公开(公告)号：WO2014072149A2

公开(公告)日：2014-05-15

申请号：PCT/EP2013071141

申请日：2013-10-10

Applicant: ASML NETHERLANDS BV

Inventor： LOOPSTRA ERIK ,  YAKUNIN ANDREI ,  BANINE VADIM ,  NIKIPELOV ANDREY ,  OSORIO OLIVEROS EDGAR ,  STRUYCKEN ALEXANDER ,  VAN DRIEËNHUIZEN BERT ,  VAN SCHOOT JAN

IPC: G03F7/20 ,  H05G2/00

CPC classification number: H05G2/006 ,  G03F7/70033 ,  G03F7/7085 ,  G21K1/062 ,  G21K2201/067 ,  H01S3/073 ,  H01S3/08059 ,  H01S3/0815 ,  H01S3/1307 ,  H01S3/2232 ,  H01S3/2383 ,  H05G2/008

Abstract: A method of generating radiation for a lithography apparatus. The method comprises providing a continuously renewing fuel target at a plasma formation location and directing a continuous-wave excitation beam at the plasma formation location such that fuel within the continuously renewing fuel target is excited by the continuous-wave excitation beam to generate a radiation generating plasma.

Abstract translation: 一种为光刻设备产生辐射的方法。 该方法包括在等离子体形成位置处提供连续更新的燃料目标并且在等离子体形成位置处引导连续波激发光束，使得连续更新的燃料靶内的燃料被连续波激发光束激发以产生辐射产生 等离子体。

公开(公告)号：WO2013174656A3

公开(公告)日：2014-01-23

申请号：PCT/EP2013059617

申请日：2013-05-08

Applicant: ASML NETHERLANDS BV

Inventor： OSORIO OLIVEROS EDGAR

IPC: G03F7/20 ,  G03F1/24 ,  G21K1/06

CPC classification number: G03F7/70916 ,  B82Y10/00 ,  B82Y30/00 ,  G02B5/085 ,  G02B5/0891 ,  G02B27/0006 ,  G03F1/24 ,  G03F1/62 ,  G03F7/7015 ,  G03F7/70958 ,  G21K1/062 ,  G21K2201/067 ,  Y10S977/734

Abstract: A reflector comprising a reflecting surface or structure provided with a cap layer formed from Silicene or a Silicene derivative. The reflector may be provided in a lithographic apparatus.

Abstract translation: 一种反射器，包括设置有由硅或硅烷衍生物形成的盖层的反射表面或结构。 反射器可以设置在光刻设备中。

公开(公告)号：NL2010777A

公开(公告)日：2013-11-25

申请号：NL2010777

申请日：2013-05-08

Applicant: ASML NETHERLANDS BV

Inventor： OSORIO OLIVEROS EDGAR

IPC: G03F7/20 ,  H05G2/00

公开(公告)号：NL2004994A

公开(公告)日：2010-08-09

申请号：NL2004994

申请日：2010-06-29

Applicant: ASML NETHERLANDS BV

Inventor： TIMOSHKOV VADIM ,  YAKUNIN ANDREI ,  OSORIO OLIVEROS EDGAR

IPC: G02B5/08 ,  G03F7/20

公开(公告)号：NL2011580A

公开(公告)日：2014-05-08

申请号：NL2011580

申请日：2013-10-10

Applicant: ASML NETHERLANDS BV

Inventor： LOOPSTRA ERIK ,  YAKUNIN ANDREI ,  BANINE VADIM ,  NIKIPELOV ANDREY ,  OSORIO OLIVEROS EDGAR ,  STRUYCKEN ALEXANDER ,  DRIE NHUIZEN BERT ,  SCHOOT JAN

IPC: G03F7/20 ,  H05G2/00