Abstract:
멀티 스케일의 요철이 형성된 태양 전지 기판의 제조방법이 개시된다. 본 발명의 실시예에 따른 멀티 스케일의 요철이 형성된 태양 전지 기판의 제조방법은 유리 기판을 준비하는 단계; 상기 유리 기판 상에 제1마스크층를 증착하는 단계; 상기 제1마스크층 상에 포토레지스트를 코팅하는 단계; 상기 포토레지스트 상에 일정 패턴이 형성된 제2마스크를 위치시키고, 상기 패턴에 맞게 상기 포토레지스트를 광식각하는 단계; 상기 제2마스크를 제거하고, 상기 포토레지스트에서 광식각된 부분과 접촉되는 상기 제1마스크층의 부분을 젝하는 단계; 상기 포토레지스트를 제거하고, 상기 식각된 제1마스크층의 부분과 접촉되는 상기 유리 기판의 표면 부분을 습식 식각하여 상기 유리 기판의 표면에 제1요철을 형성하는 단계; 상기 제1요철이 형성된 부분을 연무화 식각하여 상기 유리 기판의 표면에 제2요철을 형성하는 단계; 및 상기 제1마스크층를 제거하는 단계를 포함한다.
Abstract:
Disclosed is an organic-inorganic hybrid stack type solar cell. The organic-inorganic hybrid stack type solar cell comprises a first inorganic solar cell unit, a second inorganic solar cell unit, a middle electrode layer, and an organic solar cell unit. The first p-type semiconductor layer of the first inorganic solar cell unit comprises a first thin film made of amorphous hydrogenated silicon doped with p-type impurity, and a second thin film made of amorphous hydrogenated silicon doped with p-type impurity. The organic-inorganic hybrid stack type solar cell can improve an open-circuit voltage (Voc).
Abstract:
PURPOSE: A method for manufacturing a glass substrate for a solar cell and a sputtering apparatus are provided to improve the photoelectric conversion efficiency of a solar cell including a transparent conduction layer by controlling the angle of a target. CONSTITUTION: A target is mounted on a target support part positioned in a chamber(S110). A substrate is mounted on a susceptor positioned in the chamber(S130). A target angle between the target and the substrate is controlled(S150). A target material is deposited on the substrate to form a metal oxide layer having a texture(S170). [Reference numerals] (AA) Start; (BB) End; (S110) Mount a target; (S130) Mount a substrate on a susceptor; (S150) Control a target angle between the target and the substrate; (S170) Form a metal oxide layer having a texture
Abstract:
PURPOSE: A method for manufacturing a compliant substrate for a solar cell is provided to simplify manufacturing process by omitting a dry etching mode, a mechanical grooving mode, and a wet etching mode. CONSTITUTION: A frame in which an uneven portion is formed on the surface is prepared(S110). A polymer film is formed on the frame with a spin coating process(S120). The polymer film is hardened(S130). A metal layer is formed on the front side of the polymer film(S140). A first transparent conductive film is formed on the metal layer(S150). A protective film is formed on the rear side of the polymer film(S160). [Reference numerals] (AA) Start; (BB) End; (S110) Preparing a frame with an uneven portion; (S120) Forming a polymer film on a frame with a spin coating process; (S130) Hardening a polymer film; (S140) Forming a metal film on the front side of the polymer film; (S150) Forming a first transparent conductive film on the metal film; (S160) Forming a protection film on the rear of the polymer film
Abstract:
PURPOSE: A thin film type solar battery and a manufacturing method thereof are provided to improve short-circuit current density by including a rear side transparent conductivity oxide layer and a rear side electrode having different reflective index. CONSTITUTION: Texture is formed on the surface of a glass substrate. A front side transparent conductivity oxide layer(110) is formed at the upper side of the glass substrate. A thin film laminated body of a p-i-n structure is formed at one side of the front side transparent conductivity oxide layer. A rear side transparent conductivity oxide layer(160) is formed at the upper side of the thin film laminated body of the p-i-n structure. A rear side electrode layer(170) is formed at the upper side of the rear side transparent conductivity oxide layer and the upper side of the front side transparent conductivity oxide layer.
Abstract:
PURPOSE: A hetero-junction silicon solar cell and a manufacturing method thereof are provided to increase a surface area of a crystalline silicon substrate by forming an amorphous thin film laminated body on an amorphous silicon substrate. CONSTITUTION: An emitter layer(110) is formed at the upper side of a crystalline silicon substrate. Texture is formed by etching the crystalline silicon substrate with a lithography method. A passivation layer(120) is formed at the upper side of the emitter layer. An amorphous thin film laminated body(130) is formed at the upper side of the passivation layer. A front side electrode(140) is formed at the upper side of the amorphous silicon layer. A rear side electrode(150) is formed at the rear side of the crystalline silicon substrate.
Abstract:
본 발명은 패턴화된 태양전지용 유리기판을 제조하는 방법 및 패턴화된 태양전지용 유리기판을 이용한 태양전지 제조 방법에 관한 것이다. 본 발명의 일 실시예에 따른 패턴화된 태양전지용 유리기판을 제조하는 방법은, 유리 기판을 준비하는 단계; 상기 유리 기판 상에 마스크층을 증착하는 단계; 상기 마스크층 상에 포토레지스트를 코팅하는 단계; 상기 포토레지스트 상에 패턴이 형성된 마스크를 위치시키고 포토리소그래피 공정을 통해 패터닝하는 단계; 패터닝된 포토레지스트를 마스크로 이용하여 상기 마스크층을 패터닝하는 단계; 상기 패터닝된 포토레지스트를 제거하고, 상기 패터닝된 마스크층을 이용하여 유리 기판의 표면 부분을 식각하여 상기 유리 기판의 표면에 요철을 형성하는 단계; 및 상기 마스크층을 제거하는 단계를 포함한다.