公开(公告)号：JP2015043450A

公开(公告)日：2015-03-05

申请号：JP2014207943

申请日：2014-10-09

Applicant: エーエスエムエル ネザーランズ ビー.ブイ. ,  Asml Netherlands Bv ,  エーエスエムエル ネザーランズ ビー.ブイ.

Inventor： HENDRIK SMILDE ,  ARIE DEN BOEF ,  WILLEM COENE ,  ARNO BLEEKER ,  KOOLEN ARMAND ,  HENRICUS PELLEMANS ,  REINDER PLUG

IPC: H01L21/027 ,  G03F9/00

CPC classification number: G03F7/70633 ,  G03F7/70616

Abstract: 【課題】より小さいターゲット上のより正確な測定を行うことができる、改善されたメトロロジ方法および基板上の複数のターゲットの特性を測定するように構成されたメトロロジ装置等を提供する。【解決手段】メトロロジ装置を配置してオフアクシス照明モードで複数のターゲットを照明する。1つの1次回折ビームのみを用いてターゲットのイメージを得る。ターゲットが複合格子である場合、回折格子のイメージの強度からオーバーレイ測定値を得ることができる。イメージフィールド内の格子の位置変動に起因するエラーについてオーバーレイ測定値を補正することができる。【選択図】図4

Abstract translation: 要解决的问题：提供一种改进的计量方法，能够在较小的目标上进行更准确的测量，被配置为测量衬底上的多个靶的属性的度量装置等。解决方案：计量装置被布置成照亮多个靶 具有离轴照明模式。 仅使用一个一阶衍射光束获得目标图像。 在目标是复合光栅的地方，可以从光栅图像的强度获得覆盖测量值。 可以对由图像场中的光栅位置的变化引起的误差来校正叠加测量。

公开(公告)号：SG178368A1

公开(公告)日：2012-04-27

申请号：SG2012009551

申请日：2010-08-05

Applicant: ASML NETHERLANDS BV

Inventor： SMILDE HENDRIK ,  DEN BOEF ARIE ,  COENE WILLEM ,  BLEEKER ARNO ,  KOOLEN ARMAND ,  PELLEMANS HENRICUS ,  PLUG REINDER

Abstract: A metrology apparatus is arranged to illuminate a plurality of targets with an off-axis illumination mode. Images of the targets are obtained using only one first order diffracted beam. Where the target is a composite grating, overlay measurements can be obtained from the intensities of the images of the different gratings. Overlay measurements can be corrected for errors caused by variations in the position of the gratings in an image field.

公开(公告)号：NL2009508A

公开(公告)日：2013-04-25

申请号：NL2009508

申请日：2012-09-24

Applicant: ASML NETHERLANDS BV

Inventor： KOOLEN ARMAND ,  PELLEMANS HENRICUS ,  SCHAAR MAURITS ,  VANOPPEN PETER ,  KUBIS MICHAEL

IPC: G01N21/47 ,  G03F7/20

公开(公告)号：NL2010734A

公开(公告)日：2013-12-02

申请号：NL2010734

申请日：2013-05-01

Applicant: ASML NETHERLANDS BV

Inventor： JAK MARTIN ,  KOOLEN ARMAND ,  SMILDE HENDRIK

IPC: G01N21/47 ,  G03F7/20

公开(公告)号：NL2005192A

公开(公告)日：2011-02-28

申请号：NL2005192

申请日：2010-08-05

Applicant: ASML NETHERLANDS BV

Inventor： SMILDE HENDRIK ,  BLEEKER ARNO ,  BOEF ARIE ,  KOOLEN ARMAND ,  PELLEMANS HENRICUS ,  PLUG REINDER ,  COENE WILLEM

IPC: G03F7/20 ,  G01N21/47

Abstract: A metrology apparatus is arranged to illuminate a plurality of targets with an off-axis illumination mode. Images of the targets are obtained using only one first order diffracted beam. Where the target is a composite grating, overlay measurements can be obtained from the intensities of the images of the different gratings. Overlay measurements can be corrected for errors caused by variations in the position of the gratings in an image field.

公开(公告)号：NL2004803A

公开(公告)日：2010-12-15

申请号：NL2004803

申请日：2010-06-02

Applicant: ASML NETHERLANDS BV

Inventor： WIT JOHANNES ,  KOOLEN ARMAND

IPC: G01N21/47 ,  G03F7/20

Abstract: A scatterometer configured to derive a property of a substrate, includes an optical arrangement that produces a beam of radiation. An objective lens is arranged to focus the beam of radiation onto a target on the substrate. The optical arrangement is arranged to change the divergence of the beam incident on the objective lens, thereby changing spherical aberration caused by the objective lens on the beam focused on the target. A detection arrangement is arranged to detect the beam of radiation after reflection or scattering from the substrate.