公开(公告)号：ES2466821T3

公开(公告)日：2014-06-11

申请号：ES11702847

申请日：2011-02-14

Applicant: BASF SE

Inventor： NOLLER BASTIAN ,  SCHWALM REINHOLD ,  RÖSCH CHRISTINE ,  BREINER THOMAS ,  STUMBE JEAN-FRANCOIS ,  HAAF CHRISTINA

IPC: C08G12/40 ,  C08G12/42

Abstract: Procedimiento para la producción de resinas aminoplásticas que portan grupos sililo, caracterizado porque - en una primera etapa se eterifica o transeterifica al menos una resina aminoplástica opcionalmente eterificada (A) con al menos un alcohol insaturado (B) que porta al menos un doble enlace C>=C y al menos un grupo hidroxilo, y - a continuación se adiciona a al menos una parte de los dobles enlaces C>=C así unidos a la resina aminoplástica mediante una hidrosililación al menos un compuesto de silano (C) que porta al menos un enlace Si-H.

公开(公告)号：SG10201506215WA

公开(公告)日：2015-09-29

申请号：SG10201506215W

申请日：2011-09-06

Applicant: BASF SE

Inventor： NOLLER BASTIAN ,  FRANZ DIANA ,  LI YUZHUO ,  USMAN IBRAHIM SHEIK ANSAR ,  PINDER HARVEY WAYNE ,  VENKATARAMAN SHYAM SUNDAR

Abstract: An aqueous polishing composition comprising (A) at least one water-soluble or water-dispersible compound selected from the group consisting of N-substituted diazenium dioxides and N'-hydroxy-diazenium oxide salts; and (B) at least one type of abrasive particles; the use of the compounds (A) for manufacturing electrical, mechanical and optical devices and a process for polishing substrate materials for electrical, mechanical and optical devices making use of the aqueous polishing composition.

公开(公告)号：RU2608890C2

公开(公告)日：2017-01-26

申请号：RU2013115236

申请日：2011-09-06

Applicant: BASF SE

Inventor： NOLLER BASTIAN ,  FRANTS DIANA ,  LI YUZHUO ,  USMAN IBRAKHIM SHEJK ANSAR ,  PINDER KHARVI UEJN ,  VENKATARAMAN SHIAM SUNDAR

IPC: C09G1/02 ,  A01N51/00 ,  C09G1/04

Abstract: Изобретениеотноситсяк воднымполирующимкомпозициямдляполированияматериаловподложекэлектрических, высокойточностимеханическихи оптическихустройств. Воднаяполирующаякомпозициясодержит (A) поменьшеймереоднорастворимоев водеилидиспергируемоев водесоединение, выбранноеизсолей N-замещенных N'-гидрокси-диазений-оксидов, и (В) абразивныечастицы, содержащиеоксидцерияилисостоящиеизнего. Описываетсятакжеспособполированияматериаловдодостиженияжелательнойплоскостностис использованиемуказаннойкомпозиции. Предложеннаяполирующаякомпозицияобеспечиваетповышеннуюоксид/нитрид-селективностьи улучшеннуюглобальнуюи локальнуюплоскостностьотполированныхматериаловэлектрических, механическихи оптическихустройств. 3 н. и 6 з. п. ф-лы, 2 табл., 6 пр.

公开(公告)号：SG188459A1

公开(公告)日：2013-04-30

申请号：SG2013017256

申请日：2011-09-06

Applicant: BASF SE

Inventor： NOLLER BASTIAN ,  FRANZ DIANA ,  LI YUZHUO ,  USMAN IBRAHIM SHEIK ANSAR ,  PINDER HARVEY WAYNE ,  VENKATARAMAN SHYAM SUNDAR

Abstract: An aqueous polishing composition comprising (A) at least one water-soluble or water-dispersible compound selected from the group consisting of N-substituted diazenium dioxides and N'-hydroxy-diazenium oxide salts; and (B) at least one type of abrasive particles; the use of the compounds (A) for manufacturing electrical, mechanical and optical devices and a process for polishing substrate materials for electrical, mechanical and optical devices making use of the aqueous polishing composition.

公开(公告)号：EP2614122A4

公开(公告)日：2014-01-15

申请号：EP11823140

申请日：2011-09-06

Applicant: BASF SE

Inventor： NOLLER BASTIAN ,  FRANZ DIANA ,  LI YUZHUO ,  USMAN IBRAHIM SHEIK ANSAR ,  PINDER HARVEY WAYNE ,  VENKATARAMAN SHYAM SUNDAR

IPC: C09G1/02 ,  H01L21/3105

CPC classification number: C09K13/00 ,  C09G1/02 ,  C09K3/1463 ,  H01L21/31053

公开(公告)号：EP2688966A4

公开(公告)日：2014-11-12

申请号：EP12760432

申请日：2012-03-19

Applicant: BASF SE

Inventor： NOLLER BASTIAN ,  LAUTER MICHAEL ,  SUGIHARTO ALBERT BUDIMAN ,  LI YUZHUO ,  RUSHING KENNETH ,  FRANZ DIANA ,  BÖHN ROLAND ,  GAO NING

IPC: C09G1/02 ,  H01L21/321

CPC classification number: H01L21/3212 ,  C09G1/02 ,  C09G1/04 ,  C09K3/1463 ,  H01L21/30625