电容器
    11.
    发明公开

    公开(公告)号:CN112542314A

    公开(公告)日:2021-03-23

    申请号:CN202010914347.2

    申请日:2020-09-03

    Abstract: 本发明的实施方式涉及电容器。提供一种能够实现较大的电容量且不易产生翘曲的电容器。实施方式的电容器具备:导电基板(CS),具有第一主面与第二主面,所述第一主面包含多个副区域(A1a、A1b),在所述多个副区域(A1a、A1b)的各个设置分别具有沿一个方向延伸的形状且在宽度方向上排列的多个凹部(TR1a、TR1b)或凸部(WM1a、WM1b),所述多个副区域的一个以上(A1a)与所述多个副区域的其他一个以上(A1b)的所述多个凹部或凸部的长度方向不同;导电层,覆盖所述多个凹部的侧壁及底面或者所述多个凸部的侧壁及上表面;以及电介质层,夹设于所述导电基板与所述导电层之间。

    电容器及电容器模块
    12.
    发明公开

    公开(公告)号:CN111540603A

    公开(公告)日:2020-08-14

    申请号:CN202010082333.9

    申请日:2020-02-07

    Abstract: 提供能够容易地增大平均设置面积的电容的技术。实施方式的电容器(1)具备:导电基板,具有第1主面、第2主面及从上述第1主面的边缘一直延伸到上述第2主面的边缘为止的端面,在上述第1主面上设置有1个以上的凹部;导电层,将上述第1主面和上述1个以上的凹部的侧壁及底面覆盖;电介质层,夹在上述导电基板与上述导电层之间;第1外部电极(70c),包括与上述端面对置的第1电极部(70c3),与上述导电层电连接;及第2外部电极(70d),包括与上述端面对置的第2电极部(70d3),与上述导电基板电连接。

    蚀刻方法、半导体芯片的制造方法及物品的制造方法

    公开(公告)号:CN107665820A

    公开(公告)日:2018-02-06

    申请号:CN201710505113.0

    申请日:2017-06-28

    Abstract: 本发明的实施方式涉及蚀刻方法、半导体芯片的制造方法及物品的制造方法。提供难以产生针状残留部的蚀刻方法。实施方式的蚀刻方法包括以下步骤:在由半导体形成的表面上形成由贵金属形成的催化剂层(6),所述催化剂层(6)包含将上述表面至少部分地被覆的第1部分(4)、和位于第1部分(4)上且与上述第1部分(4)相比表观上的密度较小、且较厚的第2部分(5);和向上述催化剂层(6)供给蚀刻剂(7),基于上述催化剂层(6)的作为催化剂的作用,对上述表面进行蚀刻。

    半导体发光器件
    16.
    发明公开

    公开(公告)号:CN102881811A

    公开(公告)日:2013-01-16

    申请号:CN201210241739.2

    申请日:2012-07-12

    Abstract: 根据一实施例,半导体发光器件包括叠置体、第一电极、第二电极、反射层、第一金属柱、第二金属柱以及密封单元。所述叠置体包括第一和第二半导体层以及发光单元。所述发光单元设置在第二部分和第二半导体层之间。所述第一电极设置在所述第一半导体层上。所述第二电极设置在所述第二半导体层上。所述反射层覆盖所述叠置体的侧表面,并且所述反射层是绝缘的和反射的。所述第一金属柱电连接至所述第一电极。所述第二金属柱电连接至所述第二电极。所述密封单元密封所述第一金属柱和所述第二金属柱,使得所述第一金属柱的端部和所述第二金属柱的端部被暴露。

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