VERFAHREN ZUM ELEKTRISCHEN ISOLIEREN GEMEINSAM BENUTZTER ZULEITUNGEN EINES LEITERRAHMENSTREIFENS

    公开(公告)号:DE102014116379A1

    公开(公告)日:2015-05-13

    申请号:DE102014116379

    申请日:2014-11-10

    Abstract: Ein Leiterrahmenstreifen umfasst eine Vielzahl von verbundenen Einheitsleiterrahmen, wobei jeder Einheitsleiterrahmen eine Dieauflage und eine Vielzahl von mit einem Rand des Einheitsleiterrahmens verbundenen Zuleitungen aufweist. An den Dieauflagen ist ein Halbleiterdie befestigt. Eine Formmasse deckt die Einheitsleiterrahmen ab, einschließlich der Halbleiterdies. Vor dem Testen oder sonstigen Verarbeiten des Leiterrahmenstreifens wird in eine Region der Zuleitungen, die benachbarte der Einheitsleiterrahmen gemeinsam benutzen, ein Spalt geätzt. Der Spalt erstreckt sich zumindest großteils durch die gemeinsam benutzten Zuleitungen. Vor dem nachfolgenden Verarbeiten wird in der Formmasse rund um den Rand der Einheitsleiterrahmen, auch unterhalb des Spalts in den gemeinsam benutzten Zuleitungen, ein Teilschnitt vorgenommen, um die Zuleitungen der Einheitsleiterrahmen elektrisch zu isolieren.

    3.
    发明专利
    未知

    公开(公告)号:DE10124970B4

    公开(公告)日:2007-02-22

    申请号:DE10124970

    申请日:2001-05-21

    Abstract: The invention relates to an electronic device having a semiconductor chip and a leadframe. The leadframe has a flat conductor frame. A semiconductor chip connection plate is configured in the center of the flat conductor frame. The semiconductor chip connection plate is structured by elongate openings all around the position of the semiconductor chip to form an island that carries the semiconductor chip and a ring that surrounds the island. Furthermore, the invention relates to a method for producing such an electronic device and to a corresponding leadframe.

    Ein Verfahren zur Bearbeitung eines Substrats und ein Verfahren zur Bearbeitung eines Wafers

    公开(公告)号:DE102015112845A1

    公开(公告)日:2016-02-11

    申请号:DE102015112845

    申请日:2015-08-05

    Abstract: Gemäß verschiedenen Ausführungsformen kann ein Substratbearbeitungsverfahren (100) Folgendes umfassen: das Ausbilden einer Vielzahl an Gräben in ein Substrat hinein zwischen zwei Chip-Strukturen im Substrat, wobei die Gräben mindestens eine Säule zwischen den zwei Chip-Strukturen und eine Seitenwand auf jeder der zwei Chip-Strukturen definieren (110); das Anordnen eines Hilfs-Trägerelements auf dem Substrat, um die Chip-Strukturen und die mindestens eine Säule zu halten (120); das zumindest teilweise Füllen der Gräben mit Einkapselungsmaterial, um die mindestens eine Säule und die Seitenwände zu bedecken (130), wodurch die Chip-Strukturen zumindest teilweise eingekapselt werden; das Entfernen eines Abschnitts des Einkapselungsmaterials, um mindestens einen Abschnitt der mindestens einen Säule freizulegen (140); und das zumindest teilweise Entfernen der mindestens einen Säule (150).

    LEITERRAHMENSTREIFEN UND VERFAHREN ZUM ELEKTRISCHEN ISOLIEREN GEMEINSAM BENUTZTER ZULEITUNGEN EINES LEITERRAHMENSTREIFENS

    公开(公告)号:DE102014116379B4

    公开(公告)日:2021-08-19

    申请号:DE102014116379

    申请日:2014-11-10

    Abstract: Verfahren zur Verarbeitung eines Leiterrahmenstreifens (100), der eine Vielzahl verbundener Einheitsleiterrahmen (102) umfasst, wobei jeder Einheitsleiterrahmen (102) eine Dieauflage (104) und eine Vielzahl von mit einem Rand des Einheitsleiterrahmens (102) verbundenen Zuleitungen(112) aufweist, wobei das Verfahren Folgendes umfasst:Befestigen eines Halbleiterdies (106) an den Dieauflagen (104) ;Abdecken der Einheitsleiterrahmen (102), einschließlich der Halbleiterdies (106), mit einer Formmasse (116);Ausbilden einer Maske (202) auf einer Seite der Dieauflagen (104) und der Zuleitungen (112), die von der Formmasse (116) nicht abgedeckt sind, wobei die Maske (202) Öffnungen (204) aufweist, die eine Region der Zuleitungen (112) freilegt, die benachbarte der Einheitsleiterrahmen (102) gemeinsam benutzen;Ätzen der freigelegten Region der gemeinsam benutzten Zuleitungen (112), um die gemeinsam benutzten Zuleitungen (112) durch einen Spalt (G) zu trennen, der sich zumindest großteils durch die gemeinsam benutzten Zuleitungen (112) erstreckt;teilweises Schneiden durch die Formmasse (116) rund um den Rand der Einheitsleiterrahmen (102), auch unterhalb des Spalts (G) in den gemeinsam benutzten Zuleitungen (112), um die Zuleitungen (112) der Einheitsleiterrahmen (102) elektrisch zu isolieren;Verarbeiten des Leiterrahmenstreifens (100) nach dem teilweisen Durchschneiden der Formmasse (116);wobei der Spalt (G) sich vollständig durch die gemeinsam benutzten Zuleitungen (112) erstreckt, um jede der gemeinsam benutzten Zuleitungen (112) physikalisch in zumindest zwei verschiedene Abschnitte (112', 112'') zu trennen; undstromloses Plattieren der Seite der Dieauflagen (104) und der Zuleitungen (112), die von der Formmasse (116) nicht abgedeckt sind, von Seitenwänden (206) der Abschnitte (112', 112'') der gemeinsam benutzten Zuleitungen (112), die durch das Ätzen freigelegt sind, und der Formmasse (116) auf der Unterseite des Spalts (G) oder, alternativ zur Formmasse (116) auf der Unterseite des Spalts (G), einer Ätzstoppschicht (200) auf der Unterseite des Spalts (G), die auf einer Seite der Zuleitungen (112), die von der Formmasse (116) abgedeckt ist, aufgebracht wurde, vor dem teilweisen Durchschneiden der Formmasse (116).

    Ein Verfahren zur Bearbeitung eines Substrats und ein Verfahren zur Bearbeitung eines Wafers

    公开(公告)号:DE102015112845B4

    公开(公告)日:2020-01-02

    申请号:DE102015112845

    申请日:2015-08-05

    Abstract: Substratbearbeitungsverfahren (100), wobei das Verfahren (100) Folgendes umfasst:das Ausbilden einer Vielzahl an Gräben in ein Substrat hinein zwischen zwei Chip-Strukturen im Substrat, wobei die Gräben mindestens eine Säule zwischen den zwei Chip-Strukturen und eine Seitenwand auf jeder der zwei Chip-Strukturen definieren (110);das Anordnen eines Hilfs-Trägerelements auf dem Substrat, um die Chip-Strukturen und die mindestens eine Säule zu halten (120);das zumindest teilweise Füllen der Gräben mit Einkapselungsmaterial, um die mindestens eine Säule und die Seitenwände zu bedecken, wodurch die Chip-Strukturen zumindest teilweise eingekapselt werden (130);das Entfernen eines Abschnitts des Einkapselungsmaterials, um zumindest einen Abschnitt der mindestens einen Säule freizulegen (140); unddas zumindest teilweise Entfernen der mindestens einen Säule (150).

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