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公开(公告)号:KR100186043B1
公开(公告)日:1999-04-15
申请号:KR1019930009372
申请日:1993-05-27
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 , 도오교오에레구토론큐우슈우가부시끼가이샤
IPC: H01L21/304
Abstract: 기판세정장치는, LCD용 유리기판의 양면을 브러시 세정하기 위한 상하 브러시 부재를 가지는 브러시 세정기구와, 상하 브러시 부재의 각각을 회전시키는 회전기구와, 상하 브러시 부재의 각각에 순수한 물을 공급하는 세정액 공급기구와, 기판을 상하 브러시 부재 상호간에 반송하며, 상하 브러시 부재의 상호간 위치로서 기판을 반송방향으로 왕복 운동시키는 반송기구와, 상기 반송수단의 동작을 제어하는 콘트롤러를 가진다.
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公开(公告)号:KR100284559B1
公开(公告)日:2001-04-02
申请号:KR1019950007866
申请日:1995-04-04
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 , 도오교오에레구토론큐우슈우가부시끼가이샤
IPC: H01L21/027
Abstract: 직사각형기판의 레지스트처리방법은, 기판을 스핀 회전시키면서 기판에 레지스트액을 공급하고, 기판의 적어도 한쪽면에 레지스트막을 형성하는 레지스트 도포공정과, 레지스트를 용해할 수 있는 제거액을 기판양면의 둘레영역에 분사하고, 기판양면의 둘레영역으로 부터 레지스트막을 제거하는 레지스트 제거공정을 가진다.
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公开(公告)号:KR1019950034475A
公开(公告)日:1995-12-28
申请号:KR1019950007866
申请日:1995-04-04
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 , 도오교오에레구토론큐우슈우가부시끼가이샤
IPC: H01L21/027
Abstract: 직사각형기판의 레지스트처리방법은, 기판을 스핀 회전시키면서 기판에 레지스트액을 공급하고, 기판의 적어도 한쪽면에 레지스트막을 형성하는 레지스트 도포공정과, 레지스트를 용해할 수 있는 제거액을 기판양면의 둘레영역에 분사하고, 기판양면의 둘레영역으로 부터 레지스트막을 제거하는 레지스트 제거공정을 가진다.
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公开(公告)号:KR100380646B1
公开(公告)日:2003-08-06
申请号:KR1019970037948
申请日:1997-08-08
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
IPC: H01L21/68
CPC classification number: H01L21/67748 , H01L21/67242 , H01L21/67259
Abstract: A processing system for processing a substrate. The processing system includes a plurality of processing machines, a machine movable along a transfer path for transferring the substrate to the machines, a drive unit for driving the machine, and a control unit. The control unit includes a memory for storing a teaching threshold in a teaching mode and a practical operation threshold in a practical operation mode that is higher than the teaching threshold when a moving parameter of the drive unit exceeds a given value. The control unit also includes a controller monitoring a parameter representing a moving state of the drive unit to stop the drive unit when the parameter exceeds the practical operation threshold in the practical operation mode or when the parameter exceeds the teaching threshold in the teaching mode.
Abstract translation: 一种处理基板的处理系统。 该处理系统包括多个处理机器,能够沿传送路径移动以将基板传送到机器的机器,用于驱动机器的驱动单元以及控制单元。 控制单元包括存储器,用于存储示教模式下的示教阈值和实际操作模式下的实际操作阈值,当驱动单元的移动参数超过给定值时,该实际操作阈值高于示教阈值。 控制单元还包括控制器,该控制器在实际操作模式中当参数超过实际操作阈值时或者当参数在示教模式中超过教学阈值时,监视表示驱动单元的移动状态的参数以停止驱动单元。
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公开(公告)号:KR101018909B1
公开(公告)日:2011-03-02
申请号:KR1020030074140
申请日:2003-10-23
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
IPC: H01L21/027
Abstract: 스테이지(100)상에 기판(G)이 얹어 놓여져 있는 상태에서, 고압가스공급원으로부터의 고압의 공기를, 가스공급관(118) 및 통형상지지체(114)내의 통풍로(114a)를 통해 가스토출부(116)로부터 소정의 압력으로 토출시킴으로써, 기판(G)을 지지핀(108)으로부터 실질적으로 뜨게 한다. 가스토출부(116)가 호른형으로 형성되어 있기 때문에, 기판(G)의 하면에 닿은 공기는 소용돌이류를 생기는 일없이 순조롭게 빈틈(g)을 통해 밖으로 빠져나간다. 이 구성에 의해, 피처리기판에 흠집이나 문지른 흔적을 남기는 일없이, 또한 파티클을 생기는 일없이, 기판의 위치맞춤을 안전하고 정확하게, 나아가서는 효율적으로 할 수 있다.
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公开(公告)号:KR100840853B1
公开(公告)日:2008-06-23
申请号:KR1020020046516
申请日:2002-08-07
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
IPC: G02F1/13
Abstract: 핀셋(43)을 당겨 카세트(C)로부터 기판(G)을 꺼내고, 핀셋(43)을 당겨 나가면, 기판(G)을 꺼내기 전에는 위치 P에 있던 센서(9)가, 궤적 T를 그리며 기판(G)의 한 변(Ga)을 통과하며 이동한다. 이에 따라, 유지된 기판(G)의 핀셋(43)의 전진·후퇴방향과 직교하는 방향(Y방향)에 관한 위치는, 센서(9)가 한 변(Ga)을 통과하여 이동했을 때의 반사광을 수광하는 타이밍과, 모터(6)의 회전 펄스 수에 의해 산출된다. 따라서, 핀셋(43)이 정상위치에 유지된 경우의 타이밍과 비교함으로써 위치 어긋남을 검출할 수 있다.
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公开(公告)号:KR100706381B1
公开(公告)日:2007-04-10
申请号:KR1020000030315
申请日:2000-06-02
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
IPC: H01L21/68
Abstract: 기판의 보유·유지부재가, 대향하는 측벽부의 폭이 기판 장변의 길이에 상당하는 길이를 가지고, 이 측벽부들의 대향방향으로 장변방향을 맞춘 상태에서 보유·유지할 수 있는 넓은 폭의 제 1의 보유·유지부와, 대향하는 측벽{단차부} 사이의 폭이 기판의 단변방향의 길이에 상당하는 길이를 갖추고, 이 단차부들의 대향방향으로 단변방향을 맞춘 상태에서 보유·유지부를 갖춘다. 따라서, 반입반출대상인 처리장치가 장변을 쥐는 경우에는, 기판방향 조정수단에 의해, 이 보유·유지부재보다도 상방으로 유리기판을 위치시킨 후, 당해 기판의 장변이 당해 처리장치의 반입반출부를 향하여 마주보도록 회전시켜 하강시킨다. 이에 의해, 제 1의 보유·유지부에 기판이 재치되어, 장변을 쥐는 당해 처리장치와의 사이에서 기판의 반입반출이 가능하게 된다. 마찬가지의 조작에 의해 제 2의 보유·유지부 상에 기판을 재치하면, 단변을 쥐는 처리장치와의 사이에서 기판의 반입반출이 가능하게 된다.
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公开(公告)号:KR1020030014615A
公开(公告)日:2003-02-19
申请号:KR1020020046516
申请日:2002-08-07
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
IPC: G02F1/13
CPC classification number: G02F1/13 , H01L21/6773 , H01L21/67742 , H01L21/68 , Y10S414/14
Abstract: PURPOSE: A substrate carrier, a substrate processing system and a substrate carrying method are provided to detect the positional shift of a substrate in the direction orthogonal to the advancing/retracting direction through the simple structure without requiring an extra drive mechanism, and to correct the positional shift of the substrate by using the substrate processing system. CONSTITUTION: When a substrate(G) is taken out from a cassette(C) by pulling a pincette and the pincette is pulled, a sensor(9) located at position(P) before the substrate is taken out is moved to pass one side(Ga) of the substrate while drawing a locus T. Consequently, the position of a held substrate in the direction (Y direction) orthogonal to the advancing/retracting direction of the pincette is calculated from the timing for receiving reflected light when the sensor is moved through one side and the number of rotational pulses of a motor. The positional shift is detected by comparing the timing with the timing when the substrate is held at the normal position of the pincette.
Abstract translation: 目的:提供基板载体,基板处理系统和基板承载方法,以通过简单的结构检测基板在与前进/后退方向正交的方向上的位置偏移,而不需要额外的驱动机构,并且校正 通过使用基板处理系统的基板的位置偏移。 构成:当通过拉动卡扣并拉出卡扣来从盒(C)中取出基板(G)时,将取出基板之前的位于(P)的传感器(9)移动通过一侧 (Ga),从而根据传感器的接收反射光的定时计算保持的基板在与pincette的前进/后退方向正交的方向(Y方向)上的位置 通过一侧移动和电动机的旋转脉冲数。 通过将定时与基板保持在卡通的正常位置的定时进行比较来检测位置偏移。
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公开(公告)号:KR1019990014300A
公开(公告)日:1999-02-25
申请号:KR1019980030827
申请日:1998-07-30
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
Inventor: 이와사키다쓰야
IPC: H01L21/68
Abstract: 기판반송장치는, 기판을 지지하는 기판지지부재와, 기판지지부재를 진퇴이동가능하게 지지하는 베이스부재와, 베이스부재를 수평면내에서 선회가능하게 지지하고, 승강가능하게 설치된 승강부재와, 승강부재를 외팔보 상태로 지지하고, 또한 승강부재의 승강이동시에 승강부재를 가이드하는 지지·가이드부재(44)를 가진다.
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公开(公告)号:KR100650807B1
公开(公告)日:2006-11-27
申请号:KR1020000033210
申请日:2000-06-16
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
IPC: H01L21/68
Abstract: 상자모양으로 형성된 수용박스의 내부에 처리대상이 되는 유리기판을 지지함과 동시에 송풍팬에 의해 기판출입구 형성면에 대향하는 면 측으로부터 해당 기판출입구를 통하여 외부로 흐르는 기류(氣流)를 형성하고 있다. 이 때문에 기판출입구가 상시 열려 있어도 수용박스 밖에 부유(浮游)하는 파티클이 수용박스 안으로 침입하는 것은 없다. 따라서 유리기판의 반송영역을 클린환경으로 할 필요가 없어져, 클린환경의 형성코스트를 큰 폭으로 삭감하는 것이 가능하다. 또 기판출입구가 상시 열려 있어, 해당 기판출입구를 개폐하는 개폐기구가 설치되어 있지 않으므로, 기판의 전달을 신속히 행하는 것이 가능하다.
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