Abstract:
Oberflächenmontierbares, optoelektronisches Halbleiterbauteil (1) mit- einer Montagefläche (10) an einer Bauteilunterseite,- einem um eine Ausnehmung (9) umlaufenden Gehäusegrundkörper (4), der einen Teil der Montagefläche (10) bildet,- mindestens zwei elektrischen Anschlussstücken (2a, 2b) je mit einer Anschlussstückoberseite (21) und einer dieser gegenüberliegenden Anschlussstückunterseite (20), sodass die Anschlussstückunterseiten (20) je einen Teil der Montagefläche (10) bilden und die elektrischen Anschlussstücke (2a, 2b) den Gehäusegrundkörper (4) lateral nicht überragen, wobei die Ausnehmung (9) bis zu den elektrischen Anschlussstücken (2a, 2b) reicht,- mindestens einem Strahlung emittierenden, optoelektronischen Halbleiterchip (3), der sich in der Ausnehmung (9) befindet, über die elektrischen Anschlussstücke (2a, 2b) elektrisch kontaktiert ist und vollständig auf der Anschlussstückoberseite (20) des größeren der elektrischen Anschlussstücke (2a, 2b) direkt mittels Löten oder Kleben aufgebracht ist und eine Lichtdurchtrittsfläche (30) des Halbleiterchips (3) dieser Anschlussstückoberseite (21) abgewandt ist, und- mindestens einem Abschirmkörper (5), der sich zwischen dem Halbleiterchip (3) und dem Gehäusegrundkörper (4) befindet, wobei der Abschirmkörper (5) eine vom Halbleiterchip (2) emittierte Strahlung vom Gehäusegrundkörper (4) abschirmt, wobei- in Richtung parallel zu den Anschlussstückunterseiten (20) die elektrischen Anschlussstücke (2a, 2b) ringsum von dem Gehäusegrundkörper (4) umgeben sind, sodass eine Gehäusegrundfläche (40) des Gehäusegrundkörpers (4) zusammen mit den Anschlussstückunterseiten (20) die Montagefläche (10) bildet und die Anschlussstückunterseiten (20) mindestens 75 % der Montagefläche (10) bilden, und- der Abschirmkörper (5) als geschlossener Ring ausgestaltet ist und in Draufsicht auf die Lichtdurchtrittsfläche (30) gesehen über jedes der elektrischen Anschlussstücke (2a, 2b) verläuft.
Abstract:
Es ist ein Halbleiterbauelement (100) mit einem strahlungsemittierenden Halbleiterchip (1), einem Trägersubstrat (2) und einer Folie (3) vorgesehen. Das Trägersubstrat (2) weist auf einer Oberseite (20) elektrisch leitfähige Kontaktbahnen (21a, 21b) auf. Die Folie (3) ist auf einer vom Trägersubstrat (2) abgewandten Strahlungsaustrittsseite (10) des Chips (1) und auf der Oberseite (20) des Trägersubstrats (2) angeordnet und weist elektrisch leitfähige erste Leiterbahnen (31a) auf. Zudem weist die Folie (3) Durchbrüche (32a, 32b) auf, die derart angeordnet sind, dass der Halbleiterchip (1) über die erste Leiterbahn (31a) der Folie (3) mit der ersten Kontaktbahn (21a) des Trägersubstrats (2) elektrisch kontaktierbar ist. Weiter ist ein Verfahren zur Herstellung eines derartigen Bauelements angegeben.
Abstract:
Es wird ein optoelektronisches Bauelement mit einem Licht emittierenden Chip und ein dem Licht emittierenden Chip seitlich umgebendes Gehäuse angegeben. Des Weiteren wird ein Verfahren zur Herstellung eines optoelektronischen Bauelements angegeben, bei dem ein flüssiges Gehäusematerial auf einem Substrat aufgebracht wird.
Abstract:
The invention relates to an optoelectronic semiconductor component comprising at least one optoelectronic semiconductor chip (1), which comprises a radiation passage surface (11), wherein the radiation passage surface (11) is formed on a main surface (10) of the semiconductor chip (1); a cover plate (2), which is fastened to the optoelectronic semiconductor chip (1) and spans the entire radiation passage surface (11) of the semiconductor chip (1), wherein the cover plate (2) laterally protrudes over the semiconductor chip (1); a contact point (3), which is fastened to the cover plate (2) on the side of the cover plate (2) facing the semiconductor chip (1); wherein the contact point (3) is connected in an electrically conductive manner to at least one connection point (13) of the semiconductor chip (1) by means of a connecting element (4); and the connection point (13) is arranged on the main surface (10) of the semiconductor chip (1).
Abstract:
Optoelectronic component (20) having a layer stack (10), comprising at least the following: a layer sequence constituting a semiconductor light emitting diode (5) and comprising at least a first light emitting diode layer (2), a second light emitting diode layer (4) and an optically active zone (3) between the first (2) and the second light emitting diode layer (4), wherein the two light emitting diode layers (2, 4) are in each case formed from a III-V semiconductor material containing in each case at least one of the elements aluminium, gallium and indium and in each case at least one of the elements nitrogen, phosphorus and arsenic, and wherein the first light emitting diode layer (2) is an n-doped layer and the second light emitting diode layer (4) is a p-doped layer, a silver-containing metallic layer (9) and an interlayer (8) composed of a transparent conductive oxide, which is arranged between the semiconductor light emitting diode (15) and the metallic layer (9), characterized in that the metallic layer (9) and the interlayer (8) are arranged on that side of the semiconductor light emitting diode (15) which the p-doped second light emitting diode layer (4) faces, and in that at least one highly doped first semiconductor layer (7), the dopant concentration of which is greater than the dopant concentration of the second light emitting diode layer (4), is arranged between the second light emitting diode layer (4) and the interlayer (8).
Abstract:
A luminescence diode chip has a semiconductor layer sequence suitable for generation of electromagnetic radiation, and at least one current barrier which is formed of semiconductor material of the epitaxial semiconductor layer sequence and of material of the current expansion layer and/or by a boundary surface between the semiconductor layer sequence and the current expansion layer. An independent claim is included for a method for fabricating a luminescence diode chip.
Abstract:
Semi-conductor unit has semi-conductor base (10) at least partly laid on a current expansion layer (3). Layer contains metal (1) which forms a transparent conductive metal oxide (2). The concentration of metal decreases moving from the side of the expansion layer facing the semi-conductor base to the side of the layer turned away from the semi-conductor base. Method to make semi-conductor part involves firstly putting on metal layer on the base, secondly putting on a metal oxide on the metal layer and lastly heat treating the layers to produce the current expansion layer.
Abstract:
Es wird ein Verfahren zur Herstellung mindestens eines strahlungsemittierenden und/oder -empfangenden Halbleiterbauteils (100) angegeben. Bei einem Verfahrensschritt wird ein Trägerkörper (1) mit einer Montagefläche (101) bereitgestellt. Bei einen weiteren Verfahrensschritt wird ein Barriererahmen (6) auf der Montagefläche (101) ausgebildet, derart dass der Barriererahmen (6) einen Montagebereich (110) der Montagefläche (101) lateral umschließt. Bei einem weiteren Verfahrensschritt wird ein strahlungsemittierender und/oder -empfangender Halbleiterchip (4) innerhalb des Montagebereichs (110) auf der Montagefläche (101) montiert. Der Halbleiterchip (4) wird mit einem flüssigen Linsenmaterial vergossen, wobei das Linsenmaterial (7) innerhalb des Montagebereichs (110) auf die Montagefläche (101) aufgebracht wird. Das Linsenmaterial (7) wird gehärtet. Dabei sind die Montagefläche (101), der Barriererahmen (6) und das Linsenmaterial (7) derart aneinander angepasst, dass die Montagefläche (101) innerhalb des Montagebereichs (110) von dem Linsenmaterial (7) benetzbar und der Barriererahmen (6) von dem Linsenmaterial (7) nicht benetzbar ist, so dass sich das Linsenmaterial (7) beim Aufbringen auf die Montagefläche (101) zu einem zumindest stellenweise von dem Barriererahmen (6) begrenzten Tropfen mit konvexer Außenfläche formt und den Barriererahmen (6) frei lässt. Weiterhin wird ein Halbleiterbauteil (100) angegeben.