/2881

Abstract: PURPOSE: By compacting the circulator of the air and stabilizing the dew point within the prober chamber at the same time it highs the reliability, the inspection apparatus and inspecting method can practice the low temperature inspection. CONSTITUTION: A circulator(13) is arranged according to the rear side of the prober chamber(12). Circulator circulates the dry air within the prober chamber. A control device(14) controls the instrument including the main chuck within circulator and prober chamber. The vent unit circulates the dry air within the prober chamber. The filter unit eliminates the dust and dust from the dry air circulating through the vent unit.

Abstract translation: 目的：通过压缩空气循环器，同时稳定探针室内的露点，同时高可靠性，检测仪器和检查方法可以实施低温检测。 构成：循环器（13）根据探测室（12）的后侧布置。 循环器在干燥室内循环干燥空气。 控制装置（14）在循环器和探针室内控制包括主卡盘的仪器。 通风单元将干燥空气循环在探测室内。 过滤器单元消除了通过排气单元循环的干燥空气中的灰尘和灰尘。

公开(公告)号：KR1020140036217A

公开(公告)日：2014-03-25

申请号：KR1020137032510

申请日：2012-06-12

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 우다슈이치로 ,  네즈다카아키 ,  후치가미신지 ,  마루야마고지

IPC: H01L21/3065

CPC classification number: H01L21/3065 ,  H01J37/32165 ,  H01J37/32449 ,  H01J37/3266 ,  H01J37/32669 ,  H01J2237/334 ,  H01L21/30655 ,  H01L21/308 ,  H01L21/3081 ,  H01L21/32132 ,  H01L21/32137 ,  H01L21/67069 ,  H01L21/76898

Abstract: 본 발명은, 실리콘층과, 상기 실리콘층의 위쪽에, 정해진 패턴으로 패터닝된 레지스트층이 형성된 피처리 기판이 설치되는 처리 용기 내에, 산소 가스와 불화유황 가스를 포함한 에칭 가스를 정해진 유량으로 공급하고, 공급한 상기 에칭 가스로부터 생성된 플라즈마에 의해, 상기 레지스트층을 마스크로 하여 상기 실리콘층을 에칭하는 플라즈마 에칭 방법으로서, 불화유황 가스에 대한 산소 가스량의 유량비를 제1 유량비로 한 상태에서, 상기 실리콘층을 에칭하는 제1 단계와, 상기 유량비가 상기 제1 유량비로부터 상기 제1 유량비보다 작은 제2 유량비가 되도록, 산소 가스의 유량을 감소시키면서 상기 실리콘층을 에칭하는 제2 단계와, 상기 유량비를 상기 제2 유량비로 한 상태에서, 상기 실리콘층을 에칭하는 제3 단계를 포함하는 플라즈마 에칭 방법 을 제공하는 것을 목적으로 한다.

公开(公告)号：KR1020140117290A

公开(公告)日：2014-10-07

申请号：KR1020140033954

申请日：2014-03-24

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 오카야마노부유키 ,  가자마고이치 ,  우다슈이치로 ,  야마다사토시 ,  후치가미신지

IPC: H01L21/3065 ,  H01L21/02

CPC classification number: H01J37/3244 ,  C23C16/45514 ,  C23C16/45519 ,  C23C16/45561 ,  C23C16/45574

Abstract: Provided is a shower head of a plasma processing apparatus which reduces a difference of the amount of gas injected from gas injection holes connected to the same gas diffusion chamber and reduces time difference until a gas is injected from the gas injection hole of a corresponding region after the gas is supplied to different gas supply paths. In a shower head of an embodiment, gas injection holes are prepared in regions, respectively. A process gas is supplied from each gas supply path in the regions. Each gas supply path includes three gas diffusion chambers between an upper class and a lower class.

Abstract translation: 提供了一种等离子体处理装置的喷头，其减少了从与相同的气体扩散室连接的气体注入孔喷射的气体的量的差异，并且减少了从相应区域的气体注入孔注入气体直至从其后的相应区域的气体注入孔注入气体 气体供应到不同的气体供应路径。 在一个实施例的喷头中，分别在区域中制备气体注入孔。 从各区域的各气体供给路径供给处理气体。 每个气体供给路径包括上级和下级之间的三个气体扩散室。

公开(公告)号：KR102220184B1

公开(公告)日：2021-02-24

申请号：KR1020140033954

申请日：2014-03-24

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 오카야마노부유키 ,  가자마고이치 ,  우다슈이치로 ,  야마다사토시 ,  후치가미신지

IPC: H01L21/3065 ,  H01L21/02

Abstract: 동일한가스확산실에접속된복수의가스분사구로부터분사되는가스의유량의차이를저감시키고, 상이한복수의가스공급경로에가스가입력되고나서대응의영역의가스분사구로부터가스가분사될때까지의시간의차이를저감시키는것이가능한플라스마처리장치용의샤워헤드가제공된다. 일실시형태의샤워헤드에서는, 복수의영역의각각에복수의가스분사구가마련되어있고, 상기복수의영역의각각에는개별의가스공급경로로부터처리가스가공급된다. 각가스공급경로는, 상류에서하류까지의사이에세 개의가스확산실을포함하고있다.

公开(公告)号：KR101888717B1

公开(公告)日：2018-08-14

申请号：KR1020137032510

申请日：2012-06-12

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 우다슈이치로 ,  네즈다카아키 ,  후치가미신지 ,  마루야마고지

IPC: H01L21/3065

CPC classification number: H01L21/3065 ,  H01J37/32165 ,  H01J37/32449 ,  H01J37/3266 ,  H01J37/32669 ,  H01J2237/334 ,  H01L21/30655 ,  H01L21/308 ,  H01L21/3081 ,  H01L21/32132 ,  H01L21/32137 ,  H01L21/67069 ,  H01L21/76898

Abstract: 본발명은, 실리콘층과, 상기실리콘층의위쪽에, 정해진패턴으로패터닝된레지스트층이형성된피처리기판이설치되는처리용기내에, 산소가스와불화유황가스를포함한에칭가스를정해진유량으로공급하고, 공급한상기에칭가스로부터생성된플라즈마에의해, 상기레지스트층을마스크로하여상기실리콘층을에칭하는플라즈마에칭방법으로서, 불화유황가스에대한산소가스량의유량비를제1 유량비로한 상태에서, 상기실리콘층을에칭하는제1 단계와, 상기유량비가상기제1 유량비로부터상기제1 유량비보다작은제2 유량비가되도록, 산소가스의유량을감소시키면서상기실리콘층을에칭하는제2 단계와, 상기유량비를상기제2 유량비로한 상태에서, 상기실리콘층을에칭하는제3 단계를포함하는플라즈마에칭방법을제공하는것을목적으로한다.

公开(公告)号：KR101208800B1

公开(公告)日：2012-12-06

申请号：KR1020090092381

申请日：2009-09-29

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 아메미야히로시 ,  가타기리히로후미 ,  오츠카사토시 ,  후치가미신지

IPC: G01R31/26 ,  H01L21/66

Abstract: 본발명은공기의순환장치를콤팩트화하는동시에프로버실내의이슬점을안정화하여, 신뢰성이높은저온검사를실행할수 있는검사장치및 검사방법을제공한다. 본발명의검사장치(10)는프로버실(12)과, 프로버실(12)의배면을따라배치되는동시에프로버실(12) 내의건조공기를순환시키는순환장치(13)와, 순환장치(13) 및프로버실(12) 내의탑재대를포함하는기기를제어하는제어장치(14)를구비하고, 순환장치(13)는프로버실(12) 내의건조공기를순환시키는송풍유닛(131)과, 송풍유닛(131)을통해순환되는건조공기중으로부터티끌과먼지를제거하는필터유닛(132)을구비하고있다.