公开(公告)号：KR100485442B1

公开(公告)日：2005-04-27

申请号：KR1020020029796

申请日：2002-05-29

Applicant: 한국전자통신연구원

Inventor： 임을균 ,  곽창수 ,  정해빈 ,  김대용 ,  안치득

IPC: G03B35/00

Abstract: 본 발명은 하나의 카메라와 광학 어댑터, 컴퓨터를 사용하여 기존의 단안식 입체 카메라로 동영상 또는 정지 영상을 얻을 때 문제가 되는 가로와 세로간의 비가 달라짐으로 인해 생기는 해상력의 손실 문제와 상의 왜곡으로 인한 문제를 개선하기 위한 것으로, 바이프리즘을 사용하여 바이프리즘의 각 부분에 의해서 빛이 꺾이는 방향이 달라지는 것을 이용하여 좌측상과 우측상을 분리해내며, 해상력의 손실을 최소화하기 위하여 복수의 실린드리컬 렌즈로 구성되는 아나모픽 광학계를 바이프리즘의 앞에 설치하여 수평방향의 시계각을 확장해주는 방법을 사용하고, 이로 인해 입체상을 재생할 때 생기는 영상신호가 없는 화소에 대해서는 인접한 두 화소의 가중 평균값으로 보간하며, 바이프리즘의 사용으로 인해 좌측상과 우측상에 서로 반대방향으� �� 왜곡이 발생하는 현상을 프로그램을 사용하여 보정함으로써 상의 왜곡 현상을 감소시킬 수 있는 일안식 입체 카메라 및 이를 이용한 입체 영상 시스템을 제공한다.

公开(公告)号：KR100312163B1

公开(公告)日：2001-11-03

申请号：KR1019990011744

申请日：1999-04-03

Applicant: 한국전자통신연구원

Inventor： 최상수 ,  이진호 ,  정해빈 ,  조경익

IPC: H01L21/027

Abstract: 본발명은 FED(field emission display) 팁(tip) 형성에필요한규칙적인배열을갖는미세패턴을제작하기위한마스크의구조및 그것을제작하는기술에관한것이다. FED 팁을형성하는데필요한 0.35 um 이하의규칙적인배열을갖는미세패턴을형성하려할 때, 일반적인자외선즉 G-line(436 nm)이나 I-line(365 nm,) 스텝퍼를사용해서는광의회절과간섭때문에매우어려워 KrF laser나 ArF laser 광을사용하는스텝퍼를사용해야한다. 그러나이것들은모두고가의노광장비라생산성을맞추기가매우어렵다. 그러나본 특허에서제안하는마스크를사용하면 FED 팁을제작하는데필요한 0.15 ~ 0.35 um까지의규칙적인배열을갖는미세패턴을 G-line(436 nm)이나 I-line(365 nm)을사용하여제작할수 있다. 제안된마스크는 Qz 기판과생성된패턴사이에 180 도위상변환을통해노광강도(intensity)가영(zero)이되는것을이용한다. 본발명은 FED 팁패턴을형성하는마스크부위에는노광광을차단하는 Cr과같은물질이없는마스크구조와제작방법을제안한다.

公开(公告)号：KR1020010053689A

公开(公告)日：2001-07-02

申请号：KR1019990054156

申请日：1999-12-01

Applicant: 한국전자통신연구원

Inventor： 김도훈 ,  정해빈 ,  김대용

IPC: H01L21/027

Abstract: PURPOSE: A modified illumination apparatus of a lithography apparatus is provided to form a modified illumination light without energy loss of the illumination light. CONSTITUTION: If a birefringent optical unit(566) is inserted between a light beam enlarger(565) and a zoom lens(567), an incident light(564) is separated into four beams(575), and the four separated beams forms a quadruple modified illumination light(569) on a position of a modified illumination plane located on a Fly's Eye integrator(568). Also, the position of the birefringent optical unit can be located between an illumination light source(563) and the light beam enlarger. The quadruple modified illumination light is reflected by a reflection mirror(570) and is converged to a mask via a condenser lens(571), and can be transferred to a wafer(574) by a transparent optical system(573).

Abstract translation: 目的：提供光刻设备的改进的照明装置，以形成照明光的能量损失的改进的照明光。 构成：如果将双折射光学单元（566）插入在光束放大器（565）和变焦透镜（567）之间，入射光（564）被分成四个光束（575），并且四个分离的光束形成 位于Fly Eye集成器（568）上的改进的照明平面的位置处的四倍修正的照明光（569）。 此外，双折射光学单元的位置可以位于照明光源（563）和光束放大器之间。 四重改型的照明光被反射镜570反射，并通过聚光透镜571会聚到掩模，并可通过透明光学系统（573）传送到晶片574。

公开(公告)号：KR100276081B1

公开(公告)日：2001-02-01

申请号：KR1019970054786

申请日：1997-10-24

Applicant: 한국전자통신연구원

Inventor： 김종수 ,  최상수 ,  정해빈 ,  유형준 ,  이각현 ,  김도훈

IPC: G02B1/10 ,  G02B5/04 ,  G02B27/28

Abstract: PURPOSE: A polarizing beam splitter for two wavelengths and a method for fabricating the same are provided to reflect a S-wave and transmit a P-wave by depositing alternately a material having a high refractive index and a material having a low refractive index on an inclined plane of a prism. CONSTITUTION: A reticle(1) is used for receiving an ArF excimer laser with a wavelength of 193nm. A couple of rectangular prism(4,8) is used for transmitting the ArF excimer laser through the reticle(1). A multi-coating layer(5) is formed on each inclined plane of the rectangular prisms(4,8). A plurality of 1/4 wavelength plate(6,9) is used for changing a wavelength of the laser beam reflected by the multi-coating layer(5). A reflective mirror(7) is used for reflecting the laser beam transmitting the 1/4 wavelength plate(6). The laser beam reflected by the reflective mirror(7) is focused on a wafer(10).

Abstract translation: 目的：提供一种用于两个波长的偏振分束器及其制造方法，用于反射S波并通过将具有高折射率的材料和具有低折射率的材料交替沉积在 棱镜的倾斜平面。 构成：将掩模版（1）用于接收波长为193nm的ArF准分子激光器。 一对矩形棱镜（4,8）用于通过光罩（1）传送ArF准分子激光器。 在矩形棱镜（4,8）的每个倾斜平面上形成多层涂层（5）。 多个1/4波长板（6,9）用于改变由多层涂层（5）反射的激光束的波长。 反射镜（7）用于反射透射1/4波长板（6）的激光束。 由反射镜（7）反射的激光束聚焦在晶片（10）上。

公开(公告)号：KR100269244B1

公开(公告)日：2000-12-01

申请号：KR1019980019516

申请日：1998-05-28

Applicant: 한국전자통신연구원

Inventor： 김도훈 ,  이각현 ,  최상수 ,  정해빈 ,  김보우

IPC: H01L21/027

CPC classification number: G02B27/0075 ,  G02B5/3083 ,  G03F7/70216

Abstract: PURPOSE: A method for extending depth of focus of an optical system for lithographic equipment using transmission-type optical parts made of a double refraction material is provided to extend a range of an image in a direction of an optical axis, by making the image located in different positions have a predetermined interval in an optical axial direction depending on a polarization component of illumination light. CONSTITUTION: An optical system uses transmission-type double refraction optical parts(210) made of a double refraction material or a double refraction optical unit composed of the optical parts. An image by the double refraction optical unit(200) is focused in different positions and in a direction of an optical axis of the optical system to extend depth of focus, depending on a polarization component of illumination light(20).

Abstract translation: 目的：提供使用由双折射材料制成的透射型光学部件的用于光刻设备的光学系统的焦点深度的方法，以通过使图像位于图像的方向上延伸图像的范围 在不同的位置上，根据照明光的偏振分量，在光轴方向上具有规定的间隔。 构成：光学系统使用由双折射材料制成的透射型双折射光学部件（210）或由光学部件组成的双折射光学单元。 通过双折射光学单元（200）的图像被聚焦在光学系统的光轴的不同位置和方向上，以根据照明光（20）的偏振分量来延长焦深。

公开(公告)号：KR1020000065562A

公开(公告)日：2000-11-15

申请号：KR1019990011966

申请日：1999-04-07

Applicant: 한국전자통신연구원

Inventor： 이각현 ,  김도훈 ,  최상수 ,  정해빈 ,  조경익

IPC: G03F7/207

CPC classification number: G03F7/70191 ,  G02B17/08 ,  G02B27/0075 ,  G03F7/70341 ,  G03F7/70775 ,  G03F7/7085

Abstract: PURPOSE: A method for controlling an extension scope of a focus depth in an optical system using a double refraction material is provided to extend a depth of a focus by having an image of the optical system focused in different positions in an optical axis direction, and to control a position of the image by a simple manipulation of optical parts in the optical system. CONSTITUTION: In an optical system of an exposure equipment for forming a fine shape by focusing an image of an original mask on a photoresist layer applied on a substrate, parts forming the optical system is composed of penetrating optical parts made of a double refraction material or an optical unit composed of a combination of the penetrating optical parts. A depth of a focus is extended by having the image focused in different positions in an optical axis direction. And, the scope of the focus is controlled and maintained.

Abstract translation: 目的：提供一种用于控制使用双折射材料的光学系统中的聚焦深度的扩展范围的方法，以通过使光学系统的图像在光轴方向上聚焦在不同位置来延长焦点的深度，以及 以通过简单地操纵光学系统中的光学部件来控制图像的位置。 构成：在用于通过将原始掩模的图像聚焦在施加在基板上的光致抗蚀剂层上形成微细形状的曝光设备的光学系统中，形成光学系统的部件由穿透光学部件组成，由双折射材料制成， 由穿透光学部件的组合构成的光学单元。 通过使图像在光轴方向上聚焦在不同位置来扩大焦点的深度。 并且，重点的范围得到控制和维护。

公开(公告)号：KR1020000037779A

公开(公告)日：2000-07-05

申请号：KR1019980052528

申请日：1998-12-02

Applicant: 한국전자통신연구원

Inventor： 최상수 ,  차한선 ,  김종수 ,  이각현 ,  김도훈 ,  정해빈 ,  조경익

IPC: H01L21/027

Abstract: PURPOSE: A method for manufacturing a diaphragm for an exposure equipment is provided to maintain the resolution and improve the light transmitting degree. CONSTITUTION: A first resist pattern is formed in a selected area on a substrate. A first optical shielding material is formed on the substrate, which includes the first resist pattern. After the first resist pattern is removed, a second resist is formed on the structure. Then, the central portion of the second resist is removed. After a second optical shielding material is formed on the structure, the second resist is removed.

Abstract translation: 目的：提供一种用于制造用于曝光设备的隔膜的方法以保持分辨率并提高透光度。 构成：在衬底上的选定区域中形成第一抗蚀剂图案。 第一光屏蔽材料形成在包括第一抗蚀剂图案的基板上。 在去除第一抗蚀剂图案之后，在结构上形成第二抗蚀剂。 然后，除去第二抗蚀剂的中心部分。 在结构上形成第二光屏蔽材料之后，去除第二抗蚀剂。

公开(公告)号：KR1020000002824A

公开(公告)日：2000-01-15

申请号：KR1019980023758

申请日：1998-06-23

Applicant: 한국전자통신연구원

Inventor： 손영준 ,  김도훈 ,  정해빈 ,  박흥옥 ,  김보우

IPC: H01L21/027

Abstract: PURPOSE: A wafer or reticle aligning method is provided to align the wafer or the reticle in an exposing equipment by measuring the horizontal, vertical and revolving errors of the aligning mark. CONSTITUTION: The wafer or reticle aligning method comprises the steps of: marking the aligning marks more than two on the wafer or the reticle; dividing the wafer or the reticle into the two spaces and making each part of the aligning mark existed in each space having the different area or shape from each other; moving the relative position of the aligning ray; and aligning the relative position of the wafer or the reticle by using the time interval between the aligning signals and the relative intensity strength of the aligning signals.

Abstract translation: 目的：提供晶片或掩模版对准方法，通过测量对准标记的水平，垂直和旋转误差来将晶片或掩模版对准曝光设备。 构成：晶片或掩模版对准方法包括以下步骤：在晶片或掩模版上标记两个以上的对准标记; 将晶片或掩模版分成两个空间，并使对准标记的每个部分存在于彼此不同的区域或形状的每个空间中; 移动对准射线的相对位置; 并且通过使用对准信号之间的时间间隔和对准信号的相对强度强度来对准晶片或掩模版的相对位置。

公开(公告)号：KR100211068B1

公开(公告)日：1999-07-15

申请号：KR1019960069278

申请日：1996-12-20

Applicant: 한국전자통신연구원

Inventor： 이각현 ,  김도훈 ,  정해빈 ,  유형준

IPC: G02B27/10

Abstract: 1. 청구범위에 기재된 발명이 속한 기술분야
광학계용 비접촉식 렌즈 정점 위치 및 기울기 측정장치
2. 발명이 해결하려고 하는 기술적 과제
단 렌즈의 위치와 기울기 오차를 비접촉식으로 효과적으로 측정하며, 상기 오차를 보상할 수 있는 수단을 제공하고자 함.
3. 발명의 해결 방법의 요지
장치 하부에 배치되어 빛을 방출하는 광원; 상기 광원의 빛을 집속시켜 광학계 상부에 정렬된 단렌즈 표면에 결상시키는 대물렌즈; 상기 대물렌즈와 상기 광원 사이에 배치되며, 두개의 프리즘으로 구성되어, 반사된 상기 단렌즈 표면의 상기 결상을 단렌즈의 광축과 직각 방향으로 전환시켜 조사하는 광속분할기; 상기 광속분할기로부터 조사된 광 결상의 광량 및 위치를 측정하는 검지부; 상기 구성품을 소정 위치에 지지 고정하는 가대; 및 상기 가대에 연결되어 그의 상하 변위를 측정하는 거리 측정부를 포함하여 이루어진 광학계용 렌즈 정점 위치 및 기울기 측정장치를 제공한다.
4. 발명의 중요한 용도
상기와 같이 구성된 본 발명은 다수의 렌즈로 구성된 정밀 광학계의 조립에 용이하게 적용될 수 있으며, 구성 렌즈와 접촉 없이도 상기 렌즈들의 정점 위치 및 기울기를 효율적으로 측정할 수가 있다.

公开(公告)号：KR100205064B1

公开(公告)日：1999-06-15

申请号：KR1019950052643

申请日：1995-12-20

Applicant: 한국전자통신연구원

Inventor： 김도훈 ,  이각현 ,  정해빈 ,  유형준

IPC: H01L21/027

Abstract: 본 발명은 차광부를 지닌 리소그래피 광학계용 웨이퍼 자동촛점장치 및 자동촛점방법에 관한 것이다. 본 발명의 웨이퍼 자동촛점장치는 주 광학계(110) 내부에 존재하는 차광영역(102)에 TTL방식으로 배치되고 편광 광분할기(103), λ/4 판(104,105) 및 반사거울(106)로 이루어진 광학소자와; 주 광학계(101)의 외부에 배치되고 두개의 주파수가 상호직각 편광성분으로 이루어진 지만 레이저광을 방출하는 지만 레이저(107)와; 전기한 지만 레이저(17)로부터 방출된 지만 레이저 광을 분할하기 위한 광분할기(108)와; 전기한 광분할기(108)에 의해 분할되어 선편광자(109)를 거쳐 광검출기(110)에 의해 검출된 기준신호(111)와, 전기한 광분할기(108)에 의해 분할되어 주 광학계(101) 내부로 입사된 레이저광이 전기한 광학소자를 거쳐 광검출기(110)에 의해 검출된 기준신호(111)와, 전기한 광분할기(108)에 의해 분할되어 주 광학계(101) 내부로 입사된 레이저광이 전기한 광학소자를 거쳐 웨이퍼(120)에서 반사된 반사광 및 전기한 광학소자의 반사거울(106)에서 반사된 기준광이 선편광자(109)를 거쳐 광검출기(110)에 의해 검출된 웨이퍼 위치신호(112)를 레이저 간섭계를 통한 웨이퍼의 거리를 적절한 신호처리 회로를 통해 읽어냄으로써 초점 벗어남을 비교계산하여 웨이퍼 위치정보를 출력하기 위한 신호처리계(113) 및 주연산기(114); 및 전기한 신호처리계(113) 및 주연산기(114)로부터의 웨이퍼 위치정보에 따라 웨이퍼 스테이지(121)를 구동하여 웨이퍼(120)를 주 광학계(101)의 촛점심도 내에 위치시키기 위한 스테이지 제어기(115)로 구성된다.