公开(公告)号：KR101042666B1

公开(公告)日：2011-06-20

申请号：KR1020070057770

申请日：2007-06-13

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 난바히로미츠 ,  이토노리히로

IPC: H01L21/02 ,  H01L21/304

CPC classification number: H01L21/67051 ,  G03F7/162 ,  H01L21/6708 ,  H01L21/6715 ,  H01L21/68728 ,  H01L21/68735

Abstract: 액 처리 장치는 기판(W)을 수평으로 유지하며, 기판과 함께 회전 가능한 기판 유지부(2)와, 기판 유지부에 유지된 기판을 둘러싸도록 환형을 이루며, 기판과 함께 회전 가능한 환형을 이루는 회전컵(4)과, 회전컵 및 기판 유지부를 일체적으로 회전시키는 회전 기구(3)와, 기판에 처리액을 공급하는 액 공급 기구(5)를 구비한다. 액 처리 장치는 또한, 회전컵에 대응한 환형을 이루며, 회전컵으로부터 배출된 처리액을 수용하고, 수용된 처리액을 배액하는 배액구(60)를 갖는 배액컵(51)과, 회전컵 및 기판 유지부를 회전시킬 때에, 배액컵 내에 선회류를 형성하며, 그 선회류에 수반된 배액컵 내의 처리액을 배액구로 유도하는 선회류 형성 부재(32a)를 구비한다.

公开(公告)号：KR1020110065340A

公开(公告)日：2011-06-15

申请号：KR1020100118159

申请日：2010-11-25

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 이토노리히로 ,  구도히로유키

IPC: H01L21/302

CPC classification number: H01L21/67017

Abstract: PURPOSE: A substrate processing apparatus, a substrate processing method, a recording media for a program implementing the method are provided to maintain the accuracy of the flow rate when processing liquid is supplied into processing units and integrates components for a flow rate controlling unit. CONSTITUTION: A processing liquid supplying part(70) supplies processing liquid to a supplying flow path(68a). A flow rate controlling unit(131) controls the flow rate of the supplying flow path. The flow rate controlling unit includes a flow rate measuring part(132), a flow rate controlling valves(133), a flow rate setting value and flow rate controlling part(134). A converting unit implements a converting operation between a first flow path(68c) and a second flow path(68d).

Abstract translation: 目的：提供一种基板处理装置，基板处理方法，用于执行该方法的程序的记录介质，以在将处理液体供应到处理单元中时保持流量的精度并且对流量控制单元进行积分。 构成：处理液供给部（70）向供给流路（68a）供给处理液。 流量控制单元（131）控制供给流路的流量。 流量控制单元包括流量测量部（132），流量控制阀（133），流量设定值和流量控制部（134）。 转换单元在第一流路（68c）和第二流路（68d）之间实现转换操作。

公开(公告)号：KR1020070103314A

公开(公告)日：2007-10-23

申请号：KR1020070037458

申请日：2007-04-17

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 가네코사토시 ,  마츠모토가즈히사 ,  이토노리히로 ,  아키모토마사미 ,  도시마다카유키 ,  난바히로미츠

IPC: H01L21/304

CPC classification number: H01L21/67051 ,  H01L21/6715 ,  H01L21/68728 ,  Y10S134/902

Abstract: An apparatus for treating liquid is provided to prevent a mist of treatment liquid from scattering by using a rotating cup to rotate with a substrate. An apparatus for treating liquid includes a substrate holding unit(1), a rotating cup(3), a rotating device, a liquid feed device, an exhausting unit(8), and a guiding member. The substrate holding unit(1) holds horizontally a substrate and rotates with the substrate. The rotating cup(3) encloses the substrate and rotates with the substrate. The rotating device rotates the rotating cup(3) and the substrate holding unit(1) entirely. The liquid feed device supplies treatment liquid to a surface of the substrate. The exhausting unit(8) discharges gas and liquid from the rotating cub(3) to the outside. The guiding member is mounted outside the substrate. The guiding member rotates the substrate holding unit(1) and the rotating cup(3) together. The guiding member guides the treatment liquid to the exhausting unit(8).

Abstract translation: 提供了一种用于处理液体的设备，以通过使用旋转杯与基底一起旋转来防止处理液体的雾飞散。 一种用于处理液体的设备包括：基板保持单元（1），旋转杯（3），旋转装置，液体供给装置，排气单元（8）和引导构件。 基板保持单元（1）水平地保持基板并与基板一起旋转。 旋转杯（3）封闭衬底并与衬底一起旋转。 旋转装置使旋转杯（3）和基板保持单元（1）完全旋转。 液体供给装置将处理液供给到基板的表面。 排气单元（8）将气体和液体从旋转小室（3）排出到外部。 引导构件安装在基板的外部。 引导构件将基板保持单元（1）和旋转杯（3）一起旋转。 引导构件将处理液引导到排气单元（8）。

公开(公告)号：KR1020070103310A

公开(公告)日：2007-10-23

申请号：KR1020070037375

申请日：2007-04-17

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 아키모토마사미 ,  도시마다카유키 ,  가네코사토시 ,  마츠모토가즈히사 ,  이토노리히로 ,  난바히로미츠

IPC: H01L21/304

CPC classification number: H01L21/67051 ,  H01L21/6715 ,  H01L21/68728

Abstract: A liquid treatment device is provided to suppress the bounding of mists in a processing liquid by using a rotating cup to rotate together with a substrate. A liquid treatment device includes a substrate holding portion(1), a rotating cup(3), a rotating tool, a liquid supply tool, and an exhaust and drain portion(6). The substrate holding portion(1) holds a substrate in a horizontal direction and is rotated according to a rotation of the substrate. The rotating cup(3) encloses the substrate and is rotated according to a rotation of the substrate. The rotating tool integrally rotates the rotating cup(3) and the substrate holding portion(1). The exhaust and drain portion(6) performs an exhaust and a drain of the rotating cup. The exhaust and drain portion(6) includes a drain cup for receiving a processing solution from the substrate and an exhaust cup for receiving and exhausting gas components.

Abstract translation: 提供一种液体处理装置，通过使用旋转杯与基底一起旋转来抑制加工液体中的雾的界限。 液体处理装置包括基板保持部分（1），旋转杯（3），旋转工具，液体供应工具以及排出和排出部分（6）。 基板保持部（1）在水平方向上保持基板，并且根据基板的旋转而旋转。 旋转杯（3）包围基底并且根据基底的旋转而旋转。 旋转工具一体地旋转旋转杯（3）和基板保持部（1）。 排气和排出部分（6）执行旋转杯的排气和排水。 排气和排出部分（6）包括用于从基板接收处理溶液的排水杯和用于接收和排出气体组分的排气杯。

公开(公告)号：KR100681807B1

公开(公告)日：2007-02-15

申请号：KR1020057012886

申请日：2004-12-16

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 도쿠노요시치카 ,  이토노리히로 ,  오리이다케히코 ,  나카모리미츠노리 ,  이이노다다시 ,  오노히로키 ,  사이토유스케

IPC: C01B13/11 ,  C01B13/10 ,  H01L21/302 ,  B01D47/05

CPC classification number: H01L21/68721 ,  B01D53/002 ,  B01D2257/106 ,  C01B13/10 ,  H01L21/6715 ,  H01L21/68742 ,  H01L21/68785

Abstract: 방전식 오존 발생기에 의해 생성된 O
3 가스에 수증기가 혼합된다. 혼합 유체는 냉각 수단에 의해 냉각되며, 이것에 의해 O
3 가스에 함유되어 있던 금속 및 질소 산화물 등의 불순물이 응축수 속에 융해된다. 계속해서, 기액 분리기에 의해 O
3 가스가 응축수로부터 분리된다. O
3 가스에 수증기가 재차 혼합된다. 혼합 유체는 금속 흡착재로서, 다수의 실리콘 칩을 수용한 용기로 이루어지는 금속 칩을 통과함으로써, 잔존 금속이 제거된다.

公开(公告)号：KR1020060024331A

公开(公告)日：2006-03-16

申请号：KR1020057012886

申请日：2004-12-16

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 도쿠노요시치카 ,  이토노리히로 ,  오리이다케히코 ,  나카모리미츠노리 ,  이이노다다시 ,  오노히로키 ,  사이토유스케

IPC: C01B13/11 ,  C01B13/10 ,  H01L21/302 ,  B01D47/05

CPC classification number: H01L21/68721 ,  B01D53/002 ,  B01D2257/106 ,  C01B13/10 ,  H01L21/6715 ,  H01L21/68742 ,  H01L21/68785

Abstract: Water vapor is mixed into an O3 gas generated by a discharge ozone generator. The mixed fluid is cooled by a cooling means, whereby impurities such as metals and nitrogen oxides contained in the O3 gas are dissolved into condensed water. Following that, the O3 gas is separated from the condensed water using a gas-liquid separator. Then, water vapor is mixed into the O 3 gas again. The resulting mixed fluid is passed through a metal trap composed of a container holding many silicon chips as a metal adsorbing material, whereby remaining metals are removed.

Abstract translation: 将水蒸汽混入由排放臭氧发生器产生的O 3气体中。 混合流体通过冷却装置冷却，由此O 3气体中所含的金属和氮氧化物等杂质溶解在冷凝水中。 之后，使用气液分离器将O 3气体与冷凝水分离。 然后再将水蒸气混入O 3气体中。 将所得混合流体通过由容纳许多硅芯片的容器组成的金属捕集器作为金属吸附材料，由此除去剩余的金属。