Verfahren zum Herstellen eines optoelektronischen Bauelements

    公开(公告)号:DE102015116092A1

    公开(公告)日:2017-03-23

    申请号:DE102015116092

    申请日:2015-09-23

    Abstract: Ein Verfahren zum Herstellen eines optoelektronischen Bauelements umfasst Schritte zum Bereitstellen eines Trägers mit einer Oberseite, zum Anlegen eines gegenüber einem Montagebereich der Oberseite vertieften Bereichs an der Oberseite des Trägers, wobei zwischen dem Montagebereich und dem vertieften Bereich eine Stufe ausgebildet wird, zum Anordnen einer sich über den Montagebereich und den vertieften Bereich erstreckenden Metallisierung an der Oberseite des Trägers, zum Anlegen einer Trennspur in der Metallisierung, wobei die Metallisierung in dem Montagebereich zumindest abschnittsweise vollständig durchtrennt wird und in dem vertieften Bereich zumindest nicht vollständig durchtrennt wird, und zum Anordnen eines optoelektronischen Halbleiterchips über dem Montagebereich der Oberseite, wobei der optoelektronische Halbleiterchip an der Trennspur ausgerichtet wird.

    OPTOELEKTRONISCHER HALBLEITERCHIP UND BAUTEIL

    公开(公告)号:DE102021113856A1

    公开(公告)日:2022-12-01

    申请号:DE102021113856

    申请日:2021-05-28

    Abstract: In mindestens einer Ausführungsform umfasst der optoelektronische Halbleiterchip (1):- einen Träger (2),- eine Halbleiterschichtenfolge (3) an dem Träger (2) mit mindestens einer aktive Zone (33) zur Erzeugung einer Strahlung (R),- eine optisch hochbrechende Schicht (4) an einer Auskoppelfacette (34) der Halbleiterschichtenfolge (3) zur Strahlungsauskopplung, und- eine optisch niedrigbrechende Beschichtung (5) direkt an einer Außenseite (45) der hochbrechenden Schicht (4) zur Totalreflexion der Strahlung (R),wobei- die Halbleiterschichtenfolge (3) dazu eingerichtet ist, die Strahlung (R) in der aktiven Zone (33) senkrecht zu einer Wachstumsrichtung (G) der Halbleiterschichtenfolge (3) zu führen, und- die hochbrechenden Schicht (4) dazu eingerichtet ist, die Strahlung (R) an der Außenseite (45) parallel zur Wachstumsrichtung (G) umzulenken.

    Anordnung
    5.
    发明专利

    公开(公告)号:DE102015109788A1

    公开(公告)日:2016-12-22

    申请号:DE102015109788

    申请日:2015-06-18

    Abstract: Die Erfindung betrifft eine Anordnung mit wenigstens einem optoelektronischen Halbleiterbauelement und einer Wärmesenke, wobei das optoelektronische Halbleiterbauelement auf der Wärmesenke angeordnet ist, wobei die Wärmesenke ausgebildet ist, Wärme aus dem optoelektronischen Halbleiterbauelement abzuführen. Die Wärmesenke weist einen Werkstoff auf, wobei der Werkstoff der Wärmesenke elektrisch leitend und thermisch leitend ist. Der Werkstoff der Wärmesenke weist Aluminium und Silizium auf.

    Projektionsvorrichtung und Verfahren zur Erzeugung eines Projektionsbildes

    公开(公告)号:DE102014108905A1

    公开(公告)日:2015-12-31

    申请号:DE102014108905

    申请日:2014-06-25

    Abstract: Es wird eine Projektionsvorrichtung (1) zur Erzeugung eines Projektionslaserstrahls (2), der eine sichtbare Laserstrahlung umfasst (211, 212, 213), angegeben, mit – einer Lichtquelle (10), die die sichtbare Laserstrahlung (211, 212, 213) emittiert, – einer abbildenden Vorrichtung (14), die dazu eingerichtet ist, mittels einer Änderung der Ausbreitungsrichtung (α1, α2) des Projektionslaserstrahls (2) ein Projektionsbild (32) auf einer Projektionsfläche (3) zu erzeugen, – zumindest einer Fotodiode (12), die dazu eingerichtet ist, unterschiedliche Reflexionsstrahlen (4), die einen Teil des an der Projektionsfläche (3) zu unterschiedlichen Projektionszeiten (t1, t2) und/oder in unterschiedlichen Reflexionsbereichen (411, 412) des Projektionsbildes (32) reflektierten Projektionsstrahl (4) umfassen, zu detektieren und entsprechende Fotodiodensignale (121) zu erzeugen, und – eine elektronische Kontrolleinheit (13), die dazu eingerichtet ist, die abbildende Vorrichtung (4) und/oder die Lichtquelle in Abhängigkeit von den Fotodiodensignalen (121) mittels Steuersignalen (133) anzusteuern.

    HALBLEITERLASER UND OPTOELEKTRONISCHES HALBLEITERKONVERTERELEMENT

    公开(公告)号:DE102021113016A1

    公开(公告)日:2022-11-24

    申请号:DE102021113016

    申请日:2021-05-19

    Abstract: Ein Halbleiterlaser (10) umfasst eine Halbleiterschichtanordnung (112), die eine aktive Zone (115) zur Strahlungserzeugung aufweist, einen ersten Resonatorspiegel (125), einen zweiten Resonatorspiegel (130) und einen zwischen dem ersten und dem zweiten Resonatorspiegel (125, 130) angeordneten optischen Resonator (105), der sich in einer Richtung parallel zu einer Hauptoberfläche (101) der Halbleiterschichtanordnung (112) erstreckt. Seitliche Begrenzungsflächen (103) der Halbleiterschichtanordnung (112) verlaufen schräg, so dass eine Reflexion von erzeugter elektromagnetischer Strahlung (15) in Richtung der ersten Hauptoberfläche (101) der Halbleiterschichtanordnung (112) erfolgt. Der erste und der zweite Resonatorspiegel (125, 130) sind über der ersten Hauptoberfläche (101) der Halbleiterschichtanordnung (112) angeordnet. Der Halbleiterlaser (10) weist ferner ein Konverterelement (135, 225) über einer von der Halbleiterschichtanordnung (112) abgewandten Seite des ersten Resonatorspiegels (125) auf.

    Verfahren zum Herstellen eines optoelektronischen Bauelements

    公开(公告)号:DE102015116092B4

    公开(公告)日:2018-06-14

    申请号:DE102015116092

    申请日:2015-09-23

    Abstract: Verfahren zum Herstellen eines optoelektronischen Bauelements (100) mit den folgenden Schritten:- Bereitstellen eines Trägers (200) mit einer Oberseite (201) ;- Anlegen eines gegenüber einem Montagebereich (210) der Oberseite (201) vertieften Bereichs (220) an der Oberseite (201) des Trägers (200), wobei zwischen dem Montagebereich (210) und dem vertieften Bereich (220) eine Stufe (230) ausgebildet wird;- Anordnen einer sich über den Montagebereich (210) und den vertieften Bereich (220) erstreckenden Metallisierung (250) an der Oberseite (201) des Trägers (200);- Anlegen einer Trennspur (270) in der Metallisierung (250), wobei die Metallisierung (250) in dem Montagebereich (210) zumindest abschnittsweise vollständig durchtrennt wird und in dem vertieften Bereich (220) zumindest nicht vollständig durchtrennt wird;- Anordnen eines optoelektronischen Halbleiterchips (110) über dem Montagebereich (210) der Oberseite (201), wobei der optoelektronische Halbleiterchip (110) an der Trennspur (270) ausgerichtet wird.

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