公开(公告)号：KR20180021217A

公开(公告)日：2018-02-28

申请号：KR20187004578

申请日：2011-03-17

Applicant: ASML NETHERLANDS BV

Inventor： YAKUNIN ANDREI ,  BANINE VADIM ,  LOOPSTRA ERIK ,  VAN DER SCHOOT HARMEN ,  STEVENS LUCAS ,  VAN KAMPEN MAARTEN

IPC: G03F1/62 ,  C01B32/20 ,  G02B5/08 ,  G02B5/20 ,  G03F1/24 ,  G03F7/20 ,  H01L21/027

CPC classification number: G03F1/64 ,  B82Y10/00 ,  B82Y40/00 ,  C01B32/20 ,  G02B5/0816 ,  G02B5/0891 ,  G02B5/204 ,  G02B5/208 ,  G02B27/0006 ,  G03B27/54 ,  G03F1/24 ,  G03F1/62 ,  G03F7/70058 ,  G03F7/702 ,  G03F7/70916 ,  G03F7/70958 ,  G03F7/70983 ,  G21K1/062 ,  G21K2201/061 ,  H01B1/04 ,  H01B1/24

Abstract: 리소그래피장치는방사선빔을생성하도록구성된방사선소스, 및패터닝디바이스를지지하도록구성된지지체를포함한다. 패터닝디바이스는패터닝된방사선빔을형성하기위해방사선빔에패턴을부여하도록구성된다. 방사선소스와패터닝디바이스사이에는챔버가위치된다. 챔버는방사선빔을반사시키도록구성된적어도 1 이상의광학구성요소를포함하고, 방사선소스로부터의방사선이이를통과하는것을허용하도록구성된다. 멤브레인(44)이멤브레인을통한방사선빔의통과를허용하고, 오염입자(54)들의통과를방지하도록구성된다. 챔버내부로부터챔버외부로우회경로를따라가스가흐르는것을허용하도록입자포획구조체(52)가구성된다. 우회경로는챔버내부로부터챔버외부로의오염입자(58)들의통과를실질적으로방지하도록구성된다.

公开(公告)号：KR20180031812A

公开(公告)日：2018-03-28

申请号：KR20187007749

申请日：2011-03-17

Applicant: ASML NETHERLANDS BV

Inventor： YAKUNIN ANDREI ,  BANINE VADIM ,  LOOPSTRA ERIK ,  VAN DER SCHOOT HARMEN ,  STEVENS LUCAS ,  VAN KAMPEN MAARTEN

IPC: G03F1/62 ,  C01B32/20 ,  G02B5/08 ,  G02B5/20 ,  G03F1/24 ,  G03F7/20 ,  H01L21/027

CPC classification number: G03F1/64 ,  B82Y10/00 ,  B82Y40/00 ,  C01B32/20 ,  G02B5/0816 ,  G02B5/0891 ,  G02B5/204 ,  G02B5/208 ,  G02B27/0006 ,  G03B27/54 ,  G03F1/24 ,  G03F1/62 ,  G03F7/70058 ,  G03F7/702 ,  G03F7/70916 ,  G03F7/70958 ,  G03F7/70983 ,  G21K1/062 ,  G21K2201/061 ,  H01B1/04 ,  H01B1/24

Abstract: 리소그래피장치는방사선빔을생성하도록구성된방사선소스, 및패터닝디바이스를지지하도록구성된지지체를포함한다. 패터닝디바이스는패터닝된방사선빔을형성하기위해방사선빔에패턴을부여하도록구성된다. 방사선소스와패터닝디바이스사이에는챔버가위치된다. 챔버는방사선빔을반사시키도록구성된적어도 1 이상의광학구성요소를포함하고, 방사선소스로부터의방사선이이를통과하는것을허용하도록구성된다. 멤브레인(44)이멤브레인을통한방사선빔의통과를허용하고, 오염입자(54)들의통과를방지하도록구성된다. 챔버내부로부터챔버외부로우회경로를따라가스가흐르는것을허용하도록입자포획구조체(52)가구성된다. 우회경로는챔버내부로부터챔버외부로의오염입자(58)들의통과를실질적으로방지하도록구성된다.

Abstract translation: 光刻设备包括被配置为产生辐射束的辐射源。 该光刻设备还包括被配置为支撑图案形成装置的支撑件。 图案形成装置被配置为将辐射束赋予图案以形成图案化的辐射束。 该支撑件提供有包括石墨烯层的薄膜。

公开(公告)号：WO2014063878A3

公开(公告)日：2014-10-09

申请号：PCT/EP2013069713

申请日：2013-09-23

Applicant: ASML NETHERLANDS BV

Inventor： NIKIPELOV ANDREY ,  BANINE VADIM ,  YAKUNIN ANDREI

IPC: G03F7/20 ,  G02B17/06 ,  G02B17/08 ,  H05G2/00

CPC classification number: G03F7/70033 ,  G02B17/0657 ,  G02B17/0808 ,  G03F7/70041 ,  G03F7/7005 ,  H05G2/006 ,  H05G2/008

Abstract: A radiation source for a lithographic apparatus uses a plurality of fiber lasers to ignite a fuel droplet at an ignition location to generate EUV radiation. The fiber lasers may be provided to emit parallel to an optical axis and a telescopic optical system is provided to focus the lasers at the ignition location, or the lasers may be directed towards the optical axis with a final focus lens being used to reduce beam waist. The lasers may be provided in two or more groups to allow them to be independently controlled and some of the lasers may be focused at a different location to provide a pre-pulse. Radiation from fiber lasers may also be combined using dichroic mirrors.

Abstract translation: 用于光刻设备的辐射源使用多个光纤激光器在点火位置点燃燃料液滴以产生EUV辐射。 可以将光纤激光器设置成平行于光轴发射，并且提供伸缩光学系统以将激光器聚焦在点火位置，或者激光器可以被引导到光轴，最终聚焦透镜用于减小光束腰部 。 激光器可以以两个或更多个组提供，以允许它们被独立控制，并且一些激光器可以聚焦在不同的位置以提供预脉冲。 光纤激光器的辐射也可以使用二向色镜来组合。

公开(公告)号：WO2011032768A3

公开(公告)日：2013-03-28

申请号：PCT/EP2010061008

申请日：2010-07-29

Applicant: ASML NETHERLANDS BV ,  YAKUNIN ANDREI ,  VAN KAMPEN MAARTEN ,  TIMOSHKOV VADIM

Inventor： YAKUNIN ANDREI ,  VAN KAMPEN MAARTEN ,  TIMOSHKOV VADIM

IPC: G03F7/20 ,  G02B5/20 ,  G21K1/06

CPC classification number: G03F7/70958 ,  G03F7/70191 ,  G03F7/70575 ,  G03F7/70941

Abstract: A spectral purity filter (100) includes a substrate (111), a plurality of apertures (104) through the substrate (111), and a plurality of walls. The walls define the plurality of apertures (104) through the substrate (111). The spectral purity filter (100) also includes a first layer (112) formed on the substrate to reflect radiation of a first wavelength, and a second layer (113) formed on the first layer (112) to prevent oxidation of the first layer (112). The apertures (104) are constructed and arranged to be able to transmit at least a portion of radiation of a second wavelength there through.

Abstract translation: 光谱纯度滤光器（100）包括基板（111），穿过基板（111）的多个孔（104）和多个壁。 壁限定通过基板（111）的多个孔（104）。 光谱纯度滤光片（100）还包括形成在基板上以反射第一波长的辐射的第一层（112）和形成在第一层（112）上的第二层（113），以防止第一层的氧化 112）。 孔（104）被构造和布置成能够透过第二波长的至少一部分辐射。

公开(公告)号：WO2011110467A3

公开(公告)日：2011-11-24

申请号：PCT/EP2011053171

申请日：2011-03-03

Applicant: ASML NETHERLANDS BV ,  IVANOV VLADIMIR ,  ANTSIFEROV PAVEL ,  SIDELNIKOV YURII ,  SCACCABAROZZI LUIGI ,  NEERHOF HENDRIK ,  YAKUNIN ANDREI

Inventor： IVANOV VLADIMIR ,  ANTSIFEROV PAVEL ,  SIDELNIKOV YURII ,  SCACCABAROZZI LUIGI ,  NEERHOF HENDRIK ,  YAKUNIN ANDREI

IPC: G03F7/20

CPC classification number: G03F7/70916

Abstract: A system for removing contaminant particles from the path of the beam of EUV radiation is provided in which at least a first AC voltage is provided to a pair of electrodes on opposite sides of the path of the beam of EUV radiation as a first stage of a regime of voltages and, as a second stage of the regime of voltages, a DC voltage is provided to the electrodes.

Abstract translation: 提供了用于从EUV辐射束的路径去除污染物粒子的系统，其中至少第一AC电压被提供给EUV辐射束的路径的相对侧上的一对电极，作为第一级 电压状态，并且作为电压状态的第二阶段，将DC电压提供给电极。

公开(公告)号：WO2014072149A2

公开(公告)日：2014-05-15

申请号：PCT/EP2013071141

申请日：2013-10-10

Applicant: ASML NETHERLANDS BV

Inventor： LOOPSTRA ERIK ,  YAKUNIN ANDREI ,  BANINE VADIM ,  NIKIPELOV ANDREY ,  OSORIO OLIVEROS EDGAR ,  STRUYCKEN ALEXANDER ,  VAN DRIEËNHUIZEN BERT ,  VAN SCHOOT JAN

IPC: G03F7/20 ,  H05G2/00

CPC classification number: H05G2/006 ,  G03F7/70033 ,  G03F7/7085 ,  G21K1/062 ,  G21K2201/067 ,  H01S3/073 ,  H01S3/08059 ,  H01S3/0815 ,  H01S3/1307 ,  H01S3/2232 ,  H01S3/2383 ,  H05G2/008

Abstract: A method of generating radiation for a lithography apparatus. The method comprises providing a continuously renewing fuel target at a plasma formation location and directing a continuous-wave excitation beam at the plasma formation location such that fuel within the continuously renewing fuel target is excited by the continuous-wave excitation beam to generate a radiation generating plasma.

Abstract translation: 一种为光刻设备产生辐射的方法。 该方法包括在等离子体形成位置处提供连续更新的燃料目标并且在等离子体形成位置处引导连续波激发光束，使得连续更新的燃料靶内的燃料被连续波激发光束激发以产生辐射产生 等离子体。

公开(公告)号：WO2013107686A2

公开(公告)日：2013-07-25

申请号：PCT/EP2013050406

申请日：2013-01-10

Applicant: ASML NETHERLANDS BV

Inventor： YAKUNIN ANDREI ,  BANINE VADIM ,  MOORS ROEL ,  VAN SCHOOT JAN ,  VERHAGEN MARTINUS ,  FRIJNS OLAV ,  KRIVTSUN VLADIMIR ,  SWINKELS GERARDUS ,  RIEPEN MICHEL ,  SCHIMMEL HENDRIKUS ,  MEDVEDEV VIACHESLAV

IPC: G03F7/20

CPC classification number: G03F7/70033 ,  G03F7/70166 ,  G03F7/70191 ,  G03F7/70575 ,  G03F7/70916 ,  G21K1/067 ,  G21K2201/064 ,  H05G2/008

Abstract: A source-collector device is constructed and arranged to generate a radiation beam, The device includes a target unit constructed and arranged to present a target surface of plasma- forming material; a laser unit constructed and arranged to generate a beam of radiation directed onto the target surface so as to form a plasma from said plasma-forming material; a contaminant trap constructed and arranged to reduce propagation of particulate contaminants generated by the plasma; a radiation collector comprising a plurality of grazing-incidence reflectors arranged to collect radiation emitted by the plasma and form a beam therefrom; and a filter constructed and arranged to attenuate at least one wavelength range of the beam.

Abstract translation: 源极集电极器件被构造和布置成产生辐射束。该器件包括构造和布置成呈现等离子体形成材料的目标表面的靶单元; 激光单元，其被构造和布置成产生被引导到所述目标表面上的辐射束，以便形成来自所述等离子体形成材料的等离子体; 构造和布置以减少由等离子体产生的颗粒污染物的传播的污染物阱; 辐射收集器，包括多个放射入射反射器，其布置成收集由等离子体发射的辐射并从其形成光束; 以及被构造和布置成衰减所述光束的至少一个波长范围的滤光器。

公开(公告)号：NL2011306A

公开(公告)日：2014-03-12

申请号：NL2011306

申请日：2013-08-15

Applicant: ASML NETHERLANDS BV

Inventor： BANINE VADIM ,  WAGNER CHRISTIAN ,  LOOPSTRA ERIK ,  YAKUNIN ANDREI

IPC: G03F7/20 ,  H05G2/00

公开(公告)号：NL2011237A

公开(公告)日：2014-02-04

申请号：NL2011237

申请日：2013-07-30

Applicant: ASML NETHERLANDS BV

Inventor： BANINE VADIM ,  MINNAERT ARTHUR ,  MUITJENS MARCEL ,  YAKUNIN ANDREI ,  SCACCABAROZZI LUIGI ,  MALLMANN HANS ,  BAL KURSAT ,  LUIJTEN CARLO ,  NIENHUYS HAN-KWANG ,  HUIJBERTS ALEXANDER ,  GASSELING PAULUS ,  RIZO DIAGO PEDRO ,  KAMPEN MAARTEN ,  AERLE NICK

IPC: G03F7/20

公开(公告)号：NL2009352A

公开(公告)日：2013-03-25

申请号：NL2009352

申请日：2012-08-23

Applicant: ASML NETHERLANDS BV

Inventor： SCHOOT JAN ,  BANINE VADIM ,  YAKUNIN ANDREI ,  KREUWEL HERMANUS ,  MOORS JOHANNES ,  FRIJNS OLAV WALDEMAR VLADIMIR ,  SWINKELS GERARDUS ,  STAMM UWE ,  VANDERHALLEN IVO

IPC: G03F7/20 ,  H05G2/00