Nichtlineare Mehrzweck-Halbleitergehäuse-Fertigungsstraße

    公开(公告)号:DE102017217595A1

    公开(公告)日:2018-04-05

    申请号:DE102017217595

    申请日:2017-10-04

    Abstract: Ein Verfahren zum Produzieren von Halbleitervorrichtungen im Gehäuse enthält Bereitstellen einer ersten Gehäusesubstratplatte. Eine zweite Gehäusesubstratplatte wird bereitgestellt. Die erste und die zweite Gehäusesubstratplatte werden unter Verwendung eines Steuermechanismus durch eine Fertigungsstraße bewegt, die mehrere Gehäusefertigungswerkzeuge enthält. Halbleitervorrichtungen im Gehäuse vom ersten Typ werden auf der ersten Gehäusesubstratplatte gebildet, und Halbleitervorrichtungen im Gehäuse vom zweiten Typ werden auf der zweiten Gehäusesubstratplatte gebildet. Die Halbleitervorrichtung im Gehäuse vom zweiten Typ ist von der Halbleitervorrichtung im Gehäuse vom ersten Typ verschieden. Der Steuermechanismus bewegt sowohl die erste als auch die zweite Gehäusesubstratplatte auf nichtlineare Weise durch die Fertigungsstraße.

    10.
    发明专利
    未知

    公开(公告)号:DE10043159A1

    公开(公告)日:2002-03-21

    申请号:DE10043159

    申请日:2000-09-01

    Abstract: The invention relates to a memory cell arrangement with a memory cell field comprising at least one layer of magnetoresistive memory elements (11) which are connected to first contact lines (10). The first contact lines (10) lie within a first dielectric layer (6) and are connected to second contact lines (20; 29; 35). The second contact lines (20; 29; 35) lie within a second dielectric layer (17; 27; 32). A diffusion barrier layer (15; 22; 7; 31) is arranged between the first contact lines (10) and the second dielectric layer (17; 27; 32).

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