公开(公告)号：CN108428609A

公开(公告)日：2018-08-21

申请号：CN201810081984.9

申请日：2018-01-29

Applicant: 日本株式会社日立高新技术科学

Inventor： 川浪义实

IPC: H01J37/04 ,  H01J37/244 ,  H01J37/28

CPC classification number: H01J37/08 ,  H01J37/09 ,  H01J37/10 ,  H01J37/1471 ,  H01J37/1474 ,  H01J37/1478 ,  H01J37/20 ,  H01J37/244 ,  H01J37/28 ,  H01J2237/0455 ,  H01J2237/0807 ,  H01J2237/2448 ,  H01J2237/24528 ,  H01J2237/24542 ,  H01J37/04

Abstract: 本发明提供会聚离子束装置，其能够高精度地进行发射尖锥的末端的调整而不会使FIB光学系统的会聚特性、对准特性降低。该会聚离子束装置具有：真空容器；配置在所述真空容器内、末端被尖锐化的发射尖锥；气体电场电离离子源；会聚透镜；第一偏转器；第一光圈；物镜，其使通过所述第一偏转器后的所述离子束会聚；以及试样台，并且在至少具有会聚透镜、第一光圈、第一偏转器以及物镜的光学系统与试样台之间形成针对离子束在点状区域中发生反应的信号产生源，并以使从信号产生源输出的信号和由第一偏转器对离子束进行的扫描对应的方式生成发射尖锥的扫描电场离子显微镜像。

公开(公告)号：CN108231511A

公开(公告)日：2018-06-29

申请号：CN201810134652.2

申请日：2018-02-09

Applicant: 聚束科技(北京)有限公司

Inventor： 李帅 ,  何伟

IPC: H01J37/12 ,  H01J37/141 ,  H01J37/147 ,  H01J37/26 ,  H01J37/28 ,  G01N23/225

CPC classification number: H01J37/28 ,  G01N23/2251 ,  H01J37/12 ,  H01J37/141 ,  H01J37/1474 ,  H01J37/265

Abstract: 本发明公开了一种扫描电子显微镜物镜系统，包括：磁透镜、偏转装置、偏转控制电极、待测样品以及探测装置；其中，所述磁透镜的极靴方向朝向所述待测样品；所述偏转装置，位于所述磁透镜内部，包括至少一个子偏转器；所述偏转控制电极，位于所述探测装置与所述待测样品之间，用于改变作用于所述待测样品上的初始电子束的方向，以及改变所述初始电子束作用于所述待测样品产生的信号电子的方向；所述探测装置，包括用于接收所述信号电子中的背散射电子的第一子探测器，和用于接收所述信号电子中的二次电子的第二子探测器。本发明还公开了一种样品探测方法。

公开(公告)号：CN105280463B

公开(公告)日：2018-06-22

申请号：CN201510384825.2

申请日：2015-06-30

Applicant: FEI ,  公司

Inventor： P.波托塞克 ,  F.博格霍贝尔 ,  B.H.里奇 ,  M.兰格霍斯特

IPC: H01J37/22 ,  H01J37/28

CPC classification number: H01J37/244 ,  G02B21/002 ,  G02B21/008 ,  H01J37/222 ,  H01J37/28 ,  H01J37/285 ,  H01J2237/226

Abstract: 一种使用扫描类型显微镜积累标本的图像的方法，其中考虑在标本内的给定点pi，所述方法包括下面的步骤：在第一探查期中，采用第一射束配置B1以关联的第一点扩散函数F1照射点pi，由此所述射束配置不同于所述测量参数；在至少第二探查期中，采用第二射束配置B2以关联的第二点扩散函数F2照射点pi，由此：F2在点pi所在的公共交叠区Oi中部分地与F1交叠；F1和F2具有在Oi之外的各自的非交叠区F1’和F2’，在所述计算机处理设备中使用源分离算法在与所述非交叠区F1’和F2’分开地考虑的所述交叠区Oi中执行图像重构。

公开(公告)号：CN108027500A

公开(公告)日：2018-05-11

申请号：CN201680051258.1

申请日：2016-09-19

Applicant: 科磊股份有限公司

Inventor： D·马斯纳盖蒂 ,  M·麦科德 ,  R·西蒙斯 ,  R·克尼彭迈耶

IPC: G02B21/22 ,  G02B21/36 ,  G01N21/47

CPC classification number: H01J37/244 ,  H01J37/28 ,  H01J2237/24465 ,  H01J2237/2804

Abstract: 本发明揭示具有暗场成像能力的多射束扫描电子显微镜SEM检验系统。SEM检验系统可包含电子源及至少一个光学装置。所述至少一个光学装置可经配置以利用由所述电子源提供的电子而产生多个初级子射束且朝向目标递送所述多个初级子射束。设备还可包含检测器阵列，所述检测器阵列经配置以接收由所述目标响应于所述多个初级子射束而发射的多个图像子射束且产生所述目标的至少一个暗场图像。

公开(公告)号：CN104733271B

公开(公告)日：2018-01-23

申请号：CN201410785676.6

申请日：2014-12-18

Applicant: FEI ,  公司

Inventor： B.J.詹斯森 ,  I.拉兹 ,  G.范杜恩恩 ,  U.鲁伊肯 ,  R.D.萨瓦格 ,  S.H.L.范登布姆

IPC: H01J37/244

CPC classification number: H01J37/28 ,  H01J37/20 ,  H01J37/244 ,  H01J37/265 ,  H01J37/295 ,  H01J2237/12 ,  H01J2237/14 ,  H01J2237/226 ,  H01J2237/24507 ,  H01J2237/2614 ,  H01J2237/2802 ,  H01J2237/2806

Abstract: 本发明公开了调查带电粒子射束的波阵面的方法。调查从源通过发光器被引导以便穿过样本平面并且降落到检测器上的带电粒子射束的波阵面的方法，检测器的输出与数学重建技术结合使用以便在沿着到检测器的波阵面路径的预先定义的位置处针对波阵面计算相位信息和振幅信息中的至少一个，在该方法中：‑使所述射束穿过设置在所述样本平面和所述检测器之间的粒子光学透镜系统；‑在从所述源到所述检测器的路径中的所选择位置处，调制器用于局部地产生波阵面的给定调制；‑在一系列测量阶段中，采用不同的此类调制，并且在所述数学重建中共同地使用相关联的检测器输出。

公开(公告)号：CN106158567B

公开(公告)日：2017-12-15

申请号：CN201610517840.4

申请日：2013-03-15

Applicant: 株式会社日立高新技术

Inventor： 小西弥生 ,  佐藤贡 ,  高野昌树 ,  玉山尚太朗 ,  西村雅子 ,  渡边俊哉 ,  许斐麻美

IPC: H01J37/22 ,  H01J37/26 ,  H01J37/28

CPC classification number: H01J37/222 ,  H01J37/265 ,  H01J37/28 ,  H01J2237/2806

Abstract: 本发明提供一种荷电粒子束装置、试样观察系统。该荷电粒子束装置具备控制荷电粒子束装置的处理部，该荷电粒子束装置通过对试样照射一次电子束，取得与上述试样相关的信息，上述处理部使图像显示部显示表示当前的上述一次电子束的照射状态的图。

公开(公告)号：CN104685348B

公开(公告)日：2017-12-12

申请号：CN201380052272.X

申请日：2013-10-04

Applicant: FEI ,  公司

Inventor： S.H.李 ,  S.斯通 ,  J.布莱克伍德 ,  M.施米德特

IPC: G01N23/00 ,  B23K15/08 ,  G01B15/00

CPC classification number: H01J37/3053 ,  C23C14/46 ,  G01N1/32 ,  H01J37/28 ,  H01J37/3056 ,  H01J37/3178 ,  H01J2237/3174 ,  H01J2237/31745 ,  H01J2237/31749

Abstract: 通过减小保护层与感兴趣特征之间的距离来减小高纵横比特征上的帘幕化伪像。例如，离子束可以以与工件表面的一角度进行铣削以产生斜表面。向斜表面上沉积保护层，并且离子束通过保护层进行铣削以使感兴趣特征暴露以用于分析。斜铣削将保护层接近于感兴趣特征定位以减少帘幕化。

公开(公告)号：CN107437489A

公开(公告)日：2017-12-05

申请号：CN201611243428.4

申请日：2016-12-29

Applicant: FEI ,  公司

Inventor： J.米特彻斯 ,  R.沙姆佩斯 ,  M.赫劳泽克 ,  T.加德卡

IPC: H01J37/26

CPC classification number: H01J37/3405 ,  C23C14/35 ,  H01J37/06 ,  H01J37/08 ,  H01J37/18 ,  H01J37/20 ,  H01J37/26 ,  H01J37/28 ,  H01J37/285 ,  H01J37/32623 ,  H01J37/3464 ,  H01J2237/3137 ,  H01J2237/26

Abstract: 一种带电粒子显微镜，包括真空室，在该真空室中提供了：—样本保持器，其用于将样本保持在照射位置；—粒子光学柱，其用于产生带电粒子束并引导该带电粒子束从而照射该样本；—检测器，其用于响应于被所述射束照射来检测从样本发出的辐射通量，其中：—所述真空室包括原位磁控管溅射沉积模块，其包括用于产生目标材料的蒸气流的磁控管溅射源；—载台被配置成使包括所述样本的至少一部分的样品在所述照射位置与所述沉积模块处的单独沉积位置之间移动；—所述沉积模块被配置成当所述样品被保持在所述沉积位置处时将一层所述目标材料沉积到所述样品上。

公开(公告)号：CN107430971A

公开(公告)日：2017-12-01

申请号：CN201580074860.2

申请日：2015-12-03

Applicant: 松定精度株式会社

Inventor： 熊本和哉 ,  松田定好

IPC: H01J37/141 ,  H01J37/20 ,  H01J37/28

CPC classification number: H01J37/21 ,  H01J37/141 ,  H01J37/20 ,  H01J37/244 ,  H01J37/28

Abstract: 期望提升荷电粒子线装置的性能。一种荷电粒子线装置具备：荷电粒子源11；加速电源14，设置来加速从该荷电粒子源11射出的荷电粒子线12，并连接于该荷电粒子源11；及物镜透镜26，将该荷电粒子线12聚焦于试料23。物镜透镜26相对于试料23，设置于该荷电粒子线12的入射侧的相反侧；且形成该物镜透镜26的磁极具有：中心磁极26a，其中心轴与该荷电粒子线12的理想光轴一致；上部磁极26b；筒形的侧面磁极26c；及圆盘形状的下部磁极26d；其中，靠近于该中心磁极26a的试料23侧的上部中，该上部附近的径为较小的形状，该中心磁极26a的下部为圆柱形状；该上部磁极26b为中心形成圆形的开口部的磁极，且为于朝向中心的盘状的靠近该中心磁极的中心侧较薄的圆盘形状。

公开(公告)号：CN107230649A

公开(公告)日：2017-10-03

申请号：CN201710182754.7

申请日：2017-03-24

Applicant: 日本株式会社日立高新技术科学

Inventor： 满欣 ,  上本敦

IPC: H01L21/66 ,  H01J37/28

CPC classification number: H01J37/222 ,  G02B21/361 ,  H01J37/244 ,  H01J37/28 ,  H01J37/30 ,  H01J37/3178 ,  H01J2237/221 ,  H01J2237/226 ,  H01L22/12

Abstract: 本发明涉及剖面加工观察方法、剖面加工观察装置。在短时间内高精度地进行包含特定观察对象物的特定部位的加工，并且，迅速地生成特定观察对象物的高分辨率的三维立体像。具有：位置信息取得工序，使用光学显微镜或电子显微镜对观察对象的样品整体进行观察，取得所述样品所包含的特定观察对象物的在所述样品内的大概的三维位置坐标信息；剖面加工工序，基于所述三维位置坐标信息，朝向所述样品之中所述特定观察对象物所存在的特定部位照射聚焦离子束，使该特定部位的剖面露出；剖面像取得工序，向所述剖面照射电子束，取得包含所述特定观察对象物的规定的大小的区域的图像；以及立体像生成工序，以规定间隔沿着规定方向多次重复进行所述剖面加工工序和所述剖面像取得工序，根据所取得的多个所述剖面图像来构筑包含所述特定观察对象物的三维立体像。