公开(公告)号：KR20200135798A

公开(公告)日：2020-12-03

申请号：KR20207028044

申请日：2019-03-15

Applicant: ASML NETHERLANDS BV

Inventor： DRIESSEN THEODORUS WILHELMUS ,  ERSHOV ALEXANDER IGOREVICH ,  ROLLINGER BOB ,  VASCHENKO GEORGIY OLEGOVICH ,  WINKELS KOEN GERHARDUS ,  TREES DIETMAR UWE HERBERT

IPC: H05G2/00

Abstract: 조사영역및 액적공급원으로향하는레이저빔을생성하는장치를포함하는 EUV 방사선을생성하는데 사용되는액적형성을제어하기위한장치및 방법. 액적공급원은노즐을나오는유체및 이유체에교란을생성하는전기작동가능요소를갖는서브시스템을포함한다. 액적공급원은액적으로분할되는스트림을생성하며, 이액적들은조사영역을향해진행함에따라더 큰액적으로합체된다. 이프로세스는스트림내의액적이완전히합체되지않은일 지점에서스트림을관찰함으로써제어된다.

公开(公告)号：KR20200125942A

公开(公告)日：2020-11-05

申请号：KR20207025275

申请日：2019-02-28

Applicant: ASML NETHERLANDS BV

Inventor： MA YUE ,  KEMPEN ANTONIUS THEODORUS WILHELMUS ,  HUMMLER KLAUS MARTIN ,  MOORS JOHANNES HUBERTUS JOSEPHINA ,  ROMMERS JEROEN HUBERT ,  VAN DE WIEL HUBERTUS JOHANNES ,  LAFORGE ANDREW DAVID ,  BRIZUELA FERNANDO ,  WIEGGERS ROB CARLO ,  GOMES UMESH PRASAD ,  NEDANOVSKA ELENA ,  KORKMAZ CELAL ,  KIM ALEXANDER DOWNN ,  DUARTE RODRIGUES NUNES RUI MIGUEL ,  VAN DIJCK HENDRIKUS ALPHONSUS LUDOVICUS ,  VAN DRENT WILLIAM PETER ,  JONKERS PETER GERARDUS ,  ZHU QIUSHI ,  YAGHOOBI PARHAM ,  WESTERLAKEN JAN STEVEN CHRISTIAAN ,  LEENDERS MARTINUS HENDRIKUS ANTONIUS ,  ERSHOV ALEXANDER IGOREVICH ,  FOMENKOV IGOR VLADIMIROVICH ,  LIU FEI ,  JACOBS JOHANNES HENRICUS WILHELMUS ,  KUZNETSOV ALEXEY SERGEEVICH

IPC: G03F7/20 ,  G02B5/08 ,  G02B27/00 ,  H05G2/00

Abstract: EUV 방사선을생성하기위한시스템(SO) 내의하나이상의반사광학요소의반사율열화는광학요소를포함하는진공챔버(26) 내로의가스의제어된도입에의하여감소된다. 가스는수소와같은또 다른가스의흐름에추가될수 있거나수소라디칼의도입과번갈아가며추가될수 있다.