Abstract:
장수명의유기 EL 모듈을제공하는것이다. 내부에발광부가되는유기층(4)을가진유기 EL 패널(2)과, 유기 EL 패널(2)의이면상에마련되어, 유기 EL 패널(2)의이면을봉지하는이면봉지판(6)과, 유기 EL 패널(2)의측면에마련되어, 유기 EL 패널(2)의측면을봉지하는측면봉지부재(7)와, 유기 EL 패널(2)의표면상에마련되어, 유기 EL 패널(2)의표면을봉지하는표면봉지판(8)과, 이면봉지판(6) 및표면봉지판(8) 중적어도한쪽의외표면과, 측면봉지부재(7)의외표면을덮는투명한보호피막(9)을구비한다.
Abstract:
본 발명의 목적은 대형 FPD 기판의 반송실 내에 있어서의 위치 어긋남이나 깨짐 등의 이상을 확실하게 검출할 수 있는 기판처리장치 및 기판의 이상 검출방법을 제공하는 데에 있다. 본 발명에 있어서는, 반송장치(50)의 슬라이드 피크(513)에 기판(S)을 올려놓고, 반송실(20) 내로부터 게이트 개구(22d)를 거쳐 프로세스 챔버(10b)로 반입할 때에, 좌우로 배치된 한 쌍의 센서(70, 70)에 의해서 기판(S)의 양단부 근방의 파선 A, B로 나타낸 부위에 광선을 조사하여, 그 반사율 또는 투과율로부터 기판(S)의 위치 어긋남이나 결함 등의 검출을 행한다.
Abstract:
PURPOSE: A plasma processing apparatus is provided to be capable of preventing foreign substance from being attached at a dielectric part between a high frequency antenna and a plasma generating part. CONSTITUTION: A plasma processing apparatus(100) is provided with a high frequency antenna(112), a high frequency supply voltage source(160) connected to the high frequency antenna, and a susceptor(106) for loading a process object body. The plasma processing apparatus further includes a dielectric part(120) between the high frequency antenna and the susceptor, a conductive part(170) between the high frequency antenna and the dielectric part, a ground circuit(180) connected to the conductive part, and an inductor(302) installed at the ground circuit.