Abstract:
A method of manufacturing a substrate for a microelectronic device comprises providing a dielectric material (120, 220, 920) as a build-up layer of the substrate, applying a primer (140, 240, 940) to a surface (121, 221, 921) of the dielectric material, and forming an electrically conductive layer (150, 250, 950) over the primer. In another embodiment, the method comprises providing the dielectric material, forming the feature extending into the dielectric material, forming the electrically conductive layer over the dielectric material, applying the primer to a surface of the electrically conductive layer and attaching a dielectric layer (960) to the primer.
Abstract:
embalagem compreendendo camada dielétrica de vidro com moldagem, e método e sistema relacioandos. configurações da presente revelação podem se referir, de maneira geral, a sistemas, aparelhos e/ou processos direcionados a um fluxo de processo de fabricação para embalagens que incluem uma ou mais camadas de vidro que incluem recursos de moldagem, tais como traços, rdls e passagens eletricamente condutores dentro das embalagens. em configurações, uma embalagem pode incluir uma camada de vidro com um primeiro lado e um segundo lado oposto ao primeiro lado, em que a camada de vidro é uma camada dielétrica. a embalagem pode incluir outra camada acoplada ao primeiro lado da camada de vidro, e um molde no segundo lado da camada de vidro para receber um material depositado em pelo menos uma porção do molde.
Abstract:
Ausführungsformen hierin beziehen sich auf das Erzeugen einer Öffnung mit hohem Aspektverhältnis in einem Packaging. Ausführungsformen können das Aufbringen einer ersten Laminatschicht auf eine Seite eines Trägermaterials, das Aufbringen einer Keimschicht auf zumindest einen Teil der Laminatschicht, das Aufbauen eines oder mehrerer Kupferpads auf die Keimschicht, das Ätzen der Keimschicht, um einen Abschnitt der ersten Laminatschicht freizulegen, das Aufbringen einer zweiten Laminatschicht, um sie rund um die Seiten eines oder mehrerer Kupferpads einzufüllen, und das Entfernen eines Teils der Aufbau-Kupferpads beinhalten. Andere Ausführungsformen können beschrieben und/oder beansprucht werden.
Abstract:
Einige Formen beziehen sich auf eine beispielhafte dehnbare elektronische Anordnung. Die dehnbare elektronische Anordnung beinhaltet ein dehnbares Gehäuse, das elektronische Komponenten beinhaltet. Eine Vielzahl von gewundenen Leitern verbindet die elektronischen Komponenten elektrisch. Die Vielzahl von gewundenen Leitern kann von dem dehnbaren Gehäuse freiliegend sein. Eine Vielzahl von leitenden Pads ist mit mindestens einer der elektronischen Komponenten oder einigen der Vielzahl von gewundenen Leitern elektrisch verbunden. Die Vielzahl von leitenden Pads kann von dem dehnbaren Gehäuse freiliegend sein. Das dehnbare Gehäuse beinhaltet eine obere Fläche und eine untere Fläche. Die Vielzahl von gewundenen Leitern kann von der unteren Fläche (zusätzlich oder alternativ zu der oberen Fläche) des dehnbaren Gehäuses freiliegend sein.
Abstract:
Generally discussed herein are systems and methods that can include a stretchable and bendable device. According to an example a method can include (1) depositing a first elastomer material on a panel, (2) laminating trace material on the elastomer material, (3) processing the trace material to pattern the trace material into one or more traces and one or more bond pads, (4) attaching a die to the one or more bond pads, or (5) depositing a second elastomer material on and around the one or more traces, the bonds pads, and the die to encapsulate the one or more traces and the one or more bond pads in the first and second elastomer materials.
Abstract:
Embodiments disclosed include a multilayer substrate for semiconductor packaging. The substrate may include a first layer with a first side with an xy-plane and individual locations on the first side have a first side distance below the first side xy-plane, and a second side with a second side xy-plane and individual locations on the second side may have a second side distance below the second side xy-plane; and a second layer with a first side coupled to the second side of the first layer and a second side opposite the first side of the second layer, wherein a thickness of the second layer at the individual locations on the second layer may be comprised of the first side distance plus the second side distance. Other embodiments may be described and/or claimed.