公开(公告)号：KR20180039671A

公开(公告)日：2018-04-18

申请号：KR20187006615

申请日：2016-08-31

Applicant: FUJIFILM CORP

Inventor： NIHASHI WATARU ,  TSUBAKI HIDEAKI ,  TSUCHIHASHI TORU ,  YAMAMOTO KEI

IPC: G03F7/26 ,  G03F7/11 ,  G03F7/20 ,  G03F7/32 ,  G03F7/42

CPC classification number: G03F7/11 ,  G03F7/038 ,  G03F7/039 ,  G03F7/20 ,  G03F7/32 ,  G03F7/38

Abstract: 특히극미세의잔류패턴의형성에있어서, 막감소가적어, 높은해상력을얻을수 있는패턴형성방법, 상기패턴형성방법을포함하는전자디바이스의제조방법, 및상기패턴을형성하기위한적층체를제공한다. 패턴형성방법으로서, (a) 감활성광선성또는감방사선성조성물에의하여감활성광선성또는감방사선성막을형성하는공정, (b) 감활성광선성또는감방사선성막상에상층막형성용조성물에의하여상층막을형성하는공정, (c) 상층막이형성된감활성광선성또는감방사선성막을노광하는공정, 및 (d) 노광된감활성광선성또는감방사선성막을, 현상액으로현상하는공정을포함하고, 상층막형성용조성물이, 가교제를포함한다. 전자디바이스의제조방법은, 상기패턴형성방법을포함한다. 적층체는, 감활성광선성또는감방사선성막과, 가교제를포함하는상층막을갖는다.

公开(公告)号：AT551633T

公开(公告)日：2012-04-15

申请号：AT08011701

申请日：2008-06-27

Applicant: FUJIFILM CORP

Inventor： TARUTANI SHINJI ,  TSUBAKI HIDEAKI ,  WADA KENJI

IPC: G03F7/039 ,  G03F7/004 ,  G03F7/075 ,  G03F7/20

公开(公告)号：AT533086T

公开(公告)日：2011-11-15

申请号：AT07017721

申请日：2007-09-11

Applicant: FUJIFILM CORP

Inventor： TSUBAKI HIDEAKI

IPC: G03F7/004 ,  G03F7/038 ,  G03F7/039

Abstract: A photosensitive composition contains: a compound capable of generating an acid upon irradiation with actinic rays or radiation; a basic compound represented by the formula (I-a) as defined herein; a basic compound represented by the formula (I-b) as defined herein; and a surfactant represented by the formula (II) as defined herein.

公开(公告)号：EP2761374A4

公开(公告)日：2015-05-27

申请号：EP12837295

申请日：2012-09-14

Applicant: FUJIFILM CORP

Inventor： TAKIZAWA HIROO ,  IWATO KAORU ,  TSUBAKI HIDEAKI

IPC: G03F7/038 ,  G03F7/004 ,  G03F7/039 ,  G03F7/32 ,  H01L21/027

CPC classification number: G03F7/0388 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/038 ,  G03F7/0392 ,  G03F7/0397 ,  G03F7/11 ,  G03F7/2041 ,  G03F7/325 ,  G03F7/405

公开(公告)号：EP2399171A4

公开(公告)日：2012-07-11

申请号：EP10743883

申请日：2010-02-19

Applicant: FUJIFILM CORP

Inventor： TSUBAKI HIDEAKI ,  SHIRAKAWA KOJI ,  TSUCHIHASHI TORU

IPC: G03F7/32 ,  G03F7/038 ,  G03F7/039 ,  H01L21/027

CPC classification number: G03F7/325 ,  G03F7/0392 ,  G03F7/0397 ,  G03F7/322

公开(公告)号：EP2433178A4

公开(公告)日：2012-11-21

申请号：EP10777867

申请日：2010-05-20

Applicant: FUJIFILM CORP

Inventor： TSUCHIHASHI TORU ,  TSUBAKI HIDEAKI ,  SHIRAKAWA KOJI ,  TAKAHASHI HIDENORI ,  TSUCHIMURA TOMOTAKA

IPC: G03F7/039 ,  G03F7/004 ,  H01L21/027

CPC classification number: G03F7/0045 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/0397

公开(公告)号：EP2157477A4

公开(公告)日：2012-04-11

申请号：EP08777178

申请日：2008-06-12

Applicant: FUJIFILM CORP

Inventor： TSUBAKI HIDEAKI

IPC: G03F7/004 ,  G03F7/039 ,  G03F7/32 ,  H01L21/027

CPC classification number: G03F7/325 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/0392 ,  G03F7/0397 ,  G03F7/2041 ,  G03F7/30 ,  G03F7/32

公开(公告)号：EP2756353A4

公开(公告)日：2015-04-29

申请号：EP12831380

申请日：2012-09-11

Applicant: FUJIFILM CORP

Inventor： TAKIZAWA HIROO ,  TSUBAKI HIDEAKI ,  HIRANO SHUJI

IPC: G03F7/038 ,  C08F212/14 ,  C08F220/10 ,  G03F7/004 ,  G03F7/039 ,  H01L21/027

CPC classification number: G03F7/0041 ,  C08F12/20 ,  C08F12/24 ,  C08F212/14 ,  C08F212/32 ,  G03F7/004 ,  G03F7/038 ,  G03F7/039 ,  G03F7/0392 ,  G03F7/0397 ,  G03F7/20 ,  G03F7/2037 ,  G03F7/2059 ,  G03F7/325 ,  H01J37/3174

Abstract: A pattern-forming method includes in this order: step (1) of forming a film with an electron beam-sensitive or extreme ultraviolet radiation-sensitive resin composition that contains (A) a resin having an acid-decomposable repeating unit and capable of decreasing a solubility of the resin (A) in a developer containing an organic solvent by an action of an acid, (B) a compound capable of generating an acid upon irradiation with an electron beam or extreme ultraviolet radiation and (C) a solvent; step (2) of exposing the film with an electron beam or extreme ultraviolet radiation; and step (4) of forming a negative pattern by development of the film with a developer containing an organic solvent after the exposing of the film, wherein a content of the compound (B) is 21% by mass to 70% by mass on the basis of all solids content of the composition.

公开(公告)号：EP2399168A4

公开(公告)日：2013-06-05

申请号：EP10792234

申请日：2010-06-23

Applicant: FUJIFILM CORP

Inventor： FUJIMORI TORU ,  SHIRAKAWA KOJI ,  USA TOSHIHIRO ,  SUGIYAMA KENJI ,  ITO TAKAYUKI ,  TSUBAKI HIDEAKI ,  NISHIMAKI KATSUHIRO ,  HIRANO SHUJI ,  TAKAHASHI HIDENORI

IPC: G03F7/039 ,  B29C33/38 ,  B29C59/02 ,  C08F12/00 ,  C08F20/00 ,  C08F20/50 ,  G03F7/00 ,  G03F7/004 ,  H01L21/027

CPC classification number: C08F20/50 ,  B29C33/38 ,  B29C2033/426 ,  B29C2059/023 ,  B82Y10/00 ,  B82Y40/00 ,  G03F7/0002 ,  G03F7/0017 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/0392 ,  G03F7/0397

公开(公告)号：EP2761373A4

公开(公告)日：2015-06-10

申请号：EP12836848

申请日：2012-08-28

Applicant: FUJIFILM CORP

Inventor： INOUE NAOKI ,  TAKIZAWA HIROO ,  HIRANO SHUJI ,  TSUBAKI HIDEAKI

IPC: G03F7/038 ,  C08F212/02 ,  C08F220/10 ,  G03F7/039 ,  G03F7/32 ,  H01L21/027

CPC classification number: G03F7/2002 ,  C08F12/24 ,  C08F212/14 ,  G03C1/733 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/0397 ,  G03F7/0758 ,  G03F7/2039 ,  G03F7/2041 ,  G03F7/325 ,  C08F212/32