ION SOURCE WITH SUBSTANTIALLY PLANAR DESIGN
    126.
    发明授权
    ION SOURCE WITH SUBSTANTIALLY PLANAR DESIGN 有权
    基本上平面结构离子源

    公开(公告)号:EP1825491B1

    公开(公告)日:2008-09-24

    申请号:EP05818170.2

    申请日:2005-11-07

    CPC classification number: H01J37/08 H01J3/04 H01J27/143

    Abstract: In certain example embodiments of this invention, there is provide an ion source including an anode (25) and a cathode (5). In certain example embodiments, the cathode does not overhang over the anode, or vice versa. Since no, or fewer, areas of overhang are provided between the anode and cathode, there is less undesirable build-up on the anode and/or cathode during operation of the ion source so that the source can run more efficiently. Moreover, in certain example embodiments, an insulator (35) such as a ceramic or the like is provided between the anode and cathode.

    カム作動のフィラメントクランプ
    129.
    发明专利

    公开(公告)号:JP2018529187A

    公开(公告)日:2018-10-04

    申请号:JP2018506979

    申请日:2016-07-29

    CPC classification number: H01J37/08 H01J3/04 H01J2237/061 H01J2237/31701

    Abstract: イオン源フィラメントクランプは、第1端部と第2端部とを有するクランプ部材を有する。第1端部は、カム面およびカム従動子のうち一方を有する。また、第1端部は第1部分と第2部分とを有しており、当該第1部分と当該第2部分とは互いに向かい合い、かつ溝によって隔てられている。当該溝は、イオン源フィラメントのリードを受け入れるように規定されたリード開口部を有する。アクチュエータピンは、アクチュエータピン軸に沿って伸び、かつ第1セクションと第2セクションとを有する。第1セクションは、クランプ部材の第1部分に連結される。アクチュエータピンは、クランプ部材の第2部分にある貫通孔を通って伸び、かつ貫通孔と摺動係合している。カム部材は、アクチュエータピンの第2セクションに動作可能に連結される。カム部材は、ハンドルと、カム面およびカム従動子のうち他方とを有し、クランプ位置とクランプ解除位置との間で回転するように構成される。カム従動子は、カム面と摺動して接触する。クランプ位置において、カム従動子は、第1の所定の様態でカム面と係合し、これにより、クランプ部材の第1部分と第2部分との間にばね張力を発生させながら、クランプ部材の第1部分および第2部分を互いに向かって選択的に押し付けて、リード開口部内のリードにクランプ圧を掛ける。クランプ解除位置において、カム従動子は、第2の所定の様態でカム面と係合し、ばね張力は、クランプ部材の第1部分および第2部分を互いから離れるように広げて、リード開口部内のリードに掛かるクランプ圧を緩める。

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