Abstract:
PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a semiconductor chip having a layer sequence that is improved and excellent in the respect of improving oxidation protection of solder layers in particular, which is regulated for forming solder joints. SOLUTION: A semiconductor chip is provided with a layer sequence regulated for forming solder joints, in which this layer sequence further has solder layers and an oxidation protection layer following the solder layers when looked at in relation to the semiconductor chip. A barrier layer is provided between the solder layers and the oxidation protection layer. COPYRIGHT: (C)2007,JPO&INPIT
Abstract:
A semiconductor body includes an n-conductive semiconductor layer and a p-conductive semiconductor layer. The p-conductive semiconductor layer contains a p-dopant and the n-conductive semiconductor layer an n-dopant and a further dopant.
Abstract:
On an epitaxy substrate (1), a layer structure (5, 6, 7) provided for light-emitting diodes or other optoelectronic components using thin-film technology is produced and provided with a first connecting layer (2), which comprises one or a plurality of solder materials. A second connecting layer (3) is applied over the whole area on a carrier (10) and permanently connected to the first connecting layer (2) by means of a soldering process.
Abstract:
Es wird ein optoelektronischer Halbleiterkörper (1) mit einer aktiven Halbleiterschichtenfolge (10) und einem reflektierenden Schichtsystem (20) angegeben. Das reflektierende Schichtsystem (20) weist eine an die Halbleiterschichtenfolge (10) angrenzende erste strahlungsdurchlässige Schicht (21) und eine Metallschicht (23) an der von der Halbleiterschichtenfolge (10) abgewandten Seite der ersten strahlungsdurchlässigen Schicht (21) auf. Die erste strahlungsdurchlässige Schicht (21) enthält ein erstes dielektrisches Material. Zwischen der ersten strahlungsdurchlässigen Schicht (21) und der Metallschicht (23) ist eine zweite strahlungsdurchlässige Schicht (22) angeordnet, die ein haftverbesserndes Material enthält. Die Metallschicht (23) ist unmittelbar auf das haftverbessernde Material aufgebracht. Das haftverbessernde Material ist von dem ersten dielektrischen Material verschieden und derart ausgewählt, dass die Haftung der Metallschicht (23) im Vergleich zur Haftung auf dem ersten dielektrischen Material verbessert ist.
Abstract:
An optoelectronic semiconductor chip includes a semiconductor body containing an active region, a mirror layer, and contact points arranged between the semiconductor body and the mirror layer and providing a spacing D between the semiconductor body and the mirror layer, whereby at least one cavity is formed between the mirror layer and the semiconductor body and the at least one cavity contains a gas.
Abstract:
The invention relates to an optoelectronic semiconductor component comprising at least one optoelectronic semiconductor chip (1), which comprises a radiation passage surface (11), wherein the radiation passage surface (11) is formed on a main surface (10) of the semiconductor chip (1); a cover plate (2), which is fastened to the optoelectronic semiconductor chip (1) and spans the entire radiation passage surface (11) of the semiconductor chip (1), wherein the cover plate (2) laterally protrudes over the semiconductor chip (1); a contact point (3), which is fastened to the cover plate (2) on the side of the cover plate (2) facing the semiconductor chip (1); wherein the contact point (3) is connected in an electrically conductive manner to at least one connection point (13) of the semiconductor chip (1) by means of a connecting element (4); and the connection point (13) is arranged on the main surface (10) of the semiconductor chip (1).
Abstract:
Es wird unter anderem angegeben ein Beleuchtungssystem (1) mit- mehreren einzeln ansteuerbaren Lichtquellen (2) oder einzeln ansteuerbaren Gruppen von Lichtquellen (2),- mindestens einer Ansteuereinheit (3) zum Ansteuern der Lichtquellen (2),- einer Freigabeeinheit (4), und- mindestens einer Speichereinheit (51), wobei die Freigabeeinheit (4) dazu eingerichtet ist, bestimmte Lichtfunktionen oder Ansteuermodi für die Lichtquellen (2) erst nach Eingabe eines Freigabecodes freizugeben.
Abstract:
Es wird eine Leuchtdiode angegeben, mit - einem Halbleiterkörper (1), wobei der Halbleiterkörper (1) einen aktiven, zur Strahlungserzeugung vorgesehenen Bereich (11) umfasst, - einem Trägerkörper (2), der an einer Oberseite (1a) des Halbleiterkörpers (1) am Halbleiterkörper (1) befestigt ist, wobei der Trägerkörper (2) ein Lumineszenzkonversionsmaterial umfasst, - einer Spiegelschicht (3), die an einer der Oberseite (1a) abgewandten Unterseite (1b) des Halbleiterkörpers (1) auf den Halbleiterkörper (1) aufgebracht ist, und - zwei Kontaktschichten (4a, 4b), wobei eine erste (4a) der Kontaktschichten mit einem n-leitenden Bereich (13) des Halbleiterkörpers (1) und eine zweite der Kontaktschichten (4b) mit einem p-leitenden Bereich (12) des Halbleiterkörpers (1) elektrische leitend verbunden ist.
Abstract:
Es wird ein optoelektronisches Halbleiterbauteil angegeben, mit - zumindest einem optoelektronischen Halbleiterchip (1), der eine Strahlungsdurchtrittfläche (11) aufweist, wobei die Strahlungsdurchtrittfläche (11) an einer Hauptfläche (10) des Halbleiterchips (1) ausgebildet ist, - einer Abdeckplatte (2), die am optoelektronischen Halbleiterchip (1) befestigt ist und die gesamte Strahlungsdurchtrittfläche (11) des Halbleiterchips (1) überspannt, wobei die Abdeckplatte (2) den Halbleiterchip (1) seitlich überragt, - einer Kontaktstelle (3), die an der dem Halbleiterchip (1) zugewandten Seite der Abdeckplatte (2) an der Abdeckplatte (2) befestigt ist, wobei - die Kontaktstelle (3) mittels eines Verbindungselements (4) mit zumindest einer Anschlussstelle (13) des Halbleiterchips (1) elektrisch leitend verbunden ist, und - die Anschlussstelle (13) an der Hauptfläche (10) des Halbleiterchips (1) angeordnet ist.
Abstract:
The invention relates to an optoelectronic semiconductor body (1) having an active semiconductor layer sequence (10) and a reflective layer system (20). The reflective layer system (20) is provided with a first radiation-permeable layer (21) abutting the semiconductor layer sequence (10), and with a metal layer (23) on the side of the first radiation-permeable layer (21) facing away from the semiconductor layer sequence (10). The first radiation-permeable layer (21) includes a first dielectric material. Between the first radiation-permeable layer (21) and the metal layer (23), a second radiation-permeable layer (22) is arranged containing an adhesion-improving material. The metal layer (23) is applied directly on the adhesion-improving material. The adhesion-improving material differs from the first dielectric material and is selected such that the adhesion on the metal layer (23) is improved over the adhesion on the first dielectric material.