改进的匹配阻抗表面贴装技术基底面

    公开(公告)号:CN101112135B

    公开(公告)日:2010-12-29

    申请号:CN200580047301.9

    申请日:2005-11-28

    Applicant: FCI公司

    Abstract: 公开了用于定义在基板上的匹配阻抗表面贴装技术基底面的方法,基板是诸如印刷电路板之类的,例如,其适于容纳具有终端引线排列的电组件。这种基底面可以包括导电焊盘(P)的排列和导电过孔(V)的排列。过孔排列可以与焊盘排列不同。可以排列过孔(V)以增加布线密度,同时限制串扰,并在组件与基板之间提供匹配的阻抗。可以改变过孔排列,以在板的一层上实现预期的布线密度。增加布线密度可以减少板的层数,有助于减小电容,并从而增大阻抗。接地过孔(G)和信号过孔(S)可以以影响阻抗的方式来彼此相对地排列。因此,可以改变过孔排列,以得到与组件阻抗相匹配的阻抗。还可以改变过孔排列,以限制在相邻信号导体中的串扰。因此,可以定义过孔排列,以平衡系统的阻抗、串扰和布线密度要求。

    布线电路基板的制造方法
    98.
    发明公开

    公开(公告)号:CN101562946A

    公开(公告)日:2009-10-21

    申请号:CN200910132825.8

    申请日:2009-04-17

    Inventor: 竹村敬史

    Abstract: 一种布线电路基板的制造方法,包括:准备绝缘层的工序;将导体薄膜形成于绝缘层的上表面及侧端面的工序;用光致抗蚀膜覆盖形成于绝缘层的上表面及侧端面的导体薄膜的工序;配置光掩模,使其将形成于绝缘层的上表面的导体薄膜的形成端部及导体层的部分遮光,将覆盖形成于绝缘层的上表面的导体薄膜的光致抗蚀膜从上方通过光掩模曝光的工序;将覆盖形成于绝缘层的侧端面的导体薄膜的光致抗蚀膜从下方曝光的工序;去除光致抗蚀膜的未曝光部分,将曝光部分形成为图案,形成抗镀膜的工序;在从抗镀膜露出的导体薄膜上,在形成于绝缘层的上表面的导体薄膜的端部形成端部导体层,同时在形成于绝缘层的上表面的导体薄膜形成导体层的工序;去除抗镀膜的工序;以及去除被抗镀膜覆盖的导体薄膜的工序。

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